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[发明专利]一种相位延迟元件及相位延迟装置-CN202011566667.X有效
发明人：吕亮;赵恒;张明骁;蒲云体;蔡超;卢忠文;乔曌;彭东旭;何祥 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种相位延迟元件，包括基底和光学介质层，光学介质层形成在基底表面，光学介质层用于将入射光反射出以及将入射光相互正交的两偏振态分量经过光学介质层后的相位偏移量造成差量。与现有的采用晶体制作的波片相比，本相位延迟元件采用光学介质层制作，能够承受较高的激光功率，能够提高对激光的抗损伤能力。本发明还公开一种相位延迟装置。
一种相位延迟元件装置

[发明专利]低缺陷光学薄膜制备方法及其制品-CN201910370632.X有效
发明人： 蒲云体;马平;彭东旭;邱服民;乔曌;卢忠文;吕亮;张明骁 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种低缺陷光学薄膜制备方法及其制品。薄膜制备方法包括：热处理过程、采用离子束溅射方式镀制第一膜层的过程、采用离子束辅助电子束蒸镀方式镀制第二膜层的过程、薄膜表面平坦化处理的过程，采用电子束蒸镀方式镀涂第三膜层和第四膜层的过程，采用离子束溅射方式镀制保护膜层的过程。本发明还公开了一种利用镀膜装置制备薄膜的方法，镀膜装置为顺序连接的多真空腔室，各腔室分别对元件热处理，采用离子束溅射方式镀制第一膜层和保护层，采用电子束蒸镀方式镀制第二膜层、第三膜层和第三膜层，平坦化处理。本发明结合离子束溅射和电子束蒸镀的方式，设计出了可制备强附着力、高激光损伤阈值、低应力、抗激光损伤性能好的薄膜的方法。
缺陷光学薄膜制备方法及其制品

[发明专利]基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅及其制备方法-CN201811514560.3有效
发明人：张明骁;马平;卢忠文;蒲云体;乔曌;吕亮;邱服民 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种中心波长在近红外波段的高刻线密度、基于覆盖折射率匹配层的宽带偏振无关反射式介质光栅及其制备方法，涉及光学领域。所述光栅在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)。本发明提供的光栅结构针对TE模式和TM模式在利特罗角入射条件下在1050～1080nm带宽范围内的衍射效率高于98.5％，最高衍射效率超过99.5％，且具有比普通光栅更高的制备容差，可以实现偏振无关入射光的高效率衍射；另外可以利用全息曝光结合反应离子刻蚀的方法进行制备，利用原子层沉积所制备的折射率匹配层可以对光栅结构起到保护作用，提升光栅在高温高湿、激光辐照等特种工作环境条件下的稳定性，制备方法简单高效，在高功率激光领域中具有重要的应用前景。
基于覆盖折射率匹配偏振无关光栅及其制备方法

[发明专利]应用于多腔体镀膜装置的机械手及多腔体镀膜装置-CN201910370791.X有效
发明人： 蒲云体;马平;彭东旭;卢忠文;吕亮;张明骁;邱服民;乔曌 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于多腔体镀膜装置的机械手及多腔体镀膜装置。机械手包括主轴电机、伸缩机械臂和抓取机械手；伸缩机械臂的一端安装于所述主轴电机的竖轴上，并在主轴电机竖轴的带动下旋转，伸缩机械臂的另一端连接抓取机械手；伸缩机械臂具备X轴和Z轴两个方向的运动自由度，所述抓取机械手可受控抓紧或松开。本发明机械手可实现对元件在相邻腔室间的自由传递。镀膜装置包括若干真空腔室，至少两个真空腔室对待镀膜元件所采用的镀膜方式不同，每相邻两真空腔室间通过一真空管道连通，在每一真空管道中，均安装有本发明的机械手。本发明镀膜装置采用多种镀膜方式对元件进行联合镀膜处理，结合了多种镀膜方式的有点，可提高所镀薄膜的性能。
应用于多腔体镀膜装置机械手

[发明专利]一种激光损伤测试系统及方法-CN202011568356.7在审
发明人：吕亮;赵恒;张明骁;蒲云体;蔡超;卢忠文;乔曌;彭东旭;何祥 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光损伤测试系统及方法，系统包括激光产生装置、控制装置和获取装置，激光产生装置产生激光束并将激光束入射到控制装置，控制装置用于控制激光束的发射方向，以控制改变投射到测试元件表面的激光光斑的位置，获取装置获取测试元件的表面信息，以获得对于测试元件的测试结果。本发明通过控制输出的激光束的发射方向，来控制改变投射到测试元件表面的激光光斑的位置，能够提高测试频率，能够应用于小口径光斑的激光装置，提高激光损伤测试的效率。
一种激光损伤测试系统方法

[发明专利]一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置-CN201710834095.0有效
发明人：吕亮;马平;鄢定尧;朱衡;黄金勇;蒲云体;蔡超;王刚;张明骁 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： C03C15/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置，包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头，采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5～10min，去除表面污染物与抛光再沉积层；根据缺陷的位置、范围与深度信息以及元件面形数据、表面粗糙度结果设定刻蚀参数，编制生成喷头运动轨迹代码；启动酸射流刻蚀装置，按照程序指令进行酸射流刻蚀加工；超声清洗去除表面残留的抛光颗粒与氢氟酸，采用光学显微镜，光学干涉仪与光学轮廓仪再次测量元件的缺陷、表面面形与表面粗糙度结果，若结果不达标，重上述步骤，直到合格。本发明采用上述原理，实现局部区域定点刻蚀，控制刻蚀过程中的元件面形。
一种石英光学元件射流刻蚀方法装置

[实用新型]一种红外低折射率光学薄膜-CN201822081932.X有效
发明人： 蒲云体;马平;王刚;卢忠文;吕亮;张明骁;邱服民;乔曌;彭东旭 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种红外低折射率光学薄膜，属于光学薄膜领域。所述红外低折射率光学薄膜通过有效的制备方法并采用稀土族元素氟化物YF₃制备得到，得到的红外低折射率光学薄膜具有无定形结构的特征，较之单晶、多晶结构的薄膜具有更低的散射损耗；折射率系数在1.5μm为1.482与现有的中红外激光低折射率光学薄膜的折射率系数相当，具备同等的设计自由度；但是其表面粗糙度为1.477nm和聚集密度0.904都优于现有的中红外光学薄膜的表面粗糙度2nm左右和聚集密度0.8左右，降低了薄膜的损耗，提高了薄膜致密性；其在水吸收附近的2.9μm和6.1μm的透过率为60％和70％相比于常规工艺制备的中红外光学薄膜透过率高20％左右，改善了薄膜的吸潮情况。
光学薄膜低折射率制备薄膜红外光学薄膜表面粗糙度折射率系数透过率薄膜致密性本实用新型设计自由度无定形结构稀土族元素中红外激光常规工艺多晶结构散射损耗氟化物水吸收单晶吸潮

[发明专利]一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法-CN201810852663.4有效
发明人：吕亮;黄金勇;胡庆;蒲云体;马平;鄢定尧;张明骁;朱衡;刘杰 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-07-30 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括：(1)首先确定抛光盘特征参数；(2)对抛光盘进行环带分割，并计算环带去除函数h_i；(3)根据优化目标计算环带权重值：将目标去除函数H作为优化目标，设每一条环带去除函数h_i的权重值为x_i，采用线性优化方法解出满足误差函数Δ＝H‑Σ(h_i×x_i)最小的各环带权重值x_i，x_i满足非负值条件；(4)异形盘图案设计与制作。本发明能够根据目标去除函数反演，快速得到异形抛光盘面形的最优解，有效提高异形抛光盘的设计效率，具有实现复杂形状的异形抛光盘设计的能力，实现复杂图案设计结果的快速、精确制作，缩短抛光周期，提升抛光精度，改善抛光质量。
抛光盘环带异形抛光权重数控抛光机目标去除优化目标双转子制作去除复杂图案复杂形状光学材料光学制造抛光周期设计结果设计效率特征参数图案设计误差函数线性优化异形盘最优解反演盘面分割加工

[实用新型]基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅-CN201822078714.0有效
发明人：张明骁;马平;卢忠文;蒲云体;乔曌;吕亮;邱服民 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅，涉及光学领域。所述光栅在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)。本实用新型提供的光栅结构针对TE模式和TM模式在利特罗角入射条件下在1050～1080nm带宽范围内的衍射效率高于98.5％，最高衍射效率超过99.5％，且具有比普通光栅更高的制备容差，可以实现偏振无关入射光的高效率衍射；另外可以利用全息曝光结合反应离子刻蚀的方法进行制备，利用原子层沉积所制备的折射率匹配层可以对光栅结构起到保护作用，提升光栅在高温高湿、激光辐照等特种工作环境条件下的稳定性，制备方法简单高效，在高功率激光领域中具有重要的应用前景。
光栅制备折射率匹配层偏振无关光栅本实用新型光栅结构衍射效率工作环境条件高功率激光原子层沉积高温高湿光学领域激光辐照结合反应离子刻蚀利特罗角偏振无关全息曝光反射膜高效率功能层熔石英入射光衬底镀制覆盖容差入射衍射带宽应用

[发明专利]一种基于多粒子沉积的低缺陷多腔体镀膜装置-CN201910370769.5在审
发明人： 蒲云体;马平;彭东旭;卢忠文;吕亮;张明骁;邱服民;乔曌 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于多粒子沉积的低缺陷多腔体镀膜装置。包括依次排列的4个真空腔室：第一真空腔室、第二真空腔室、第三真空腔室和第四真空腔室，第一真空腔室用于元件热平衡；第二真空腔室采用离子束溅射镀膜方式对镀膜元件表面镀制第一膜层，第三真空腔室采用离子束辅助电子束蒸发镀膜方式对镀膜元件表面蒸镀第二膜层，第四真空腔室用于对镀膜元件膜层缺陷检测与平坦化处理；四个真空腔室间依次通过三真空管道连通；各真空管道中的元件抓取转移机械手工作以将镀膜元件在相邻两真空腔室间进行传递。本装置可制备出超低缺陷、高抗激光损伤阈值、应力低、附着力强、光学均匀性好的光学薄膜，可应用于超高功率和超高能量激光薄膜制备领域。
真空腔室镀膜元件低缺陷镀膜装置粒子沉积真空管道多腔体膜层制备电子束蒸发镀膜离子束溅射镀膜抓取光学均匀性离子束辅助平坦化处理超高功率超高能量第一膜层附着力强光学薄膜激光薄膜激光损伤缺陷检测依次排列机械手表面镀热平衡高抗蒸镀连通传递应用

[实用新型]基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅-CN201820909793.2有效
发明人：张明骁;马平;蒲云体;乔曌;卢忠文;吕亮;邱服民 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅，属于光学领域，所述光栅包括衬底1和光栅层4，并且衬底1上依次镀制有反射膜2、氧化物介质膜连接层3，并在光栅层刻蚀光栅槽结构；所述反射膜2为折射率调控多层介质薄膜，该折射率调控多层介质薄膜2包括高折射率材料薄膜2‑1和低折射率材料薄膜2‑2。本实用新型提供的基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅的中心波长为1064纳米，在入射角度为‑1级利特罗角，在1050～1080纳米范围可以同时使TE、TM偏振方向上的‑1级衍射效率高于99％，波段内最高衍射效率高于99.5％，可以实现偏振无关入射光的高效率衍射。
折射率薄膜偏振无关光栅调控多层介质薄膜本实用新型反射式介质衍射效率反射膜光栅层衬底低折射率材料高折射率材料氧化物介质膜光学领域介质光栅刻蚀光栅利特罗角中心波长槽结构高效率连接层入射光入射角波段镀制衍射反射

[发明专利]一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法-CN201811516954.2在审
发明人： 蒲云体;马平;王刚;卢忠文;吕亮;张明骁;邱服民;乔曌;彭东旭 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法，属于光学薄膜领域。所述红外低折射率光学薄膜通过有效的制备方法并采用稀土族元素氟化物YF₃制备得到，通过该方法制备得到的红外低折射率光学薄膜具有无定形结构的特征，较之单晶、多晶结构的薄膜具有更低的散射损耗；折射率系数在1.5μm为1.482与现有的中红外激光低折射率光学薄膜的折射率系数相当，具备同等的设计自由度；但是其表面粗糙度为1.477nm和聚集密度0.904都优于现有的中红外光学薄膜的表面粗糙度2nm左右和聚集密度0.8左右，降低了薄膜的损耗，提高了薄膜致密性；其在水吸收附近的2.9μm和6.1μm的透过率为60％和70％相比于常规工艺制备的中红外光学薄膜透过率高20％左右，改善了薄膜的吸潮情况。
光学薄膜制备低折射率薄膜红外光学薄膜表面粗糙度折射率系数透过率薄膜致密性设计自由度无定形结构稀土族元素中红外激光常规工艺多晶结构散射损耗氟化物水吸收单晶吸潮

[发明专利]基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅-CN201810606015.0在审
发明人：张明骁;马平;蒲云体;乔曌;卢忠文;吕亮;邱服民 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅，属于光学领域，所述光栅包括衬底1和光栅层4，并且衬底1上依次镀制有反射膜2、氧化物介质膜连接层3，并在光栅层刻蚀光栅槽结构；所述反射膜2为折射率调控多层介质薄膜，该折射率调控多层介质薄膜2包括高折射率材料薄膜2‑1和低折射率材料薄膜2‑2。本发明提供的基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅的中心波长为1064纳米，在入射角度为‑1级利特罗角，在1050~1080纳米范围可以同时使TE、TM偏振方向上的‑1级衍射效率高于99%，波段内最高衍射效率高于99.5%，可以实现偏振无关入射光的高效率衍射。
折射率薄膜偏振无关调控多层介质薄膜光栅介质光栅衍射效率反射膜光栅层衬底反射低折射率材料高折射率材料氧化物介质膜反射式介质光学领域刻蚀光栅利特罗角中心波长槽结构高效率连接层入射光入射角波段镀制衍射

[实用新型]光纤激光光谱合成装置-CN201621112245.4有效
发明人：马平;鄢定尧;张明骁;蒲云体;乔曌 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2016-10-11 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： H01S3/23 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光纤激光光谱合成装置及方法，属于激光光学技术领域。光纤激光光谱合成装置包括光纤激光器和准直透镜，光纤激光器上设有位移控制台；还包括沿光路设置的超棱镜薄膜、分光镜和位移反馈系统，分光镜上设有位置调整系统；光纤激光器、位移控制台、位置调整系统及位移反馈系统由主控系统控制。本实用新型用单组器件实现多入射光束合成，避免级联，合束装校难度小，系统稳定性高；超棱镜薄膜元件对激光能量吸收较低，有利于提升激光负载能力；超棱镜薄膜器件相对于光栅类器件对偏振特性依赖较小，有利于对器件进行偏振无关的优化，提升对非偏振光纤激光的合束效率。
光纤激光光谱合成装置

[发明专利]光纤激光光谱合成装置及方法-CN201610888564.2在审
发明人：马平;鄢定尧;张明骁;蒲云体;乔曌 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2016-10-11 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： H01S3/23 文献下载
摘要：本发明公开了一种光纤激光光谱合成装置及方法，属于激光光学技术领域。光纤激光光谱合成装置包括光纤激光器和准直透镜，光纤激光器上设有位移控制台；还包括沿光路设置的超棱镜薄膜、分光镜和位移反馈系统，分光镜上设有位置调整系统；光纤激光器、位移控制台、位置调整系统及位移反馈系统由主控系统控制。光纤激光光谱合成方法包括超棱镜薄膜设计、特性测试、入射激光光谱合成。本发明用单组器件实现多入射光束合成，避免级联，合束装校难度小，系统稳定性高；超棱镜薄膜元件对激光能量吸收较低，有利于提升激光负载能力；超棱镜薄膜器件相对于光栅类器件对偏振特性依赖较小，有利于对器件进行偏振无关的优化，提升对非偏振光纤激光的合束效率。
光纤激光光谱合成装置方法

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