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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]成膜装置、成膜用托盘、成膜方法、成膜用托盘的制造方法-CN201710764134.4有效
发明人：西山隆司;中山孝 -专利权人：胜高股份有限公司
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置、成膜用托盘、成膜方法、成膜用托盘的制造方法。目的是实现制造成本的削减和成品率的提高。一种成膜装置，在多个成膜用托盘（1）上搭载硅晶片（5）而在成膜输送路（11A）上输送，具有成膜用加热器（13b）、喷吹原料气体的多个喷气头（13A、13B、13C）、和使成膜后的成膜用托盘循环的循环机构（15）；成膜用托盘由托盘主体（2）和架设在托盘主体上的支承圈（3）构成；支承圈的载置部（3c）的载置部下表面（3d）从托盘主体的面（2a）分离，并且托盘主体由粉体烧结陶瓷构成，支承圈被从气相成长的大块的陶瓷切出
装置成膜用托盘方法制造

[实用新型]成膜装置、成膜用托盘-CN201721099765.0有效
发明人：西山隆司;中山孝 -专利权人：胜高股份有限公司
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型涉及成膜装置、成膜用托盘。目的是实现制造成本的削减和成品率的提高。一种成膜装置，在多个成膜用托盘（1）上搭载硅晶片（5）而在成膜输送路（11A）上输送，具有成膜用加热器（13b）、喷吹原料气体的多个喷气头（13A、13B、13C）、和使成膜后的成膜用托盘循环的循环机构（15）；成膜用托盘由托盘主体（2）和架设在托盘主体上的支承圈（3）构成；支承圈的载置部（3c）的载置部下表面（3d）从托盘主体的面（2a）分离，并且托盘主体由粉体烧结陶瓷构成，支承圈被从气相成长的大块的陶瓷切出
成膜托盘托盘主体成膜装置支承圈陶瓷本实用新型加热器部下表面粉体烧结循环机构原料气体制造成本成品率硅晶片喷气头输送路载置部大块喷吹切出载置架设削减

[发明专利]成膜方法、成膜用掩模和成膜装置-CN200580050206.4无效
发明人：渡部将弘 -专利权人：富士通日立等离子显示器股份有限公司
申请日： 2005-08-26 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法，其为将物体(111)的表面部分地掩蔽，利用化学气相沉积法在作为上述表面的露出部分的成膜面(S1)上形成膜的方法，在反应室(310)内成膜时，利用内部具有通气路(75)并且具有与上述通气路(75)和外面相通的通气孔(76)的掩模(71)，进行物体(111)的掩蔽，通过使用掩模(71)内的通气路(75)对供给至由掩模(71)覆盖的非成膜面的原料气体进行排气或稀释，对反应室内的原料物质的浓度分布进行控制，使得在成膜面(S1)内成膜速度均匀。
方法成膜用掩模装置

[发明专利]成膜用掩模及成膜装置-CN201780025519.7有效
发明人：藤井严;江藤谦次;阿部洋一;神保洋介 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-04-24 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本发明的一个方式涉及的成膜用掩模具有一对第一板部和一对第二板部。上述一对第一板部具有一对第一内周缘部和一对第一外周缘部。
成膜用掩模装置

[发明专利]成膜用旋转模头、成膜设备及成膜方法-CN202010818966.1在审
发明人：贾奎;刘志海;杨胜贤;陈振;文元庆 -专利权人：上海联净电子科技有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： B29C48/33 文献下载
摘要：本发明提供了一种成膜用旋转模头、成膜设备及成膜方法，所述成膜用旋转模头包括一环形挤出管路，沿进料至挤出的第一轴向依次设有进料口区域和可相对于所述进料口区域旋转的挤出口区域，所述挤出口区域的局部所述环形挤出管路的内壁与外壁沿所述第一轴向进行反向旋转
成膜用旋转设备方法

[发明专利]成膜装置用部件及具备成膜装置用部件的成膜装置-CN202010447387.0有效
发明人：门脇豊;吉田敏伸;赤瀬仁荣;高山孝信 -专利权人：日本爱发科泰克能株式会社
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置用部件及具备成膜装置用部件的成膜装置。本发明的成膜装置用部件具有：暴露于成膜气氛的表面；和喷涂膜，形成于所述表面，且由Al或Al合金或者Cu或Cu合金构成。所述喷涂膜的表面粗糙度Ra[μm]在50～70的范围内。
装置部件具备

[发明专利]成膜用掩模夹具以及成膜装置-CN202110740677.9在审
发明人：佐佐田学 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的成膜用掩模夹具(270)具备：收容部(273)，收容被成膜物；掩模部(274)，在成膜时位于被成膜物的下方，用于防止被成膜物向非成膜区域的成膜；以及掉落抑制构件(275)，在未设置掩模部(274)的开口部中，设置于在被成膜物被收容于收容部(273)的状态下不与被成膜物接触的位置，用于抑制被成膜物的掉落。由此，能够抑制向开口部的被成膜物的掉落。
成膜用掩模夹具以及装置

[发明专利]成膜用粉末以及成膜用材料-CN201680004418.7有效
发明人：佐藤龙一;深川直树;重吉勇二;松仓贤人 -专利权人：日本钇股份有限公司
申请日： 2016-02-02 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： C23C4/04 文献下载
摘要：本发明的成膜用粉末是含有稀土类元素的氧氟化物Ln‑O‑F的成膜用粉末，其中，粉末的平均粒径D₅₀为0.1μm以上且10μm以下，利用汞压入法测定的直径为10μm以下的细孔的容积为0.1cm
成膜用粉末以及用材

[实用新型]成膜用基板以及旋转成膜装置-CN201821213152.X有效
发明人：北原道隆 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种成膜用基板以及旋转成膜装置。在所述成膜用基板的成膜面侧的表面与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板的所述成膜面侧的表面垂直的旋转轴旋转，从而在所述成膜用基板上形成膜，所述成膜用基板的特征在于，所述成膜用基板的所述成膜面侧的一部分表面为粗糙面部根据该实用新型，能够利用粗糙面部提高成膜用基板与掩模之间的摩擦阻力，从而可以抑制在旋转成膜时成膜用基板与掩模之间的相对滑动。
成膜基板掩模成膜面成膜装置粗糙面部本实用新型表面垂直摩擦阻力相对滑动旋转轴贴合

[发明专利]成膜用涂布液及其膜以及成膜方法-CN200610095620.3有效
发明人：谷好浩;元山贤一 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2006-06-16 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：提供了一种成膜用涂布液，该涂布液可以通过最高70℃的低温热处理充分固化形成具有优良耐磨性的固化膜，该涂布液具有优良的贮存稳定性，还提供了由成膜用涂布液制得的膜，以及成膜的方法。一种成膜用涂布液，该涂布液包含式(1)的硅化合物作为主要组分缩聚制得的聚硅氧烷(A)，以及式(2)的化合物(B)。
成膜用涂布液及其以及方法

[发明专利]成膜装置及成膜装置用传送托盘-CN201310263451.X无效
发明人：饭尾逸史 -专利权人：住友重机械工业株式会社
申请日： 2013-06-27 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置及成膜装置用传送托盘，其能够实现驱动机构的简单化，并且降低粒子附着于基板的风险，抑制成膜基板的品质下降。所述成膜装置（100）具有传送装置（10），且该传送装置具备对基板（101）进行传送的多个传送辊（11），由此设为简单的结构。而且，将传送辊（11）配置于基板（101）的下端侧。
装置传送托盘

[实用新型]成膜用旋转模头以及成膜设备-CN202021705748.9有效
发明人：贾奎;刘志海;杨胜贤;陈振;文元庆 -专利权人：上海联净电子科技有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： B29C48/33 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种成膜用旋转模头以及成膜设备，所述成膜用旋转模头包括一环形挤出管路，沿进料至挤出的第一轴向依次设有进料口区域和可相对于所述进料口区域旋转的挤出口区域，所述挤出口区域的局部所述环形挤出管路的内壁与外壁沿所述第一轴向进行反向旋转
成膜用旋转以及设备

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201110339521.6无效
发明人：中川善之;中野真吾;福田直人 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-11-01 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法。成膜装置(1)包括成膜源(21)、测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)。当在成膜对象物(30)上形成成膜材料的薄膜时，在成膜源(21)内加热成膜材料以释放出该成膜材料的蒸气。测量用石英振荡器(22)测量形成在成膜对象物(30)上的成膜材料量，而校正用石英振荡器(23)校正测量用石英振荡器(22)。在成膜装置(1)中，还设置用于相对于成膜对象物在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20))，该移动部保持测量用石英振荡器(22)，以维持其相对于成膜源(21)的相对位置，且当移动部处于成膜待机位置时，校正用石英振荡器(23)设在移动部的上方。
装置方法

[发明专利]成膜装置-CN201110339499.5无效
发明人：中川善之;中野真吾;福田直人 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-11-01 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供一种可在成膜对象物上精确地形成均一膜的成膜装置。成膜装置(1)包括成膜源(21)、测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)。当在成膜对象物(30)上形成成膜材料的薄膜时，在成膜源(21)内加热成膜材料以释放出该成膜材料的蒸气。测量用石英振荡器(22)测量形成在成膜对象物(30)上的成膜材料量(形成在其上的薄膜厚度)，而校正用石英振荡器(23)校正测量用石英振荡器(22)。成膜装置(1)中，还提供用于相对于成膜对象物在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20))，以及用于控制测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)的温度至基本相同的温度控制部
装置

[发明专利]合金熔射膜以及成膜装置-CN202011627743.3有效
发明人：门胁豊;吉田敏伸;赤濑仁荣 -专利权人：日本爱发科泰克能株式会社
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：提供一种合金熔射膜以及成膜装置，该合金熔射膜可进一步抑制从成膜处理用部件的剥离，该成膜装置具有该合金熔射膜。例如，提供一种熔射膜，用于成膜装置，该成膜装置具有：成膜源；基板支撑部，与上述成膜源相向；成膜处理用部件，包围上述成膜源与上述基板支撑部之间的成膜处理环境气体或者上述成膜源；以及真空容器，容纳上述成膜源、上述基板支撑部以及上述成膜处理用部件；朝向上述成膜处理环境气体设置有合金熔射膜，该合金熔射膜具有铝和第一元素，该第一元素为钪及铪中的至少一种元素。
合金熔射膜以及装置

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