专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶圆键合机-CN201811055423.8有效
  • 刘博佳;王海宽;吴龙江;林宗贤 - 德淮半导体有限公司
  • 2018-09-11 - 2021-04-09 - H01L21/67
  • 本发明涉及半导体加工设备技术领域,公开了一种按照顺序有序键合,减少气泡产生的晶圆键合机。晶圆键合机包括两个卡盘,每一卡盘均包括支架以及设置于支架上的键合区,至少一个卡盘的键合区有多个,位于同一卡盘上的多个键合区独立设置,每一独立的键合区内均具有用于与晶圆抵接的键合点,晶圆键合机还包括用于控制键合点的键合顺序的键合机构。本发明利用键合机构调整键合点的键合顺序,从而使得两片晶圆有序键合。在晶圆的有序键合过程中,空气顺着键合方向逐渐移动并跑出,减少两片晶圆之间产生的气泡和空洞,提高产品良率。
  • 晶圆键合机
  • [发明专利]检测系统及检测方法-CN201811426857.4有效
  • 刘博佳;王海宽;吴龙江;林宗贤 - 德淮半导体有限公司
  • 2018-11-27 - 2021-04-02 - H01L21/66
  • 一种检测系统及检测方法,检测系统包括:吸盘,所述吸盘适于吸附晶圆,所述晶圆的边缘具有定位缺口,所述吸盘包括预设区,所述预设区包括预设晶圆放置区和与预设晶圆放置区邻接的预设定位缺口区,所述预设晶圆放置区的径向尺寸与所述晶圆的径向尺寸一致,所述预设定位缺口区沿吸盘表面的尺寸与所述定位缺口沿晶圆表面的尺寸一致;所述吸盘中具有若干贯穿吸盘的盘孔,所述盘孔沿预设区的外边缘排布且与预设区的外边缘相内切,部分数量的盘孔贯穿预设晶圆放置区,部分数量的盘孔贯穿预设定位缺口区;若干传感器,所述传感器适于在晶圆放置于吸盘表面的情况下检测盘孔是否被所述晶圆覆盖。所述检测系统检测精度得到提高。
  • 检测系统方法
  • [发明专利]晶圆断键强度的检测方法-CN201910786123.5在审
  • 刘博佳;王海宽;郭松辉;林宗贤 - 德淮半导体有限公司
  • 2019-08-23 - 2020-04-28 - H01L21/66
  • 一种晶圆断键强度的检测方法,检测方法包括:提供第一晶圆;对所述第一晶圆表面进行断键处理,使所述第一晶圆表面具有第一基团;在第一晶圆表面加入捕捉剂,使第一晶圆表面的第一基团和捕捉剂反应形成反应产物;对所述反应产物进行检测,得到所述反应产物的化学发射强度;根据所述化学发射强度,获取反应产物内的第一基团浓度。所述检测方法,操作简单,灵敏度较高,能够较快得到第一晶圆表面断键的强度情况。
  • 晶圆断键强度检测方法
  • [实用新型]晶圆电镀设备-CN201920970011.0有效
  • 刘博佳;王海宽;郭松辉;林宗贤 - 德淮半导体有限公司
  • 2019-06-25 - 2020-03-31 - C25D17/02
  • 该实用新型涉及一种晶圆电镀设备,包括:电镀槽,用于放置电镀期间所需的电镀液,且所述电镀槽的内表面含有一电镀阳极;晶圆放置台,用于放置待进行电镀的晶圆,且所述晶圆放置台设置有镂空区域,用于将所述晶圆的电镀面暴露于所述电镀槽内的电镀液;离子阻滞器,在电镀期间设置在所述晶圆与所述电镀阳极之间,包括:第一通孔,贯穿所述离子阻滞器,且所述第一通孔的位置与所述晶圆的圆心对应;第二通孔,贯穿所述离子阻滞器,且电镀液离子在所述第二通孔内的行程大于所述电镀液离子在所述第一通孔内的行程;所述电镀液离子经由所述第一通孔和所述第二通孔通过所述离子阻滞器。
  • 电镀设备

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