[发明专利]化学气相沉积成膜用组合物及生产低介电常数膜的方法

摘要

本发明提供一种包含由化学式1表示的环硼氮烷化合物的化学气相沉积成膜用组合物，其满足以下至少一个条件：所述组合物中各种卤素原子的含量为100ppb以下的条件，或所述组合物中各种金属元素的含量为100ppb以下的条件。在化学式1中，R¹可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R²可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。通过使用该组合物，可改进由含环硼氮烷环的化合物生产的薄膜的物理性质如低介电常数性和机械强度。

主权项

1. 一种化学气相沉积成膜用组合物，其包括由化学式1表示的环硼氮烷化合物，在该组合物中的各种卤素的含量为100ppb以下；[化学式1]其中，R¹独立地表示氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R²独立地表示氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。