“远藤真一”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果24个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]障碍物避让控制装置、车辆、障碍物避让控制方法及障碍物避让控制程序-CN202080024151.4在审
发明人： 远藤真一 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2020-02-21 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B60W30/095 文献下载
摘要：提供能够提高车辆避让障碍物时的乘员的乘坐舒适性的障碍物避让控制装置、车辆、障碍物避让控制方法及障碍物避让控制程序。障碍物避让控制装置(100)是在如下情况下计算用于避让障碍物的避让路径，并使车辆(1)基于避让路径而行驶的装置，该情况为，在正在基于预先设定的设定路径而行驶的车辆(1)的行进方向的前方检测到需要避让的障碍物的情况。该障碍物避让控制装置具有：检测部(10)，其检测障碍物存在的方向；以及控制部(50)，其在避让路径被计算之前执行如下的偏移控制，即，使设定路径向朝向车辆(1)的行进方向且从障碍物存在的方向离开的方向偏移规定距离，并使车辆(1)基于偏移后的路径行驶的控制。
障碍物避让控制装置车辆方法控制程序

[发明专利]布线基板的制造方法、布线基板以及布线基板制造装置-CN201680035483.6有效
发明人：羽生智行;远藤真一;生井昌仁;飨庭彰;铃木浩子;堀部大辉;丸山俊 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： H05K3/42 文献下载
摘要：在确保晶种层与绝缘层的紧贴性的同时实现布线图案的细微化。作为布线基板的制造工序，包括：对在导电层上层叠绝缘层而成的布线基板材料，形成贯通绝缘层的贯通孔的第一工序；在第一工序后，通过对布线基板材料照射波长220nm以下的紫外线，从而进行该布线基板材料的除污处理的第二工序；在第二工序后，在贯通孔内以及绝缘层上，使材料粒子碰撞而附着从而形成晶种层的第三工序；以及在晶种层上，通过电解镀形成由导电材料构成的电镀层的第四工序。
布线制造方法以及装置

[发明专利]除胶渣处理装置-CN201580003124.8有效
发明人：竹添法隆;远藤真一;羽生智行 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2015-01-19 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： H05K3/26 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种即使排列配置的多个紫外线灯(21)的相互邻接的紫外线灯(21)的间距(P)大，也能够以高处理效率均匀地处理布线基板材料(1)的除胶渣处理装置(10)。本发明的除胶渣处理装置的特征在于，具备：多个紫外线灯(21)，沿布线基板材料(1)被处理面(1a)排列配置；板状的光透射性窗部件(31)；以及处理用气体供给机构，布线基板材料(1)被配置在处理用气体供给机构的气体供给口(15a)与气体排出口(16a)之间的位置，在形成于布线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中，处理用气体沿多个紫外线灯(21)排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。
处理装置

[发明专利]布线基板的制造方法及布线基板-CN201780014239.6在审
发明人：羽生智行;远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： H05K3/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种布线基板的制造方法，其在不将绝缘层表面粗糙化的情况下适当地进行去胶渣处理。布线基板的制造工序包括：光照射工序，其中，对在导电层(11)上层叠绝缘层(12)、在该绝缘层(12)上形成保护层(13)、且形成有贯通绝缘层(12)及保护层(13)的贯通孔(导通孔)(12a)的布线基板材料，在包含氧的气氛中照射紫外线；和镀覆工序，其中，对于保护层(13)从上述布线基板材料剥离后的布线基板材料，在包含贯通孔(12a)的底的表面形成由导电材料形成的镀层(14)。
绝缘层布线基板材料布线基板保护层贯通孔绝缘层表面表面形成导电材料镀覆工序制造工序布线基粗糙化导电层导通孔光照射去胶渣紫外线镀层制造照射剥离贯通上层

[发明专利]除渣处理方法及除渣处理装置-CN201380064293.3在审
发明人：广濑贤一;堀部大辉;羽生智行;远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2013-12-26 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： H05K3/26 文献下载
摘要：提供一种不论是起因于无机物质及有机物质的哪种的残渣都能够可靠地除去、不需要使用需要废液处理的除渣处理方法及除渣处理装置。本发明的除渣处理方法是层叠有由含有填料的树脂构成的绝缘层和导电层的配线基板材料的除渣处理方法，其特征在于，具有：紫外线照射处理工序，对上述配线基板材料照射波长220nm以下的紫外线；以及物理性振动处理工序，对经过了该紫外线照射处理工序的配线基板材料施加物理性振动。
处理方法装置

[发明专利]液晶面板处理用水槽及光处理装置-CN201310065061.1无效
发明人： 远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2013-03-01 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：提供一种液晶面板处理用水槽及光处理装置，将含树脂液晶面板配置在水中，并向上述液晶面板照射光，使将液晶面板浸渍在水中的作业简化，不使水槽内的液体起波动，不使气泡残留在液晶面板表面，且使光源灯的构造简化。特征在于，具备在上述水槽内垂直配置上述液晶面板的面板保持件，在上述水槽的侧壁，在与上述液晶面板的被照射面对置的位置，设置有照射光透射窗，进而，特征在与，与上述照射光透射窗对置地设置有光源。
液晶面板处理水槽装置

[发明专利]光照射装置-CN201210067052.1有效
发明人： 远藤真一;山森贤治;石原肇;川口真孝 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2012-03-14 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：提供一种光照射装置，可防止或抑制附着于被照射物的有机物等的污染物与大气中所包含的污染物质的反应生成物附着于被照射物，所以能够可靠完成所需要的光清洗处理。其特征为，具备：准分子灯；灯罩，以包围该准分子灯的方式设置，具有将来自该准分子灯的光向外部射出的开口和将内部的气体排出的气体排出口；以及气体排出机构，将大气从该灯罩的开口向该灯罩的内部导入，并从该灯罩的气体排出口排出；在上述准分子灯上设置有光遮蔽单元，该光遮蔽单元以该准分子灯的放射光不照射到上述灯罩内的形成气体流通路径的壁面的方式遮蔽该放射光。
照射装置

[发明专利]紫外线照射装置-CN201110073302.8有效
发明人：竹添法隆;佐藤伸吾;远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2011-03-25 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供一种能够进行被处理对象物的光照射面内紫外线照度的面内均匀性高，而且被处理对象物的温度上升少、被处理对象物的光照射面内温度的面内均匀性高的紫外线照射处理的紫外线照射装置。该紫外线照射装置在包含光反应性物质的液晶面板的制造工序中使用，具备由多个光源元件与作为被处理对象物的液晶面板材料相对地并列排列构成的光源单元、以及向上述光源元件的每一个中的外套管的内部供给冷却风的冷却机构，所述多个光源元件的每一个由放射在300nm～400nm的波长上具有发光峰值的光的长条状的灯、以及在内部穿插有该灯的状态下设置的具有光透射性的长条状的外套管构成。
紫外线照射装置

[发明专利]荧光灯-CN201010157414.7无效
发明人：田川幸治;广濑贤一;竹添法隆;远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： H01J61/35 文献下载
摘要：提供一种发光管使用石英玻璃的荧光灯，且紫外线的放射特性高。本发明提供一种荧光灯，具有石英玻璃制发光管的紫外线放射型的荧光灯，其特征为具有：在上述发光管的光照射方向的背面侧、形成在放电空间侧表面的由软化点比石英玻璃低的物质构成的玻璃层；形成在该玻璃层的放电空间侧的表面的荧光体层；及形成在玻璃层与发光管之间的紫外线反射体。
荧光灯

[发明专利]准分子灯-CN201010202828.7有效
发明人： 远藤真一;竹添法隆 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2010-06-11 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： H01J65/00 文献下载
摘要：本发明提供一种防止电极因基座而损伤的准分子灯。该准分子灯(1)具有：封入有发光元素的、剖面为矩形状且呈中空纵长状的放电管(2)；在放电管(2)的外面沿其长边方向延伸而设的电极(3、4)；将电极(3、4)与引线相连接的焊材(7、8)及覆盖电极(3、4)的长边方向的端部与焊材(7、8)的基座(9)，其特征为：基座(9)的边缘(932)抵接于放电管(2)外面的设有电极(3)的面，并且在该基座的边缘与电极(3)之间具有间隙(97)。
分子

[发明专利]准分子灯装置-CN200910262452.6无效
发明人： 远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2009-12-18 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： H01J65/00 文献下载
摘要：提供一种准分子灯装置，即使高速输送被处理物，也不会有空气被卷入装置内，而且以惰性气体置换移动的被处理物表面，能够高效地照射真空紫外线，具备：灯罩(10)，被收容于该灯罩内的准分子灯(30)，及输送机构(40)，一面输送被处理物(W)一面照射准分子光，其特征为：在比上述灯罩靠输送方向上游的一侧连结设置有被处理物被输入的前室(20)，在该前室内，设置有用于以惰性气体置换该前室内的惰性气体导入口(22)以及沿着输送方向对该被处理物喷出惰性气体的气体喷出单元(25)，该被处理物是聚乙烯醇、三醋酸纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯、或聚乙烯的任一薄膜状的树脂材料。
分子装置

[发明专利]准分子灯装置-CN200910225921.7有效
发明人： 远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2009-11-23 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： H01J65/00 文献下载
摘要：一种准分子灯装置，提高表面处理效率和真空紫外光的发光效率。具备：灯壳(10)；准分子灯(20)；具有气体喷出口(12a)的气体供给管(12A)；及搬送机构(38)；在该对被处理体(W)照射准分子光的准分子灯装置(10)中，在上述灯壳(10)内相互分离地设置有多个气体供给管，相邻的气体供给管彼此具备设置在一个气体供给管上的气体喷出口与设置在另一个气体供给管上的气体喷出口成为一对的关系的至少一对气体喷出口；该一对气体喷出口形成为，一个气体喷出口的喷出方向与另一个气体喷出口的喷出方向，在该相邻的气体供给管所夹着的空间(A)内相对或交叉，准分子灯配置在该空间(A)的铅直下方。
分子装置

[发明专利]受激准分子灯-CN200810210258.9有效
发明人： 远藤真一;藤泽繁树 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2008-08-11 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： H01J65/00 文献下载
摘要：本发明目的在于提供一种受激准分子灯，在放电容器的暴露在放电空间中的表面上形成紫外线反射膜，能够防止长时间点亮时受激准分子光的均匀性下降。该受激准分子灯的特征在于，在一侧的长边面(12a)的内表面区域形成有紫外线反射膜(20)，在短边面(13a、13b)的内表面区域形成有膜厚比所述一侧的长边面(12a)的与电极(15)对应的内表面区域上形成的紫外线反射膜(20)薄的紫外线反射膜(20)，在另一侧的长边面(12b)上通过不形成所述紫外线反射膜(20)而形成光射出窗(17)。
受激准分子

[发明专利]准分子灯-CN200910164913.6有效
发明人：竹添法隆;远藤真一;川口真孝 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2009-07-29 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： H01J65/00 文献下载
摘要：提供一种准分子灯，抑制将电力供应给准分子灯的供电线与电极进行接合的连接部等的氧化等引起的劣化，提升可靠性，而且寿命长。本发明的准分子灯的一个电极配置于放电容器外部，在该放电容器内部封入有放电用气体，在与该一个电极成对的另一个电极之间配置有介质，在该一个电极及该另一个电极上连接有将电力供应给电极间的导线，将电力经由该导线、该电极、该介质供应给该放电用气体，其中，设有与该放电容器的一个端部连接的以至少5个面区划的空间，该空间通过隔壁与该放电容器隔离，在该空间的外面形成有与上述电极电连接的连接部，该导线经由焊锡连接在该连接部上。
分子

[发明专利]准分子灯装置-CN200910160428.1有效
发明人：菅敏幸;远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2009-07-16 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： F21V19/00 文献下载
摘要：一种准分子灯装置，将装备于较长筐体的灯支撑体的位置平常保持一定，不会有灯支撑体与被处理物的摩擦，消除由于隔壁的热变形所导致的灯支撑体的位置变化，且防止从准分子灯的周围所产生的臭氧对搭载于筐体内的设备的腐蚀。该准分子灯装置(1)具备：筐体(1)；被筐体支撑的悬架体(4)；被悬架体支撑的灯支撑体(6)，被灯支撑体支撑的准分子灯(5)，以及，设于准分子灯与悬架体之间的隔壁(7)；灯支撑体松嵌合于设在隔壁上的贯通孔(8)并被悬架体支撑。而且，设置有调整灯支撑体相对于悬架体的上下方向的位置的调整机构，设置有防止气体通过贯通孔与松嵌合于贯通孔的灯支撑体之间的遮蔽机构。
分子装置

1
2
下一页»
尾页
共 24 条