专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种AlN薄膜的制备方法-CN201911376545.1有效
  • 张志荣;郭艳敏;尹甲运;王波;高楠;房玉龙;冯志红 - 中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 2019-12-27 - 2022-11-15 - H01L21/02
  • 本发明涉及半导体技术领域,具体公开一种AlN薄膜的制备方法。所述制备方法为:将清洗后的衬底放入反应腔内,并对衬底进行热处理;向所述反应腔内通入氮源;将所述反应腔内的温度升至预设的第一温度,并向所述反应腔内通入Al源,以进行AlN层的生长;当达到预设条件时,停止向所述反应腔内通入Al源,并将所述反应腔内的温度降至预设的第二温度,以终止当前AlN层的生长;重复进行N‑1次所述步骤c至所述步骤d的操作,以生长出包括N层AlN层的AlN薄膜,其中,N为大于1的整数。本发明采用重复生长的方法生长AlN薄膜,能够在较低温度生长高质量AlN外延薄膜,具有很宽的工艺窗口。
  • 一种aln薄膜制备方法

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