专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种P型硅背接触电池和制备方法-CN202210580755.8在审
  • 王树林;曹建伟 - 浙江求是半导体设备有限公司
  • 2022-05-25 - 2022-09-09 - H01L31/0352
  • 本发明实施例提供了一种P型硅背接触电池和制备方法,属于硅片电池制备技术领域,电池包括:Si衬底,所述Si衬底具体为P型Si衬底;所述Si衬底的反面间隔设置有若干段磷扩散层,且相邻段的磷扩散层之间留设有一空白区;第一掺杂硅层,所述第一掺杂硅层设置有若干段,若干段第一掺杂硅层逐一设置在若干段的磷扩散层上;且所述第一掺杂硅层上方的磷扩散层和Si衬底形成一PN结;第二掺杂硅层,所述第二掺杂硅层设置有若干段,若干段第二掺杂硅层设置在若干个空白区内;以及电极,所述电极设置有若干个,且若干个电极分别电性连接在第一掺杂硅层和第二掺杂硅层上;达到提高P型背接触电池转换效率的技术效果。
  • 一种型硅背接触电池制备方法
  • [发明专利]一种光栅复合型单光子雪崩二极管及其制作方法-CN202210714238.5在审
  • 金湘亮;杨健;汪洋 - 湖南师范大学
  • 2022-06-22 - 2022-09-06 - H01L31/0352
  • 本发明公开了一种光栅复合型单光子雪崩二极管,包括衬底P‑Sub区;衬底P‑Sub区上设有NBL区;NBL区上设有圆形DN‑Well区;圆形DN‑Well区中间设有N‑Well区,圆形DN‑Well区上表面从外到内依次设有环形N+注入区、第一环形多晶硅栅、第一环形P+注入区、第二环形多晶硅栅、第二环形P+注入区、第三环形多晶硅栅和圆形P+注入区,所述第一环形多晶硅栅、第一环形P+注入区、第二环形多晶硅栅、第二环形P+注入区、第三环形多晶硅栅和圆形P+注入区引出用作阳极;环形N+注入区引出用作阴极。本发明实现了光栅器件与单光子雪崩二极管的复合,极大地扩展了器件的光谱响应范围。
  • 一种光栅复合型光子雪崩二极管及其制作方法
  • [实用新型]收光二极管-CN202221376755.8有效
  • 陈世纲;陈新峵 - 鼎元光电科技股份有限公司
  • 2022-06-01 - 2022-09-06 - H01L31/0352
  • 本实用新型提供了一种收光二极管,包括:半导体本体、第一电极、第二电极、抗反射层及绝缘层。半导体本体具有一衬底层及一磊晶层。磊晶层具有第一掺杂区域、第二掺杂区域及第三区域。抗反射层设于该半导体本体的顶侧表面用以接收一入射光。衬底层设置于抗反射层下方并接收通过抗反射层的入射光。衬底层掺杂有第三杂质并设置成能过滤吸收通过抗反射层的入射光中波长小于红外光波段的部分,而让该入射光中的红外光波段通过衬底层。
  • 二极管
  • [实用新型]太阳能电池-CN202220050791.9有效
  • 朱瑞;朱健;郝成龙;谭凤泽 - 深圳迈塔兰斯科技有限公司
  • 2022-01-10 - 2022-08-23 - H01L31/0352
  • 本申请提供了一种太阳能电池,属于光学技术领域。该太阳能电池包括超表面、二维材料层、正极、负极和衬底;其中,所述超表面包括阵列排布的纳米结构,且所述纳米结构为P型半导体;所述二维材料层包括具有直接带隙的N型二维半导体材料;所述正极、所述超表面、所述二维材料层和所述负极依次连接并设置于所述衬底的同一侧;其中,所述超表面位于所述二维材料层的上方,且所述超表面和所述二维材料层至少部分重叠,形成PN结。该太阳能电池利用超表面和二维材料层的共同作用,增加了太阳能的光能利用率,提升了太阳能的吸光效率。
  • 太阳能电池
  • [发明专利]硅基探测器及其制作方法-CN202210338297.7在审
  • 孙朋;傅剑宇;许高博;丁明正;殷华湘;陈大鹏 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-04-01 - 2022-08-19 - H01L31/0352
  • 本发明提供了一种硅基探测器及其制作方法,该硅基探测器通过设计氧化隔离层的厚度由中部凹槽处向边缘处呈递增趋势,由此使得在离子注入时,第一掺杂区边缘处的纵向掺杂深度比中间位置处的纵向掺杂深度要小,减小了注入区边缘位置处的曲率;此外缩短了注入区边缘位置硅氧界面处到第二电极层的距离,使该硅氧界面位置处固定电荷的电力线能部分终止于第二电极层处;提高了器件在受到X射线辐照总剂量效应下的击穿电压,降低器件的暗电流,使得硅基探测器具有较高的可靠性。
  • 探测器及其制作方法

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