[发明专利]制造AlxGa(1-x)N单晶的方法、AlxGa(1-x)N单晶和光学透镜无效
申请号: | 200980125962.7 | 申请日: | 2009-06-25 |
公开(公告)号: | CN102084040A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 荒川聪;樱田隆;山本喜之;佐藤一成;谷崎圭祐;中幡英章;水原奈保;宫永伦正 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C30B29/38 | 分类号: | C30B29/38;C30B23/06;G02B1/02;G02B3/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陈海涛;樊卫民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种通过以升华法生长AlxGa(1-x)N单晶(10)来制造AlxGa(1-x)N单晶(10)(其中0<x≤1)的方法,所述方法包括准备衬底的步骤、准备高纯度原料的步骤和升华原料以在所述衬底上生长所述AlxGa(1-x)N单晶(10)的步骤。所述AlxGa(1-x)N单晶(10)对波长为250至300nm的光显示2.4以上的折射率,并且对波长超过300nm并且短于350nm的光显示2.3以上的折射率,每个折射率都是在300K下测定的。 | ||
搜索关键词: | 制造 al sub ga 方法 光学 透镜 | ||
【主权项】:
一种制造AlxGa(1‑x)N单晶(10)的方法,所述AlxGa(1‑x)N(0<x≤1)单晶(10,12)是通过升华法生长的,所述方法包括下述步骤:准备底部衬底(11),准备高纯度原料(17),以及通过升华所述原料(17)而在所述底部衬底(11)上生长所述AlxGa(1‑x)N单晶(10,12)。
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- 2015-06-25 - 2018-09-14 - C30B29/38
- 本发明提供一种氮化镓自立基板,由在大致法线方向具有单晶结构的板形成,所述板由多个氮化镓系单晶粒子构成。该氮化镓自立基板可以通过包含如下工序的方法制造:准备取向多晶烧结体,在取向多晶烧结体上形成包含氮化镓的晶种层,形成的晶种层的晶体取向与取向多晶烧结体的晶体取向基本一致,在晶种层上,形成厚度20μm以上的由氮化镓系结晶构成的层,形成的由氮化镓系结晶构成的层的晶体取向与晶种层的晶体取向基本一致,除去取向多晶烧结体,得到氮化镓自立基板。根据本发明,能够提供廉价且适合大面积化、作为氮化镓单晶基板的替代材料有用的氮化镓自立基板。
- 复合基板、其制造方法、13族元素氮化物构成的功能层的制造方法以及功能元件-201380001900.1
- 仓冈义孝;岩井真 - 日本碍子株式会社
- 2013-07-19 - 2018-09-14 - C30B29/38
- 一种复合基板10,包含蓝宝石基板1A、设置于蓝宝石基板表面的氮化镓晶体构成的晶种膜4、以及在该晶种膜4上结晶生长的厚度200μm以下的氮化镓晶体层7。蓝宝石基板1A与晶种膜4的界面设置有空隙5,该空隙比率为4.5~12.5%。
- 专利分类
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法