[发明专利]基板载台无效

申请号：	200810086288.3	申请日：	2008-03-25
公开（公告）号：	CN101545102A	公开（公告）日：	2009-09-30
发明（设计）人：	黄明鸿;叶公旭;杨正安;何建立	申请（专利权）人：	东捷科技股份有限公司
主分类号：	C23C16/54	分类号：	C23C16/54
代理公司：	中科专利商标代理有限责任公司	代理人：	周国城
地址：	台湾省***	国省代码：	中国台湾;71
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摘要：	本发明一种基板载台，包含有：一壳体以及至少一基板，该壳体设有一开口，该壳体内部设有一以上的电极板，该电极板的至少一侧上方设有至少一限位件，下方设有至少一滑动件；至少一基板可通过该开口，而置于该限位件与该滑动件之间且贴合于一该电极板的一侧。通过本发明的设计可以方便基板置于载台中，使动作流程更为简便，并可同时置入多片基板，不仅节省机具的空间，更减少制作成本及时间的耗费。
搜索关键词：	基板载台
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【主权项】：

1. 一种基板载台，其特征在于，包含有：一壳体，设有一开口，该壳体内部设有一以上的电极板，该电极板的至少一侧上方设有至少一限位件，下方设有至少一滑动件；至少一基板可通过该开口，而置于该限位件与该滑动件之间且贴合于一该电极板的一侧。

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摘要：本发明涉及一种左右对称式CVD系统，左放样腔体的右端部与连接管的左端部固定相连，连接管的右端部与右放样腔体的左端部固定相连，在连接管的外部设有左加热炉与右加热炉，在左放样腔体的左侧设有左滑块与左驱动器，左滑块由左驱动器驱动，在左滑块上固定有左送样杆，左送样杆伸入左放样腔体与连接管内，在右放样腔体右侧设有右滑块与右加热炉，右滑块由右加热炉驱动，在右滑块上固定有右送样杆，右送样杆伸入右放样腔体与连接管内。本发明具有结构简单、自动化程度高、工作效率高等优点；本发明实现了灵活进样。

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摘要：根据本公开，提供一种用于处理柔性基板的设备。此设备包括处理腔室、涂布滚筒(110)、一个或更多个沉积源以及快门装置(200)，所述涂布滚筒在处理腔室内并配置成支撑柔性基板，所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中，所述快门装置设置在处理腔室内并配置成在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔(300)。

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摘要：本文公开了一种用于卷对卷沉积的滚筒，其围绕纵轴旋转。滚筒的横向截面是圆形的并且具有如下的形状：相对的纵向边缘部分分别具有比纵向中央部分窄的宽度。通过使用根据本公开的实施例的用于卷对卷沉积的滚筒，可以在执行卷对卷沉积工艺时消除在柔性基板上发生的褶皱。因此，可以制造具有拥有优异的横向厚度均匀性的沉积层的膜卷。

半导体工艺设备-201821764898.X
发明人：黄启铭 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-10-29 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本实用新型提供了一种半导体工艺设备，在抽气管道上并联一段旁通管道，并在所述旁通管道中内置一气体限流器，通过气体限流器稳定抽气效率，从而改善动态压力不稳定的问题,减少及降低腔体内的动态压力变化,由此，能有效降低机台维护周期，提升设备机台产能利用率，同时降低因腔内压力动态变化而导致颗粒污染的问题，以避免产品良率下降。

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申请日： 2018-02-23 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： C23C16/54
摘要：一种化学气相沉积设备及相关联方法。化学气相沉积设备具有真空室及气体入口，气体入口具有气体入口轴线，工艺气体沿气体入口轴线被导入到真空室中，且气体入口配置在靠近真空室的上部区。至少一个排出口配置在靠近真空室的底部区。化学气相沉积设备还具有喷淋头，喷淋头配置在气体入口下方，具有贯穿喷淋头的多个孔，多个孔具有至少两种不同的直径或密度。喷淋头将工艺气体重新分布以形成具有不均匀的厚度的前体材料，其与后续化学机械抛光工艺的移除轮廓匹配。如此一来，在进行化学机械抛光工艺之后所形成的层的平面性得到改善。

一种镀膜系统-201821116044.0
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申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本申请涉及薄膜太阳能生产技术领域，具体涉及一种镀膜系统。本申请提供的镀膜系统，能够支持对基板镀多个不同种类的膜层，以得到性能更好的具有复合膜层的基板；与现有的镀膜系统相比，本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出，因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气，能够避免因膜层与空气接触氧化，导致膜层内产生杂质的问题发生，基板上的膜层质量更好；并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔，通过调温腔调整基板的温度，使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求，减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间，大大的提高了生产效率、提高产能。

用于施加表面涂层的装置和方法-201380062956.8
发明人： E.罗格;F.勒盖恩 -专利权人：欧洲等离子公司
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本发明提供用于在例如织物片上施加表面涂层的方法并且进一步提供用于将织物片用聚合物层涂布的等离子体腔室(10)，所述织物例如纺织品材料，等离子体腔室(10)包括在等离子体腔室内相继地排列的多个电极层(RF，M)，其中至少两个相邻的电极层为射频电极层(RF)或接地电极层(M)，从而在织物片的两侧上提供表面涂层。

薄膜形成装置-201580020201.0
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申请日： 2015-02-23 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本发明提供一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置通过抑制一个制膜腔室中的薄膜材料气体进入其他制膜腔室，能够抑制所形成的薄膜的膜质的下降。即，该薄膜形成装置通过在使带状基材沿着主辊的外周面的状态下对带状基材进行输送并进行表面处理，由此在带状基材上形成薄膜，该薄膜形成装置以下述方式构成：其具备收纳主辊的主辊腔室以及在主辊的外径侧周向排列的多个制膜腔室，在所述间隔部上设置有将带状基材所移动的主辊的外周面覆盖的主辊罩，在该主辊罩上形成有与所述制膜腔室连通的制膜腔室连通部，将由所述主辊罩和主辊的外周面形成的主辊罩内的压力设定成比所述制膜腔室的压力高。

一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置-201811027434.5
发明人：王小军;党文强;冯煜东;董茂进;何丹;李中华 -专利权人：无锡泓瑞航天科技有限公司
申请日： 2018-09-04 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本发明涉及一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，属于真空镀膜技术领域。所述装置包括：防护罩和绝缘垫，防护罩同轴套装在沉积辊的两端，且与沉积辊和基膜均不接触；防护罩为筒状结构，筒状罩体上开有两个用于基膜的卷入和卷出的穿膜开口，且穿膜开口与基膜不接触；防护罩的底部设有防护罩底座，防护罩底座固定在绝缘垫上，绝缘垫固定在真空室腔壁上。将沉积辊置于防护罩内部，并使基膜边缘通过穿膜开口狭缝穿入和穿出防护罩内部，可有效地抑制沉积气体在沉积辊两端的污染，提高良品率，延长清洁周期，提高生产效率，并可增加镀膜设备的膜材幅宽通用性。

托盘旋转机构及反应腔室-201820609663.7
发明人：周志文 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本实用新型提供的托盘旋转机构，其通过采用磁力传动，即，使第一磁芯组与第二磁芯组分别位于密封罩的内外两侧，并通过第二磁芯组旋转时产生的磁场与第一磁芯组产生的磁场相互作用来带动第一磁芯组旋转，从而带动旋转轴及托盘旋转。同时，通过采用磁力传动可以在旋转轴旋转时使密封罩固定不动，从而使用静密封即可实现密封罩与腔室的密封，进而不仅可以避免因动密封产生摩擦而导致的密封性能降低，还可以避免颗粒进入到腔室中使腔室内产生杂质。

腔室盖和真空腔室装置-201590001100.4
发明人：克里斯托夫·霍伊斯勒;约亨·克劳瑟;罗尼·博切尔 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2015-11-05 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： C23C16/54
摘要：一种真空腔室装置(1000)根据不同的实施例可以具有如下：多个真空腔室(1002a至1002e)；用于沿着运输方向穿过所述多个真空腔室(1002a至1002e)运输衬底(306)的运输系统(324)；其中，真空腔室(1002a至1002e)在运输方向上借助横向于运输方向延伸的真空腔室侧壁(104a，104b，1304a，1304b)彼此分开；其中每个真空腔室都具有腔室盖开口(104o)；多个腔室盖，其中每个腔室盖配设于一个腔室盖开口(104o)，用于真空密封地封闭相应的真空腔室；其中所述多个腔室盖的至少一个腔室盖(102)具有多个高真空泵连接开口(106a，106b，106c)，用于分别连接一个高真空泵；其中所述多个真空腔室(1002a至1002e)的至少一个真空腔室设定为气体分离腔室(100)并且具有：设置在所述气体分离腔室(100)中的气体分离结构(312)，所述气体分离结构限界气体分离通道(311)，其中所述气体分离结构(312)具有多个气体分离面元件(112，322，412)，所述气体分离面元件设置在所述气体分离腔室(100)中，使得其在运输方向上将至少三个区域(111a，111b，111c)彼此气体分离，其中所述至少三个区域(111a，111b，111c)中的中部区域(111c)穿过在所述气体分离结构(312)中的穿通开口(312c)与气体分离通道(311)连接，其中至少两个气体分离面元件(112，412)横向于运输方向延伸；其中所述运输系统(324)穿过气体分离通道(311)延伸，其中所述气体分离腔室(100)配设于具有多个高真空泵连接开口(106a，106b，106c)的腔室盖(102)。

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摘要：对强化纤维进行真空处理的装置，具备：能够将整体保持为减压状态的腔室；配置为使上述强化纤维在上述腔室中垂下的输送辊；在上述腔室内配置以使从上述输送辊垂下的上述强化纤维通过的处理机；配置为对通过上述处理机并铅垂地落下的上述强化纤维的前端进行捕获并定位的捕获装置；构成为对经过上述处理机处理的上述强化纤维进行卷绕的卷绕线轴；以及，与上述卷绕线轴同步地，从包围利用上述捕获装置进行了定位的上述前端的第1位置向与上述强化纤维相接而导向上述卷绕线轴的第2位置被拉取的可挠软线。

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摘要：一种连续式沉积装置，其包含：第一固持腔室，其包含第一固持组件，其设置于第一固持腔室内；第一泵浦，其与第一固持腔室连接，以调整第一固持腔室的压力；第二固持腔室，其包含第二固持组件，其设置于第二固持腔室内，其中卷材的两端分别固定于第一固持组件以及第二固持组件；第二泵浦，其与第二固持腔室连接，以调整第二固持腔室的压力；以及多个反应腔室，其彼此连接，其中上游侧的反应腔室与第一固持腔室连接，下游侧的反应腔室与第二固持腔室连接，使卷材连续地通过多个反应腔室，且多个反应腔室分别提供反应物沉积于该卷材上。同时提供一种连续式沉积方法。

基于PECVD的石墨烯薄膜镀膜设备及方法-201610514142.9
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摘要：本发明公开一种基于PECVD的石墨烯镀膜设备及方法，其设备包括直线式排列的多个真空室和柔性基材输送机构，柔性基材输送机构贯穿于多个真空室中；多个真空室包括依次连接的放卷室、多个镀膜室和收卷室，各镀膜室内分别设有射频对靶装置，多个镀膜室内的射频对靶装置组成一个等离子体增强化学气相沉积系统，任意相邻两个镀膜室之间设有隔气室，放卷室、收卷室、各镀膜室和各隔气室分别外接高真空排气系统。其方法是先对各真空室进行抽真空，直至真空度达到预定值；然后放卷室放出柔性基材并送入各镀膜室，采用PECVD法在柔性基材表面沉积石墨烯薄膜；最后送入收卷室进行收卷。本发明镀膜均匀，制得的柔性基材表面膜层纯度较高。

一种镀膜系统及镀膜工艺-201810768151.X
发明人：马峥;张风港;张津燕 -专利权人：君泰创新(北京)科技有限公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本申请涉及薄膜太阳能生产技术领域，具体涉及一种镀膜系统及镀膜工艺。本申请提供的镀膜系统，能够支持对基板镀多个不同种类的膜层，以得到性能更好的具有复合膜层的基板；与现有的镀膜系统相比，本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出，因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气，能够避免因膜层与空气接触氧化，导致膜层内产生杂质的问题发生，基板上的膜层质量更好；并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔，通过调温腔调整基板的温度，使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求，减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间，大大的提高了生产效率、提高产能。

立式周向循环连续式类金刚石涂层设备-201820034800.9
发明人：郎文昌 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本实用新型涉及一种立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、类金刚石涂层工艺子腔室及类金刚石涂层工艺组件、转架系统、腔室升降系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，类金刚石涂层工艺组件侧向安装于各类金刚石涂层工艺子腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外。转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将工件在进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室之间传递及镀膜，实现周向快速连续式类金刚石涂层制备。

真空处理系统和其方法-201680081594.0
发明人：尼尔·莫里森;于尔根·亨里奇;弗洛里安·里斯;托拜厄斯·斯托利;德烈亚斯·索尔;沃尔夫冈·布什贝克 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-02-12 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： C23C16/54
摘要：提供一种用于柔性基板的真空处理系统(100)。真空处理系统(100)包括：第一腔室(110)，适于容纳供应卷(111)以用于提供柔性基板；第二腔室(120)，适于容纳收紧卷(121)以用于在处理之后存储柔性基板(160)；基板运输布置，包括用于将柔性基板从第一腔室(110)引导到第二腔室(120)的一个或多个引导辊(104)；维护区(130)，在第一腔室(110)与第二腔室(120)之间，其中维护区(130)允许通向或属于第一腔室(110)和第二腔室(120)中的至少一个腔室的维护通道；和第一处理腔室(140)，用于处理柔性基板(10)。

一种纳米功能复合材料连续制备系统-201820019991.1
发明人：杨阳 -专利权人：山东广迪教育装备有限公司
申请日： 2018-01-06 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本实用新型涉及纳米功能复合材料制备装置，尤其是一种纳米功能复合材料连续制备系统。该纳米功能复合材料连续制备系统的水平石英管式炉一侧设有进料密封室，另一侧设有出料密封室，进料密封室和出料密封室内对称设置有第一伺服电机和第二伺服电机，第一伺服电机和第二伺服电机通过齿轮驱动石墨块履带和催化剂衬底传送轮实现同步传输，进料密封室和出料密封室内还对称设置有用于驱动催化剂衬底放卷辊进行放卷的第三伺服电机和用于驱动催化剂衬底收卷辊进行收卷的第四伺服电机，本实用新型的一种纳米功能复合材料连续制备系统极大得缩短设备升温、降温占用的实验时间，节约反应气体，提高实验效率，实现纳米功能复合材料连续化生产。

一种循环式石墨烯薄膜制备装置-201610479544.X
发明人：李占成;史浩飞;高翾;张永娜;黄德萍;姜浩;于本文 -专利权人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： C23C16/54
摘要：本发明涉及一种循环式石墨烯薄膜制备装置，包括高温工艺腔、低温冷却腔A、低温冷却腔B、样品舟A和样品舟B，沿所述低温冷却腔A、高温工艺腔和低温冷却腔B的底部内壁水平固定设置有滑轨，在所述滑轨上方、所述低温冷却腔A和低温冷却腔B内分别设有平板车，所述样品舟A和样品舟B置于对应的所述平板车上；低温冷却腔A和低温冷却腔B内分别设有结构一致的推舟装置A和推舟装置B，推舟装置A和推舟装置B上分别可拆卸的连接有取样杆A和取样杆B，取样杆A远离推舟装置A的一端可由推舟装置A带动连接或脱离样品舟A下方的平板车，取样杆B远离推舟装置B的一端可由推舟装置B带动连接或脱离样品舟B下方的平板车。有益效果是连续生产等。

专利分类

C 化学；冶金

C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的

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[发明专利]基板载台无效

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