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- [发明专利]一种掩膜板制作方法及掩膜板-CN202210252156.3在审
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王云升
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深圳市柯宝原科技有限公司
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2022-03-15
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2023-07-21
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C23C14/24
- 本发明提供一种掩膜板制作方法及采用该方法制作形成的掩膜板，所述掩膜板制作方法包括：对作为掩膜的不锈钢片进行张网；对所述不锈钢片进行激光切割，形成需要的掩膜通孔图案；将切割好的不锈钢片焊接到掩膜板框上，去除多余部分获得掩膜板半成品；取另一不锈钢片制作保护片，对所述掩膜板半成品进行保护并打磨通孔边沿，清洗获得最终的掩膜板。由于本申请提供的掩膜板制作方法，采用打磨的方式去除了通孔边沿的毛刺等缺陷，提高了掩膜板的制造良率。本申请提供的掩膜板由于采用上述方法制作形成，避免了掩膜板通孔边沿毛刺等缺陷，因此能够提高掩膜板的质量和OLED蒸镀质量。
- 一种掩膜板制作方法
- [实用新型]一种带水冷结构的坩埚-CN202320871405.7有效
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李英魁
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四会市华源真空设备有限公司
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2023-04-18
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2023-07-21
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C23C14/24
- 本实用新型提供了一种带水冷结构的坩埚，包括坩埚座、底盖、隔板和转轴，所述坩埚座的上端面开设有坩埚槽，在该坩埚槽内安装有坩埚本体，所述底盖与坩埚座之间设置有密封圈，且底盖与坩埚座固定连接后形成一密封的腔体，隔板设置在该腔体内，且隔板将腔体分隔成进水腔和出水腔，在该进水腔内设置有螺旋状的流道墙，相邻的两个流道墙之间形成有冷却流道，所述转轴包括转轴套和进水管，转轴套与进水管之间形成有环形的出水流道，该出水流道与出水腔相连通，所述进水管与进水腔相连通。本实用新型具备结构简单，设计合理，方便操作，可以快速对多个坩埚本体同时进行散热，散热的效率高，且可以有效的提高真空镀膜的效率。
- 一种水冷结构坩埚
- [发明专利]加热装置、真空蒸镀机和蒸镀方法-CN202310336352.3在审
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臧世伟
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重庆金美新材料科技有限公司
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2023-03-30
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2023-07-18
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C23C14/24
- 本发明实施例提供一种加热装置、真空蒸镀机和蒸镀方法，所述加热装置包括加热源、蒸发器皿和盖体；所述加热源用于对所述蒸发器皿加热；所述蒸发器皿用于容纳并蒸发金属；所述盖体与所述金属的材质相同，所述盖体用于盖设于所述蒸发器皿的开口端，所述盖体上设有用于气体流通的孔隙，或者，所述盖体盖设于所述蒸发器皿的开口端时，所述盖体和所述蒸发器皿之间存在用于气体流通的孔隙；当所述加热装置工作时，所述盖体用于吸收所述蒸发器皿辐射的部分热量，并于所述金属蒸发之前熔化并落入所述蒸发器皿内。本发明实施例提供的加热装置、真空蒸镀机和蒸镀方法能够减少金属升温时段的热量损失，提高升温加热速度及加热效率，节约能源及生产成本。
- 加热装置真空蒸镀机方法
- [发明专利]一种蒸镀点源材料回收盒-CN202310484270.3在审
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严明会;李玉峰
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普诺逊真空科技（苏州）有限公司
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2023-04-28
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2023-07-18
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C23C14/24
- 本发明提出了一种蒸镀点源材料回收盒，涉及蒸镀技术领域。包括蒸镀设备以及点源，蒸镀设备内为蒸镀腔室；蒸镀设备且位于蒸镀腔室内设有基板，基板位于点源的喷射口上方；还包括底部开口的材料回收盒，材料回收盒设于蒸镀设备且位于蒸镀腔室内，材料回收盒罩设于点源上方，材料回收盒顶部设有蒸镀口，基板位于蒸镀口上方。采用本发明，其可以遮蔽在点源上，只暴露出蒸镀口位置。一方面，可以很大程度降低了薄膜材料成本，特别是对比较昂贵的薄膜材料，成本控制相当可观。另一方面，避免了在蒸镀工艺过程中点源和点源之间薄膜材料的交叉污染，从而能沉积性能更好的薄膜。再者，避免了热量损失，同时节省了二次蒸发的热量消耗。
- 一种蒸镀点源材料回收
- [实用新型]一种镀膜材料蒸发装置-CN202320229827.4有效
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孙连仲
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沈阳美誉科技有限公司
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2023-02-16
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2023-07-18
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C23C14/24
- 本实用新型公布了一种镀膜材料蒸发装置，包括底板、固定座、镀膜坩埚、储存皿和密封板，底板的顶部右侧固定安装有电极以及设置在电极两侧的偏转磁极，固定座固定连接在底板的顶部并位于电极的左侧，镀膜坩埚通过底部固接的转动块转动连接在固定座的顶部，且镀膜坩埚的顶部圆周均匀开设有六组放置腔，储存皿放置在对应的放置腔内，其中五个储存皿的顶部均设有密封板；本实用新型的有益效果是，在对其中一个储存皿内的镀膜药剂进行蒸发时，由于其它的储存皿顶部均被设置的密封板堵住，从而有效的避免了蒸发的镀膜药剂对其的镀膜药剂造成污染。
- 一种镀膜材料蒸发装置
- [发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法-CN202310029963.3在审
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竹中贵史;武田笃
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株式会社日本显示器
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2023-01-09
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2023-07-14
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C23C14/24
- 本发明涉及蒸镀装置及蒸镀方法。根据一个实施方式，在蒸镀方法中，准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板，其中，该隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部，将从第1蒸镀头喷出的第1材料的蒸气的扩展角度设定为第1角度，在所述处理基板上蒸镀所述第1材料，将从第2蒸镀头喷出的第2材料的蒸气的扩展角度设定为比所述第1角度大的第2角度，在蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀所述第2材料。
- 装置方法
- [发明专利]成膜装置、成膜单元和成膜方法-CN202080106929.6在审
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饭塚贵嗣
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饭塚贵嗣
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2020-11-06
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2023-07-14
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C23C14/24
- 本公开内容的主题是提供被配置成改善涂覆形成在基底中的孔的内周表面的膜的粘附性的成膜装置、成膜单元和成膜方法。成膜装置(1)包括：待容纳基底(2)的室(3)；设置在室(3)中的支撑体(4)，所述支撑体(4)被配置成支撑具有在垂直方向上开放的基底(2)的孔(20)的基底(2)；和设置在室(3)中的蒸发源(5)，所述蒸发源(5)具有待产生金属离子(50)的蒸发表面(520)。蒸发源(5)被安装成使得蒸发表面(520)指向相对于水平方向倾斜的指定方向(D1)，并且基底(2)的孔(20)的内周表面(200)的一部分定位在蒸发表面(520)指向的该指定方向(D1)上。
- 装置单元方法
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