专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体激光器芯片腔面的镀膜方法-CN202110845340.4有效
  • 赵军;游顺青;陈锋 - 湖北光安伦芯片有限公司
  • 2021-07-26 - 2023-07-14 - C23C14/24
  • 本发明属于半导体激光器端面镀膜技术领域,具体涉及一种半导体激光器芯片腔面的镀膜方法,包括如下步骤:1)对待镀膜的芯片进行Bar条解理,夹条,并快速放进蒸发镀膜设备内,抽真空;2)对芯片的出光腔面进行离子源预清洗处理;3)在芯片的出光腔面上镀高增透膜系,高增透膜系至少包括第一Al层和第一AlOX层;具体是先镀Al层,然后利用离子源通入O2进行氧化处理;4)对芯片的背光腔面进行离子源预清洗处理;5)在芯片的背光腔面上镀高反膜系,反膜系至少包括第二Al层和第二AlOX层;先镀Al层,然后利用离子源通入O2进行氧化处理。本发明在芯片前后腔面镀Al层并进行部分氧化,达到保护激光半导体腔面的效果,进而避免腔面因氧化造成的可靠性问题。
  • 一种半导体激光器芯片镀膜方法
  • [发明专利]一种镀膜喷涂设备-CN202210904377.4有效
  • 崔应你;王勇;方青 - 合肥东昇机械科技有限公司
  • 2022-07-29 - 2023-07-14 - C23C14/24
  • 本发明涉及镀膜设备技术领域,公开了一种镀膜喷涂设备,包括蒸发盒所述蒸发盒的顶端设置有盒盖,所述盒盖上开设有多个喷孔,所述蒸发盒内设置有多个铝舟,所述蒸发盒的侧壁开设有滑槽,所述滑槽内滑动安装有支撑座,所述支撑座的一侧壁固定安装有注丝管,所述支撑座远离注丝管的侧壁设置有出丝管,所述出丝管与所述注丝管同轴设置,所述注丝管位于所述蒸发盒内,所述滑槽内设置有切割组件;本发明通过驱动机构和切割组件的设置,仅需一个出丝管即可向多个铝舟上输送铝丝,使得铝丝卷使用完毕后,仅需更换一次,提高了更换铝丝卷的效率,使用起来更加便捷。
  • 一种镀膜喷涂设备
  • [实用新型]一种真空镀膜机加热设备-CN202320709328.5有效
  • 张博;肖飞 - 成都中科德联真空科技有限责任公司
  • 2023-04-03 - 2023-07-14 - C23C14/24
  • 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体的说是一种真空镀膜机加热设备,包括转动盘,所述转动盘底部均匀固定安装有多个底座,底座内部对称贯穿开设有收纳槽,收纳槽内固定安装有固定环,收纳槽内滑动安装有挤压块,挤压块贯穿固定环,挤压块与固定环之间固定安装有第一弹簧,底座中部插接有加热管。活动块顶部为弧形设计,活动块顶部受到垂直力挤压时,弧形可产生分力使得活动块进入加热管内,安装时,直接将加热管插入底座中,即可实现加热管与底座的自锁固定,拆卸时,只需按压挤压块,使得挤压块进入底座内,拔出加热管即可,简单、便捷,有利于提高加热管的维修、安装效率。
  • 一种真空镀膜加热设备
  • [实用新型]一种真空蒸发镀膜系统蒸发源真空填料装置-CN202223498268.1有效
  • 孙旭 - 北京实创精仪科技有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-07-14 - C23C14/24
  • 本实用新型公开一种真空蒸发镀膜系统蒸发源真空填料装置,涉及真空元器件技术领域,包括填料室,填料室底部与真空室相连通;填料室顶部设置有填料室门,填料室门与填料室之间设置有密封圈,填料室与填料排气系统相连通。每次填料时间仅在一分钟左右,比传统的开门填料至少节约1小时左右,并且填料不破真空,不会对薄膜造成氧化,在提升效率的同时也提升了产品质量。可以任意填料,当配在带有进样室的真空蒸发镀膜机上时,理论上可以无限制填料,可以将生产效率提升至非常高的水平。
  • 一种真空蒸发镀膜系统填料装置
  • [发明专利]用于电子束源涂覆的坩埚盖-CN201880099905.5有效
  • C·克罗内贝格尔 - 磁性流体技术(美国)公司
  • 2018-11-30 - 2023-07-11 - C23C14/24
  • 盖结构包括用于覆盖电子束源组合件内的坩埚的至少两个部件。盖包括盖体和在盖体被升高和降低时将与盖体分开并由盖体承载的盖嵌件。该结构还使盖嵌件能降低到直到承靠在坩埚上为止。在盖嵌件与坩埚之间接触时,盖嵌件可部分地与盖体分离,从而使盖体能稍微进一步地向下行进,进而使其能与包围坩埚的水冷体接触,同时确保坩埚嵌件与坩埚良好接触。闭合该间隙有助于阻止从工作的坩埚袋蒸发的材料在蒸发过程期间迁移到位于盖下方的不活动袋。
  • 用于电子束源涂覆坩埚
  • [发明专利]一种用于蒸发舟的夹紧装置-CN202310298706.X在审
  • 向海洋;李庆国 - 四川海格锐特科技有限公司
  • 2023-03-24 - 2023-07-07 - C23C14/24
  • 本发明提供一种蒸发舟的夹紧装置,涉及镀膜设备的技术领域,包括阳极和公用电极,在所述阳极和所述公用电极之间夹持有蒸发舟,所述阳极远离蒸发舟的一端设有立板,所述立板上设有绝缘滑套,以使所述阳极端部能够在所述绝缘滑套内滑动;还包括引入电极,所述引入电极的一端穿过所述绝缘滑套与所述阳极刚性连接,所述引入电极还连接有调节组件,通过所述调节组件以使推动所述引入电极和所述阳极靠近或远离所述蒸发舟,使其夹紧或松开所述蒸发舟。
  • 一种用于蒸发夹紧装置
  • [发明专利]一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法-CN202310360438.X在审
  • 汤泽波;周峰;李俊;樊申松;程伟 - 安徽赛福电子有限公司
  • 2023-04-06 - 2023-07-07 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种THB抗氧化金属化薄膜,包括高分子聚合物基膜层,锌层,抗氧化油膜层,还包括极性官能团层,第一无定形三氧化二铝层,第二无定形三氧化二铝层,所述极性官能团层为高分子聚合物基膜层经过等离子体处理后,产生C‑O/C‑N,C=O/N‑C=O,O‑C=O等极性官能团,所述第一无定形三氧化二铝层为真空蒸镀的金属铝结合极性官能团里的氧形成,所述第二无定形三氧化二铝层位于锌层的外侧,为金属铝结合外界空气中氧而形成,所述抗氧化油膜层位于最外层。本发明金属化薄膜外层抗氧化油膜层和致密的无定形三氧化二铝层存在,保护了内侧的锌层不转化成氧化锌,在金属化薄膜使用前长期保存不氧化。
  • 一种thb氧化金属化薄膜及其制作方法
  • [发明专利]一种去除金(100)表面重构层的方法-CN202210984358.7有效
  • 刘衍朋;张尔文;张伟 - 南京航空航天大学
  • 2022-08-17 - 2023-07-07 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种去除金(100)表面重构层的方法,包括如下步骤:将Au(100)单晶固定在钼板上;克努森扩散炉(K‑cell)除气;Au(100)基底预处理;确定克努森扩散炉和碲(Te)蒸发量的关系;在Au(100)表面少量沉积Te;进一步沉积Te;大量沉积Te。本发明首次提出了一种通过沉积Te原子来移除Au(100)表面重构层的方法。该方法在气压小于10‑9mbar的超高真空环境下,在不形成不规则Au纳米岛的情况下,实现Au(100)表面六方排列的重构层大规模可控的移除,最大可使Au(100)表面27/32的金原子暴露出来,并稳定维持本征的四方排列。
  • 一种去除100表面重构层方法
  • [实用新型]一种可移动的气相沉积设备-CN202320235774.7有效
  • 史卫民;高文贵;孙丹鸣;周江成;景堃 - 成都斯普智和信息技术有限公司
  • 2023-02-15 - 2023-07-07 - C23C14/24
  • 本实用新型公开了一种可移动的气相沉积设备,包括气相沉积主机、压力泵、真空泵、制冷机、控制台、供电主机,真空泵连通冷阱的排气口,冷阱的进气口与气相沉积主机上沉积仓的排气口连通;制冷机连接冷阱,对冷阱降温;压力泵与气相沉积主机的沉积仓仓盖升降气缸相连,控制台的电源分配单元连接有气相沉积主机、压力泵、真空泵、制冷机,输出电压给气相沉积主机、压力泵、真空泵、制冷机,控制台的电源分配单元连接有供电主机和380V外接电源接口,供电主机为发电机;气相沉积主机、压力泵、真空泵、冷阱、制冷机、供电主机集成设置在集成平台上,集成平台为无动力车辆的底架或机动车辆的车厢底架。
  • 一种移动沉积设备
  • [实用新型]一种薄膜材料样品的高通量制备装置-CN202320697398.3有效
  • 祝薇;韩广宇;邓元;郭思铭 - 北京航空航天大学
  • 2023-03-31 - 2023-07-07 - C23C14/24
  • 本实用新型提供一种薄膜材料样品的高通量制备装置,包括:壳体、材料释放装置、基台、固定掩膜板和活动掩膜板;材料释放装置设置在壳体的内腔中,用以向内腔中释放沉积材料的气相原子,基台具有位于在内腔中的承接面;固定掩膜板固定连接在承接面上,在固定掩膜板上设置有轴线与承接面的沉积孔,活动掩膜板体贴合在固定掩膜板的背对基台的表面上,在活动掩膜板上设置有能够与沉积孔相对应的流通孔,内腔中的气相原子能够通过流通孔进入沉积孔中,并在沉积孔内沉积在沉积表面上。其不仅结构简单、制作成本低廉,而且实现了小型化设计的要求,同时还具有便于操作的优点。
  • 一种薄膜材料样品通量制备装置
  • [发明专利]金属化薄膜、镀膜机及制备工艺-CN202310360440.7在审
  • 汤泽波;周峰;李俊;樊申松;程伟 - 安徽赛福电子有限公司
  • 2023-04-06 - 2023-07-04 - C23C14/24
  • 本发明涉及金属化薄膜、镀膜机及制备工艺,包括:高分子聚合物基膜层;多组金属化层,相互间隔设置于高分子聚合物基膜层上,所述金属化层包括活动区、设置在活动区中部的加厚区以及翘边区,所述翘边区位于活动区的两端;留边部,设置于相邻两组的金属化层之间的间隔区域上,用于衔接两组相邻的金属化层,所述留边部上喷涂有屏蔽油,所述翘边区的厚度大于屏蔽油的厚度,以防止屏蔽油向活动区方向扩散,本发明通过挡板的翘边区孔在金属化薄膜活动区外侧增加翘边区,相当于在屏蔽油两侧筑起了堤坝,阻止了留边部上的屏蔽油向活动区内部扩散,防止金属化层被油污染,形成金属化膜报废和退货。
  • 金属化薄膜镀膜制备工艺
  • [发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法和有机发光显示面板-CN202310365483.4在审
  • 董晴晴;范刘静 - 上海天马微电子有限公司
  • 2023-04-04 - 2023-07-04 - C23C14/24
  • 本发明涉及显示技术领域,公开了一种蒸镀装置、蒸镀方法和有机发光显示面板,蒸镀装置包括:蒸镀腔、以及位于蒸镀腔内的对位机构、待蒸镀基板、掩膜板、挡板和蒸镀源;待蒸镀基板和掩膜板相对设置,且待蒸镀基板和掩膜板固定于对位机构靠近蒸镀源的一侧,掩膜板位于待蒸镀基板靠近蒸镀源的一侧,对位机构同时带动待蒸镀基板和掩膜板移动;挡板位于掩膜板和蒸镀源之间,挡板包括开口,沿垂直于待蒸镀基板所在平面的方向,蒸镀源与开口至少部分交叠。本发明有利于减小蒸镀腔的体积,减少生产成本。
  • 装置方法有机发光显示面板

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