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[实用新型]一种干法蚀刻设备ICP尾气处理装置-CN201922422231.2有效
发明人：王明明;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种干法蚀刻设备ICP尾气处理装置，包括干泵以及与干泵连通的尾气管；所述尾气管上安装有与管内连通的氮气吹扫装置，且在尾气管的管壁上包裹有保温棉；所述尾气管的自由端安装有可拆卸的清理管；所述清理管与洗涤塔相连通。本实用新型的优点：1.把粉尘迅速通过热氮气吹扫至清理管，通过冷凝管路将粉尘集中凝结，并定期处理清理管内凝结固体，保证后端管路通畅。2.尾气管不需管路外壁缠绕加热带进行管路加热，只需要保温棉保温。
一种蚀刻设备 icp 尾气处理装置

[实用新型]一种用于蓝宝石晶圆的N2-CN201922045193.3有效
发明人：刘莲蓬;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于蓝宝石晶圆的N2吹扫装置，包括支架、固定架、固定平台、及吹扫头；所述固定架呈L型，固定架的一端开有固定孔，另一端设有上下调节孔；所述固定平台包括方板，方板上开有与固定孔配合的左右调节孔，方板的一端安装有连接杆，连接杆上开有连接孔二；所述吹扫头上设有N2接口，吹扫头上还开有与连接孔二配合的连接孔一，通过螺丝穿过连接孔一、连接孔二，使吹扫头转动调节N2的吹扫角度。本实用新型通过N2吹扫，将轻微粘附在晶圆表面的particle吹落，带有particle的废气通过保护罩底部的排气系统排出，从而起到清洁晶圆表面和保护周边环境的作用，提高产品良率。
一种用于蓝宝石 base sub

[实用新型]一种匀胶槽自动清洗装置-CN201922048914.6有效
发明人：陈付磊;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种匀胶槽自动清洗装置，包括匀胶槽底座，所述匀胶槽底座上设有晶圆吸附平台，还包括安装在匀胶槽底座上的保护罩、及设置在匀胶槽底座与晶圆吸附平台间的扇形喷嘴和固定支架；所述固定支架呈圆环状，所述扇形喷嘴呈圆周状布置在固定支架上，所述保护罩呈圆环状，保护罩的中心处设有中空部。在使用该清洗装置时，无须拆卸匀胶槽，只需要设置高速匀胶时，清洗装置自动喷淋即可，避免因拆卸匀胶槽产生的其他问题，降低了人员的劳动量。
一种匀胶槽自动清洗装置

[实用新型]一种基于静电吸附的托盘固定结构-CN201922055553.8有效
发明人：张洋洋;于玉斋;丁建峰;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基于静电吸附的托盘固定结构，包括加热平台，还包括安装在加热平台上的静电吸附装置；所述静电吸附装置包括陶瓷托盘、用于吸附陶瓷托盘的柔性电极，所述陶瓷托盘上开有若干晶圆孔，所述柔性电极内设有能产生吸附静电的电极板，所述电极板外接电源。本实用新型采用陶瓷托盘和柔性电极配合，通过柔性电极内的电极板通电产生吸附静电，将陶瓷托盘、晶圆进行吸附，在干法蚀刻工艺中上、下盘操作时，不需要拆卸螺丝、取放陶瓷夹具，能有效提高生产效率，降低人力成本，另外，采用本实用新型的固定结构，由于不需要进行拆卸作业，能避免引入颗粒杂质造成的产品不良。
一种基于静电吸附托盘固定结构

[实用新型]一种用于曝光机小缺口晶圆定位校准装置-CN201922396235.8有效
发明人：王祥;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于曝光机小缺口晶圆定位校准装置，属于晶圆定位技术领域。包括旋转平台、晶圆敲击机构、微型旋转马达、定位顶针和光纤传感器，所述的晶圆敲击机构、微型旋转马达、定位顶针和光纤传感器安装在旋转平台上，所述的旋转平台校准晶圆处设有凹型槽，所述的晶圆敲击机构和微型旋转马达分别设置在凹型槽的两端，所述的定位顶针和光纤传感器设置在凹型槽底端。本实用新型的有益效果是：本实用新型通过旋转马达对晶圆进行二次缺口定位，定位精度更高，提升产品成品率和一致性，相较其他精准定位方式结构简单且成本较低。
一种用于曝光缺口定位校准装置

[实用新型]一种可调节底座高度的推片器装置-CN201922423280.8有效
发明人：刘莲蓬;丁建峰;王祥;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可调节底座高度的推片器装置，推片器，其内部设有调解室；调节高度装置，安装在调解室内，用于对晶舟的高度调节；固定放置底座，安装在推片器平台上，用于放置晶舟。本实用新型有益技术效果：产品工序进行转换时，更换专用晶舟进行作业，每道工序所使用的晶舟之间存在差异，通过调节高度装置调整放置晶舟底座的高度，实现正常推片动作，减少对晶片造成划伤和表面脏污情况。
一种调节底座高度推片器装置

[实用新型]一种刷洗机用溢流槽结构-CN201922086565.7有效
发明人：张标;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开一种刷洗机用溢流槽结构，包括刷头、溢流槽、支架和马达，所述刷头表面开有若干出水孔，刷头内通过空心导柱接有水管，所述溢流槽设置在刷头的下方，溢流槽的一侧接有进水管，溢流槽的底部接有出水管，出水管上装有自动排水阀；所述空心导柱安装在支架上，所述马达通过齿轮驱动空心导柱在支架上自转，实现刷头内出水对溢流槽的清洗。本实用新型通过在刷头内接水管，实现了刷头的自清洗功能，可以减少刷头上附着的particle，降低刷头的更换频率，节约时间，提高生产效率；另外，通过在溢流槽的底部接出水管，出水管上装自动排水阀，实现了溢流槽的自动排水功能，避免纯水受到二次污染。
一种刷洗溢流结构

[发明专利]一种用于干法蚀刻中去除PSS衬底AlN涂层的方法-CN201911392843.X在审
发明人：张洋洋;于玉斋;丁建峰;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明公开一种用于干法蚀刻中去除PSS衬底AlN涂层的方法，包括以下步骤：1)将带有AlN涂层的PSS衬底，装载到ICP进行干法蚀刻；2)在干法蚀刻时，使用氯基气体，在一定温度和压力下对PSS衬底进行电离；3)通过偏置射频电压对等离子体进行加速，将沉积在PSS衬底表面的AlN涂层去除，保留原PSS衬底表面的图形。本发明将带有AlN涂层的PSS衬底通过干法蚀刻的方法，将AlN涂层均匀的去除，能够降低成本，且去除AlN均匀性佳，保持原PSS图形尺寸基本不变。
一种用于蚀刻去除 pss 衬底 aln 涂层方法

[实用新型]一种用于自动上料机的载盘定位装置-CN201821738485.4有效
发明人：于玉斋;丁建峰;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： B65G47/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于自动上料机的载盘定位装置，定位装置，包括载盘放置区，在所述载盘放置区外延边界处设有定位柱；载盘，其放置在载盘放置区内，且载盘外延设有与定位柱相匹配的定位凹口；推拉式锁紧装置，其安装在定位装置上，通过内推/外拉动作实现对载盘的固定/取放。该装置具有结构简单，实用性强，操作方便，通过三点定位，保证载盘的固定。
载盘定位装置自动上料机定位柱放置区本实用新型定位凹口三点定位锁紧装置边界处推拉式内推取放匹配保证

[实用新型]一种组合式等离子刻蚀夹具-CN201821770618.6有效
发明人：曹佳辉;于玉斋;魏明德;王明明;郑锦涛;张洋洋;褚宏扬;权亮亮 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种组合式等离子刻蚀夹具，包括上圆环体和下圆环体，所述上圆环体放置在所述下圆环体上方，所述下圆环体上表面设有环形凹槽，所述上圆环体由若干相同单元体组成，相邻所述单元体的连接面为倾斜面，并且所述倾斜面与所述下圆环体上表面成夹角，所述单元体的下表面设有凸起且能够嵌设在所述环形凹槽内，所述单元体能够沿所述倾斜面从组成的所述上圆环体上拿出或者插入。本实用新型解决现有技术中夹具在使用过程中，其上表面部分刻蚀或者损坏，需要整体报废和不能对受损蚀部分的夹具进行针对性更换的问题。
上圆环体下圆环体单元体倾斜面上表面等离子刻蚀夹具夹具本实用新型环形凹槽组合式整体报废连接面下表面刻蚀凸起受损

[实用新型]一种ICP设备残气抽风装置-CN201821770626.0有效
发明人：权亮亮;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种ICP设备残气抽风装置，包括立风管，水平风管和风机，所述立风管下端与ICP设备的出气口连接，其上端连接在所述水平风管下侧壁上且内腔连通，所述风机安装在所述水平风管的进风口上，启动所述风机，其能够将进入所述水平管中残气从所述水平风管的出风口带出。本实用新型解决了现有技术中风机工作时酸性气体对风机有腐蚀性，减少风机使用寿命的问题。
风机水平风管残气本实用新型抽风装置风管风机安装内腔连通使用寿命酸性气体出风口出气口进风口水平管下侧壁上端下端

[实用新型]一种新型晶片推片器-CN201821771773.X有效
发明人：周雪松;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型晶片推片器，包括基座，拉杆支撑件，若干推片单元，立柱，柱座，拉杆，把手和销轴，拉杆支撑件固定在基座板的下面，且拉杆支撑件上开设有左右方向上的水平通孔，若干推片单元均与立柱连接且能够绕所述立柱旋转，所述立柱下端固定连接有柱座，且其上开设有销轴承接孔，拉杆与柱座的左侧面水平固定连接，且穿过拉杆支撑件上的水平通孔，把手固定连接在拉杆左端，若干推片单元上均设有销轴孔，每个所述推片单元均可独立绕立柱旋转至推片侧，通过销轴穿过销轴孔，再插进所述销轴承接孔中固定。解决了不能安全无污染对指定的晶片数周转。
推片拉杆支撑立柱拉杆柱座水平通孔推片器销轴孔接孔晶片销轴轴承把手穿过本实用新型立柱连接水平固定基座板晶片数左侧面下端左端周转安全

[发明专利]一种纳米级图形化蓝宝石衬底及其制备方法和应用-CN201610651489.8有效
发明人：翁国恩;陈少强;胡小波;涂亮亮;魏明德 -专利权人：华东师范大学;徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2016-08-10 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种纳米级图形化蓝宝石衬底及其制备方法，1)在蓝宝石衬底上生长一层二氧化硅层；2)在二氧化硅层上自组装形成单层紧密排列的聚合物微球阵列；3)在聚合物微球阵列表面生长一层金属层；4)先后在750℃和1050℃高温下进行退火，得到非紧密排列的金属纳米球阵列；5)以金属纳米球阵列为掩模对二氧化硅层进行刻蚀，得到规则排列的二氧化硅纳米柱；6)以二氧化硅纳米柱为掩模对蓝宝石衬底进行刻蚀，除去二氧化硅纳米柱，最终得到所述纳米级图形化蓝宝石衬底(PSS)。本发明工艺简单、稳定性好、成品率高，适于制备各种晶圆尺寸的图形化蓝宝石衬底；获得的纳米级图形化蓝宝石衬底具有更高的光提取效率，对提高GaN基LED的发光效率具有重大的意义。
一种纳米图形蓝宝石衬底及其制备方法应用

[实用新型]一种新型显影液加液系统-CN201821727707.2有效
发明人：王祥;丁建峰;于玉斋;魏明德 -专利权人： 徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型公开一种新型显影液加液系统，包括Tank桶、显影液桶；显影液桶上安装有显影液桶盖，显影液桶盖上开有两个孔，一个孔内安装有显影液加液管路，加液管路的一端伸至显影液桶的底部，另一端伸至Tank桶的底部，显影液加液管路上安装有显影液截止阀；另一个孔内安装有管路一，管路一上安装有三通阀一，三通阀一的另外两个阀口分别为氮气口、排气口；Tank桶内安装有输液管路，输液管路的一端伸至Tank桶底部，另一端与显影单元连接；Tank桶的顶部安装有管路二，管路二上安装有三通阀二，三通阀二的另外两个阀口分别为氮气口、排气口。本实用新型在较低成本的情况下对显影液进行半自动添加，避免了气泡的产生和物料的浪费。
显影液三通阀本实用新型加液管路加液系统输液管路氮气口排气口阀口桶盖顶部安装显影单元低成本加液管截止阀

[发明专利]一种基于聚合物微球制备纳米级图形化蓝宝石衬底的方法-CN201710024540.7有效
发明人：翁国恩;陈少强;胡小波;涂亮亮;魏明德 -专利权人：华东师范大学;徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于聚合物微球制备纳米级图形化蓝宝石衬底的方法，首先在蓝宝石衬底上生长一层二氧化硅层；然后在二氧化硅层上自组装形成单层紧密排列的聚合物微球阵列；接着对聚合物微球进行干法刻蚀以减小微球的直径，形成非紧密规则排列的聚合物微球阵列；然后以上述非紧密规则排列的聚合物微球阵列为掩模，对二氧化硅层进行刻蚀得到规则排列的二氧化硅纳米柱；最后以二氧化硅纳米柱为掩模对蓝宝石衬底进行刻蚀，得到所述纳米级图形化蓝宝石衬底。本发明的方法简单易行、重复性好、成品率高、生产成本低，适用于各种尺寸的图形化蓝宝石衬底的制备，适用于企业大规模生产。本发明还公开了所述纳米级图形化蓝宝石衬底在GaN基LED中的应用。
一种基于聚合物制备纳米图形蓝宝石衬底方法

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