|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 464个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]可自动封闭件-CN201980056232.X有效
-
格雷戈里·博雷斯
-
恩特格里斯公司
-
2019-07-30
-
2023-01-10
-
B65D43/26
- 本发明提供一种用于流体容器的盖，其包含：主体；致动器环，其可沿所述主体滑动且具有环形凹槽；及多个闩锁，其具有固定及释放状态，且可通过与所述致动器环接触而被置于所述释放状态。一种用于流体容器的封闭件系统包含所述盖及经附接到流体容器、由所述盖的所述闩锁接合的唇部。所述唇部可与流体容器或经连接到所述流体容器的接头的部分成一体。一种容器的自动化处置的方法包含使用机械臂来接合盖的致动器环的环形凹槽；驱动所述致动器环；及从所述容器移除所述盖。所述方法可进一步包含经由所述机械臂与所述盖的接合来运输所述容器。
- 自动封闭
- [发明专利]CMP抛光垫调节器-CN201880087576.2有效
-
R·K·辛格;D·辛格
-
恩特格里斯公司;佛罗里达大学研究基金会公司
-
2018-12-27
-
2022-12-16
-
B24B53/017
- 本发明提供一种处理化学机械抛光CMP垫调节器的方法，其包含：提供包含调节器衬底和浆料的所述CMP垫调节器，所述调节器衬底是具有接合到所述调节器衬底的顶面且维氏硬度大于3,000Kg/mm2的多个硬调节器粒子的金属、陶瓷或金属‑陶瓷材料，所述浆料包含含水介质和多个具有大于3,000Kg/mm2的硬度的硬浆料粒子。在CMP设备中使用抛光垫抛光所述垫调节器的表面。在所述抛光之后，每一调节器粒子具有至少一个暴露刻面，且所述多个硬调节器粒子具有20微米的最大平均突起部到突起部平坦度PPF差和通过切割边缘半径CER的值测量的最锐利边缘，所述最锐利边缘对于至少80％的所述刻面处于所述刻面的边缘处。
- cmp抛光调节器
|
