专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]台面结构芯片的非接触式光刻方法-CN202210289083.5在审
  • 张轶;刘世光 - 中国电子科技集团公司第十一研究所
  • 2022-03-23 - 2022-07-12 - H01L31/0352
  • 本发明公开了一种台面结构芯片的非接触式光刻方法。台面结构芯片的非接触式光刻方法,包括:在芯片的任意两个台面结构之间形成的凹槽处设置遮挡结构。遮挡结构的上表面与台面结构的上表面平齐。对设置有遮挡结构的芯片进行非接触式光刻工艺。采用本发明,通过将台面结构之间形成的凹槽处设置遮挡结构,可以使得光刻机自动对焦时能够将曝光焦面固定的定位于台面结构的上表面,解决非接触式光刻过程中曝光焦面定位不准确所造成的曝光质量差的问题,实现台面结构芯片的高质量非接触光刻。
  • 台面结构芯片接触光刻方法
  • [发明专利]石墨烯/双层碲烯/硼烯范德华异质结光电二极管器件-CN202110746535.3有效
  • 贺园园;程娜;赵健伟 - 嘉兴学院
  • 2021-07-01 - 2022-07-12 - H01L31/0352
  • 本发明涉及一种石墨烯/双层碲烯/硼烯范德华异质结光电二极管器件,由单层石墨烯、双层碲烯和单层硼烯构成;沿水平方向D,双层碲烯自左至右由m1段、m2段和m3段组成,单层硼烯自左至右由n1段、n2段和n3段组成;单层石墨烯和m1段构成左电极区,m2段、m3段、n1段和n2段构成中心散射区,n3段构成右电极区;单层石墨烯沿水平方向D垂直堆叠在m1段上形成石墨烯/双层碲烯范德华异质结;m3段沿水平方向D垂直堆叠在n1段上形成双层碲烯/硼烯范德华异质结。本发明利用双层碲烯的晶格取向和水平施加电场的方向调控左电极与中心散射区间的横向肖特基势垒,增强光电二极管的整流效应,得到简易、高效的兼具高光探测率和高光响应度的异质结光电二极管。
  • 石墨双层硼烯范德华异质结光电二极管器件
  • [发明专利]一种高效P型IBC电池及其制备方法-CN202110014368.3在审
  • 石强;林纲正;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2021-01-06 - 2022-07-08 - H01L31/0352
  • 本发明公开了一种高效P型IBC电池,涉及太阳能电池技术领域。包括P型单晶硅层,P型单晶硅层的背面交替设置有正极区和负极区;P型单晶硅层的正面设置有N型单晶硅层,N型单晶硅层和P型单晶硅层相接处形成浮动结;N型单晶硅层的正面设置有钝化减反膜层;P型单晶硅层的背面设置有贯穿正极区和负极区的第一隧穿层,第一隧穿层的背面位于负极区内的部位设置有N型多晶硅层,N型多晶硅层的背面设置有第二隧穿层;第一隧穿层的背面位于正极区内的部位与第二隧穿层的背面设置有复合膜层;本发明还公开一种高效P型IBC电池的制备方法。本发明解决了P型IBC电池载流子复合多的问题,提高了电池的转换效率,降低了制造成本。
  • 一种高效ibc电池及其制备方法
  • [发明专利]一种超晶格纳米线、光电探测器及其制备方法-CN202111587749.7在审
  • 张诗豪;李绿周 - 中山大学
  • 2021-12-23 - 2022-07-01 - H01L31/0352
  • 本发明申请公开了一种超晶格纳米线、光电探测器及其制备方法,超晶格纳米线的制备方法包括:将硫化镉固体粉末和二氧化锡粉末进行配比、研磨并混合均匀,得到前驱体混合粉末;清洗硅衬底;将所述前驱体混合粉末置于所述管式炉的中心加热温区;在所述硅衬底上得到所述超晶格纳米线。通过制备两种材料交替构成的超晶格纳米线,并制备基于所述超晶格纳米线的光电探测器,使得在超晶格纳米线内形成内建电场,有效地将光生载流子进行分离,相较于基于一维纳米线的光电探测器,实现了具有高性能的自供偏振的光电探测性能,从而实现了较高的响应度、探测率以及偏振度,可广泛应用于光电子器件领域。
  • 一种晶格纳米光电探测器及其制备方法
  • [发明专利]太阳电池及生产方法、光伏组件-CN202011569070.0在审
  • 李华;刘继宇 - 泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
  • 2020-12-25 - 2022-07-01 - H01L31/0352
  • 本发明提供一种太阳电池及生产方法、光伏组件,涉及太阳能光伏技术领域。太阳电池包括:硅基底、第一氮化钛层以及第二氮化钛层;第一氮化钛层具有空穴选择性,第二氮化钛层具有电子选择性;第一氮化钛层和第二氮化钛层分别位于硅基底的向光面和背光面;或分别位于硅基底的背光面的第一区域和第二区域。本申请中,第一氮化钛层和第二氮化钛层用于载流子分离,无需对硅基底进行掺杂,从而避免了掺杂技术引起的不利因素,同时,由于第一氮化钛层和第二氮化钛层的生产工艺通常小于或等于500摄氏度,温度较低,减少了杂质,从而减少了由于杂质带入的额外的复合中心,使得少数载流子的寿命较长,进而降低了太阳电池的复合速率,提高了太阳电池的效率。
  • 太阳电池生产方法组件
  • [发明专利]一种提高光电转换效率的异质结电池-CN202210186569.6在审
  • 吴智涵;王永谦;林纲正;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2021-12-28 - 2022-06-28 - H01L31/0352
  • 一种提高光电转换效率的异质结电池,属于太阳能电池技术领域,包括n型硅基底,以及沉积于所述n型硅基底正背面的本征非晶硅;所述n型硅基底的正面自上而下依次设置有正面电极、第一TCO层、混合层以及本征非晶硅,且所述n型硅基底的背面自下而上依次设置有背面电极、第二TCO层、掺杂非晶硅以及本征非晶硅;其中,所述混合层包括第一p型掺杂非晶硅以及膜层,所述第一p型掺杂非晶硅采用镂空设计,所述膜层填充设置在所述第一p型掺杂非晶硅的镂空处,所述掺杂非晶硅为第一n型掺杂非晶硅;通过这种混合相的膜层设计,可以在保证HJT电池其它参数保持同一水平的前提下,打破HJT电池对于光生电流的上限,从而使其能够达到更高的转换效率。
  • 一种提高光电转换效率异质结电池
  • [发明专利]雪崩光电二极管及其制作方法-CN202210320625.0有效
  • 李宁;杨亮;王洪波;王勇 - 同源微(北京)半导体技术有限公司
  • 2022-03-30 - 2022-06-28 - H01L31/0352
  • 本发明实施例公开一种雪崩光电二极管及其制作方法,包括:第一导电类型的硅晶片;自硅晶片表面延伸至硅晶片中的第一导电类型的电荷阻挡区;形成在电荷阻挡区上的第一导电类型的第一外延层;自第一外延层远离硅晶片的表面延伸至第一外延层中的第二导电类型的欧姆接触区,其中欧姆接触区在硅晶片上的正投影与电荷阻挡区在硅晶片上的正投影交叠;形成在欧姆接触区上的抗反射层;形成在抗反射层中的过孔和形成在过孔中的阳极;以及形成在硅晶片远离电荷阻挡区的表面上的阴极。该实施方式通过提供延伸进入硅晶片中的电荷阻挡区和形成在电荷阻挡区上的第一外延层,欧姆接触区形成在第一外延层中,降低了产品工艺难度和成本。
  • 雪崩光电二极管及其制作方法
  • [发明专利]一种基于共振腔增强的位置敏感传感器-CN202011013269.5有效
  • 李建军;张令宇 - 北京工业大学
  • 2020-09-24 - 2022-06-24 - H01L31/0352
  • 一种基于共振腔的位置敏感传感器,属于半导体光电子领域。从上而下包括上电极、增透膜、上布拉格反射镜、谐振腔、下布拉格反射镜、N型衬底层、下公共电极。其中上布拉格反射镜由单层厚度分别为1/4谐振腔谐振波长的低折射率材料层和高折射率材料层交替组成,下布拉格反射镜由单层厚度分别为1/4谐振腔谐振波长的低折射率材料层和高折射率材料层交替组成。本发明通过上布拉格反射镜、谐振腔以及下布拉格反射镜形成的共振增强吸收结构,实现原材料消耗相对较少、抗干扰能力更强、响应速度更快的位置敏感传感器。
  • 一种基于共振增强位置敏感传感器
  • [发明专利]光检测装置及光检测系统-CN202210256626.3在审
  • 森本和浩;篠原真人 - 佳能株式会社
  • 2017-10-13 - 2022-06-21 - H01L31/0352
  • 本发明公开一种光检测装置及光检测系统,在该装置中,在平面图中,第一导电类型的第一半导体区域与第三半导体区域的至少一部分重叠,第二半导体区域与第二导电类型的第四半导体区域的至少一部分重叠,第三半导体区域的关于第一导电类型的电荷的电位的高度低于第四半导体区域的电位的高度,并且第一半导体区域的电位的高度与第三半导体区域的电位的高度之间的差大于第二半导体区域的电位的高度与第四半导体区域的电位的高度之间的差。
  • 检测装置系统
  • [发明专利]光检测装置及光检测系统-CN202210256628.2在审
  • 森本和浩;篠原真人 - 佳能株式会社
  • 2017-10-13 - 2022-06-21 - H01L31/0352
  • 本发明公开一种光检测装置及光检测系统,在该装置中,在平面图中,第一导电类型的第一半导体区域与第三半导体区域的至少一部分重叠,第二半导体区域与第二导电类型的第四半导体区域的至少一部分重叠,第三半导体区域的关于第一导电类型的电荷的电位的高度低于第四半导体区域的电位的高度,并且第一半导体区域的电位的高度与第三半导体区域的电位的高度之间的差大于第二半导体区域的电位的高度与第四半导体区域的电位的高度之间的差。
  • 检测装置系统

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