专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于基于地标确定车辆位置的方法-CN202180025324.9在审
  • F·里斯;Y·杨;F·舒斯特;M·豪伊斯 - 梅赛德斯-奔驰集团股份公司
  • 2021-02-19 - 2022-11-11 - G01C21/16
  • 本发明涉及一种基于地标确定车辆位置的方法(1),其中,在一个方法部分(VA)中,基于在用传感器测得的传感器地标对象(SLM)与存储在数字地图中的地图地标对象(KLM)之间形成关联(A)来形成车辆位置的多个位置假设(PH),基于该位置假设(PH)的概率过滤,作为定位结果(LE)确定最可能的车辆位置,并且确定在此不超过预定误差上限的保证位置范围(PL)。根据本发明,该方法部分(VA)以不同的概率过滤设计被执行多次,其中,如果该保证位置范围(PL1、PL2、PL3)成对地完全重叠,则具有最小保证位置范围(PL1、PL2、PL3)的定位结果(LE1、LE2、LE3)被选为车辆位置(eFP)。
  • 用于基于地标确定车辆位置方法
  • [发明专利]真空处理系统以及用于装配处理系统的方法-CN201480077772.3有效
  • F·里斯;S·海因;J·亨里奇;A·索尔 - 应用材料公司
  • 2014-04-02 - 2021-01-26 - C23C14/52
  • 提供了一种用于柔性基板(260;560)的真空处理系统(100)。所述真空处理系统包括:第一腔室(110),适用于容纳供应辊和收卷辊中的一者,所述供应辊用于提供柔性基板,所述收卷辊用于储存柔性基板(260;560);第二腔室(120),适用于容纳供应辊和收卷辊中的一者,所述供应辊用于提供柔性基板,所述收卷辊用于储存柔性基板(260;560);维护区(130;330;430),在所述第一腔室(110)与所述第二腔室(120;220;420;520)之间;以及第一工艺腔室(140),用于在柔性基板上沉积材料,其中所述第二腔室(120)设在所述维护区(130)与所述第一工艺腔室(140)之间。所述维护区(130)允许对所述第一腔室(110)和所述第二腔室(120)中的至少一者的维护接取。
  • 真空处理系统以及用于装配方法
  • [发明专利]公共沉积平台、处理站及其操作方法-CN201480006962.6有效
  • N·莫里森;J·M·迭戈兹-坎波;H·兰格拉夫;T·斯托利;S·海恩;F·里斯;W·布施贝克 - 应用材料公司
  • 2014-01-22 - 2019-09-24 - C23C16/455
  • 描述了一种沉积薄膜于基板上的设备。设备包括基板支撑件,具有外表面,引导基板沿基板支撑件的表面通过第一真空处理区域及至少一第二真空处理区域;对应第一处理区域的第一沉积源与对应该至少一第二真空处理区域的至少一第二沉积源,其中至少第一沉积源包括电极,具有表面,其中电极的表面相对基板支撑件的表面;处理气体入口及处理气体出口,其中处理气体入口及处理气体出口配置于电极的表面的数个相对侧;及至少一分离气体入口,具有一或数个分离气体入口开口,其中该一或数个分离气体入口开口至少提供于电极的表面的该些相对侧之一,使得处理气体入口及/或处理气体出口提供于该一或数个分离气体入口开口及电极的表面间。设备更包括一或数个真空法兰,提供至少一其它的气体出口于第一沉积源及该至少一第二沉积源间。
  • 公共沉积平台处理及其操作方法
  • [实用新型]用于涂覆可移动基板的沉积源和沉积设备-CN201620739121.2有效
  • F·里斯;T·高尔 - 应用材料公司
  • 2016-07-14 - 2017-05-24 - C23C14/22
  • 本实用新型描述了用于涂覆可移动基板(20)的沉积源(100、200、300、400)和沉积设备(500)。所述沉积源包括源外壳(120),通过可以在沉积期间移动基板(20)经过工艺腔室的敞开的前侧的方式而固定到所述工艺腔室;气体入口(130),用于将工艺气体引入到所述源外壳的涂覆处理区域(125)中;以及抽空出口(140),用于将所述工艺气体从所述源外壳的泵送区域去除。抽空分割单元(150)布置在所述涂覆处理区域(125)与所述泵送区域(126)之间,所述抽空分割单元具有至少一个开口或具有多个开口(152),所述至少一个开口或多个开口界定从所述涂覆处理区域(125)到所述泵送区域(126)中的工艺气流路径(155)。
  • 用于涂覆可移动沉积设备
  • [发明专利]用于柔性基板的沉积平台及其操作方法-CN201480029903.0在审
  • J·M·迭戈兹-坎波;H·兰德格拉夫;T·斯托利;S·海因;F·里斯;N·莫里森 - 应用材料公司
  • 2014-03-25 - 2016-01-13 - C23C16/54
  • 描述一种用于处理柔性基板的设备。所述设备包括:真空腔室,所述真空腔室具有第一腔室部分、第二腔室部分以及第三腔室部分;退绕轴和缠绕轴,所述退绕轴用于支撑待处理的所述柔性基板,所述缠绕轴支撑具有薄膜沉积在其上的柔性基板,其中所述退绕轴和所述缠绕轴被布置在所述第一腔室部分中;至少一个间隙闸门,用于使所述第一腔室部分与所述第二腔室部分分离,其中所述间隙闸门被配置成使得所述柔性基板可从其中移动通过并且所述间隙闸门可打开和关闭以便提供真空密封;涂布滚筒,所述涂布滚筒具有旋转轴和弯曲的外表面,用于沿着所述弯曲的外表面引导所述基板通过第一真空处理区域以及至少一个第二真空处理区域,其中所述涂布滚筒的第一部分被设置在所述第二腔室部分中,并且所述涂布滚筒的剩余部分被设置在所述第三腔室部分中;对应于所述第一处理区域的第一处理站以及对应于所述至少一个第二真空处理区域的至少一个第二处理站,其中所述第一处理站和所述第二处理站各自包括用于提供真空连接的凸缘部分。另外,所述第三腔室部分具有凸形腔室壁部分,其中所述第三腔室部分具有设置在其中的至少两个开口,具体来说,其中所述至少两个开口基本上平行于所述凸形腔室壁部分;并且其中所述第一处理站和所述至少一个第二处理站被配置成接收在所述至少两个开口中,其中所述第一处理站和所述第二处理站的所述凸缘部分提供与所述第三腔室的真空密封连接。
  • 用于柔性沉积平台及其操作方法

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