专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果82个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]高电子迁移率晶体管及制备方法-CN202310525551.9在审
  • 黄汇钦 - 天狼芯半导体(成都)有限公司
  • 2023-05-10 - 2023-08-29 - H01L21/335
  • 本发明公开了一种高电子迁移率晶体管及制备方法,其中,制备方法包括:在预制器件的沟道层上方生成第一预设厚度的第一势垒层;所述预制器件包括衬底和设置在所述衬底一侧的所述沟道层;根据目标晶体管的预设器件参数确定目标栅极凹陷在所述第一势垒层的位置信息;在所述第一势垒层的所述位置信息对应的区域上沉积第二预设厚度的光刻胶;在沉积所述光刻胶后,在所述第一势垒层上方依次生成第三预设厚度的第二势垒层和第四预设厚度的氧化层;清除所述光刻胶,得到具有栅极凹陷的多层结构。上述制备方法能够提高晶体管中栅极凹陷的准确度,从而使晶体管的均匀性与电性良率大大提升。
  • 电子迁移率晶体管制备方法
  • [发明专利]一种短路耐量高的碳化硅器件及其制备方法-CN202310287239.0在审
  • 刘涛;黄汇钦 - 天狼芯半导体(成都)有限公司
  • 2023-03-22 - 2023-08-15 - H01L29/06
  • 本发明涉及一种短路耐量高的碳化硅器件及其制备方法,短路耐量高的碳化硅器件包括衬底层、漂移层、基极层、源极区域、接触区域、沟槽、栅极氧化层、绝缘膜层、栅极电极、源极电极和漏极电极,衬底层、漂移层、源极区域由碳化硅掺杂第一导电类型杂质形成,基极层和接触区域由碳化硅掺杂第二导电类型杂质形成,在源极区域内形成简并半导体,碳化硅掺杂第一导电类型杂质形成,杂质的掺杂浓度高于源极区域,简并半导体的电阻率与温度呈正相关。在传统的碳化硅器件的基础上,在源极区域插入简并半导体,由于简并半导体的电阻率与温度呈正相关,当器件发生短路时,温度升高使得简并半导体电阻增大,从而减小了短路时的电流,能有效防止器件损坏。
  • 一种短路耐量高碳化硅器件及其制备方法
  • [发明专利]一种晶圆结构-CN202310484939.9在审
  • 黄汇钦 - 天狼芯半导体(成都)有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-08-08 - H01L23/544
  • 本申请公开了一种晶圆结构。该晶圆结构包括:晶圆主体,设有切割道,并包括由所述切割道界定的多个半导体器件,所述半导体器件包括三个电极部,所述三个电极部至少为两种不同的电极类型;导电层,形成于所述晶圆主体上,包括多个与所述半导体器件对应设置的导电盘和与多个所述导电盘连接的导电线,所述导电线设置于所述切割道,所述导电盘包括三个导电部,所述导电部与所述电极部对应设置且电连接,与同一电极类型的所述电极部对应的所述导电部采用同一所述导电线连接。通过上述方式,本申请提供的晶圆结构能够显著地降低半导体器件进行早期失效筛选的成本并提高筛选效率。
  • 一种结构
  • [发明专利]一种碳化硅MOSFET管短路检测电路及装置-CN202310289332.5在审
  • 陈涛;黄汇钦 - 天狼芯半导体(成都)有限公司
  • 2023-03-23 - 2023-07-18 - G01R31/52
  • 本发明涉及一种碳化硅MOSFET管短路检测电路及装置,其中所述检测电路包括:碳化硅MOSFET管;第一类短路检测单元,所述第一类短路检测单元与所述碳化硅MOSFET管的第一电极连接,用于基于漏极电流输出第一故障信号;第二类短路检测单元,所述第二类短路检测单元与所述碳化硅MOSFET管的栅极连接,用于基于栅极电压输出第二故障信号;和逻辑信号处理单元,根据所述第一故障信号和所述第二故障信号输出控制信号,控制所述碳化硅MOSFET管关断。本发明采用栅检测和电流检测结合的方法,不需要采用积分电路,检测速度快,可以囊括多种短路的模式,从而保证检测结果更准确。
  • 一种碳化硅mosfet短路检测电路装置
  • [发明专利]一种四通道鳍型的垂直碳化硅器件及其制备方法-CN202310289500.0在审
  • 刘涛;黄汇钦 - 天狼芯半导体(成都)有限公司
  • 2023-03-23 - 2023-07-11 - H01L29/06
  • 本发明涉及一种四通道鳍型的垂直碳化硅器件及其制备方法,四通道鳍型的垂直碳化硅器件包括,N型衬底层、N型掺杂漂移层、鳍型硅墙、P型屏蔽区、栅氧化层、多晶硅栅层、漏极、栅极和源极,其中鳍型硅墙设有两个,两个鳍型硅墙间隔且平行成型在所述漂移层的上表面,鳍型硅墙包括N型掺杂缓冲层、P阱层、N+区域和P+区域,P阱层位于所述漂移层的延伸部的上表面,P阱层的上表面设有源区,源区包括两个N+区域和一个P+区域,P+区域设置在两个N+区域之间。增加器件的电流通道数量,电流通道由双通道增加至四通道,提高器件的功率,并且能很好保护栅结构,同时也能够很好的保护集成SBD二极管,提高器件的反向性能。
  • 一种通道垂直碳化硅器件及其制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top