[发明专利]一种框架结构在审

专利信息
申请号: 202310923366.5 申请日: 2023-07-26
公开(公告)号: CN116666344A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 宋贵波;黄泽军 申请(专利权)人: 深圳市锐骏半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/31
代理公司: 深圳市诺正鑫泽知识产权代理有限公司 44689 代理人: 苏惠
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤海街道*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 框架结构
【权利要求书】:

1.一种框架结构,包括塑封体(1)和芯片(3),其特征在于:还包括电连接材料(4)、第一框架(5)和第二框架(6),芯片(3)设置在第一框架(5)上,且芯片(3)的底端与第一框架(5)电性连接,电连接材料(4)的一端与芯片(3)连接,电连接材料(4)的另一端与第二框架(6)连接,塑封体(1)塑封在芯片(3)、电连接材料(4)、第一框架(5)和第二框架(6)的外侧,第一框架(5)和第二框架(6)的两端伸出塑封体(1)的外侧,被塑封体(1)包裹的第一框架(5)和第二框架(6)的底部均设置为粗糙结构面,粗糙结构面设置为内凹的粗糙面结构,粗糙结构面增加第一框架(5)和第二框架(6)与塑封体(1)的粘合力,防止塑封体(1)与第一框架(5)和第二框架(6)分层,框架结构为功率二极管芯片框架结构。

2.根据权利要求1所述的一种框架结构,其特征在于:第一框架(5)和第二框架(6)均为铜片,第一框架(5)和第二框架(6)分别作为芯片的正负两极。

3.根据权利要求2所述的一种框架结构,其特征在于:内凹的粗糙面结构由冲压模具冲压在铜片上一体成型设置。

4.根据权利要求2所述的一种框架结构,其特征在于:内凹的粗糙面结构设置为内凹麻点结构、内凹网格结构或者内凹蜂窝结构。

5.根据权利要求3所述的一种框架结构,其特征在于:内凹的粗糙面结构的内凹深度为铜片厚度的百分之五至百分之十二。

6.根据权利要求4所述的一种框架结构,其特征在于:内凹麻点结构由若干个向内凹陷的半球体面构成, 半球体面与半球体面之间间隔设置,半球体面与半球体面的间隔距离大于等于半球体面半径的二分之一。

7.根据权利要求4所述的一种框架结构,其特征在于:内凹网格结构内的网格为正方形、长方形或者等边三角形,网格与网格之间的间距为0.01-0.02mm。

8.根据权利要求1所述的一种框架结构,其特征在于:第一框架(5)和第二框架(6)的厚度为0.2-0.8mm,第一框架(5)设置为负极框架,第二框架(6)设置为正极框架。

9.一种功率管框架结构,其特征在于:包括塑封体(1)和若干块芯片(3)、电连接材料(4)、第一框架(5)和第二框架(6),芯片(3)为功率管芯片,若干块功率管芯片并排设置在第一框架(5)上,且若干块芯片(3)的底端与第一框架(5)电性连接,电连接材料(4)的一端与若干块芯片(3)连接,电连接材料(4)的另一端与第二框架(6)连接,塑封体(1)塑封在芯片(3)、电连接材料(4)、第一框架(5)和第二框架(6)的外侧,第一框架(5)和第二框架(6)的两端伸出塑封体(1)的外侧,被塑封体(1)包裹的第一框架(5)和第二框架(6)的底部均设置为粗糙结构面,粗糙结构面增加第一框架(5)和第二框架(6)与塑封体(1)的粘合力,防止塑封体(1)与第一框架(5)和第二框架(6)分层,若干块功率管芯片并联设置。

10.根据权利要求9所述的一种功率管框架结构,其特征在于:电连接材料(4)为铝线、铝带或者铜带,每块功率管芯片设置若干条电连接材料(4)与第二框架(6)连接。

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