[发明专利]一种半导体芯片电镀装置在审

专利信息
申请号: 202310453905.3 申请日: 2023-04-24
公开(公告)号: CN116397308A 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 李联勋;刘文龙;李海凤 申请(专利权)人: 安徽积芯微电子科技有限公司
主分类号: C25D17/04 分类号: C25D17/04;C25D17/06;C25D21/10;C25D7/12
代理公司: 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 代理人: 田浩
地址: 233000 安徽省蚌埠市中国(安徽)自*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 芯片 电镀 装置
【说明书】:

本发明公开了一种半导体芯片电镀装置,包括底座和主体支架,主体支架横跨设置在底座上方,底座上端设置有加热座,加热座上端放置有电镀槽箱;主体支架上端固定安装有竖直向下的驱动缸,所述驱动缸输出端固定连接有摆动部件,所述摆动部件上固定连接有上压盖,所述摆动部件用于驱动上压盖水平往复移动;所述上压盖下端固定安装有多组夹持部件,所述夹持部件用于夹紧晶圆芯片;上压盖上安装有搅拌部件,所述搅拌部件用于对电镀液进行搅拌,本发明晶圆芯片在移动过程中不会直接受到电解液的阻力,移动时的阻力被弧形夹板所阻挡,不会发生晶圆芯片夹持过松发生掉落或者夹持过紧导致损坏的情况,确保晶圆芯片电镀效果的同时起到保护的作用。

技术领域

本发明涉及芯片电镀加工技术领域,具体涉及一种半导体芯片电镀装置。

背景技术

晶圆(Wafer)是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。在晶圆上电镀一层导电金属,并对导电金属层进行加工以制成导电线路,电镀是制作这些金属层的关键工艺之一,晶圆电镀是将晶圆置于电镀液中,将电压负极施加到晶圆上预先制作好的薄金属层,将电压正极施加到可溶解或不可溶解的阳极上,通过电场作用使得镀液中的金属离子沉积到晶圆表面。

申请号为202120223276.1的中国专利公开了一种半导体芯片电镀装置,其通过在电镀槽的内部安装内箱体,同时在内箱体的侧表面安装个倾斜35°的叶片,并且内箱体通过驱动电机配合驱动轴进行驱动,因此使得在电镀槽内部的电解液始终处于流动状态,从而使得晶圆片在进行电镀操作时能够与电解液充分接触,进而提高晶圆片的电镀效率,然而在该技术方案中,晶圆芯片在电镀槽内转动时,其芯片的径向面直接与电镀液接触,芯片转动时受到的阻力较大,当芯片夹持过松时则会导致在转动电镀过程中掉落,而夹持过紧则容易将芯片压坏,并且对芯片的夹持尺寸不能调节,无法适应对不同规格芯片的电镀加工。

发明内容

本发明的目的在于提供一种半导体芯片电镀装置,解决防止芯片在电镀过程中掉入电解液中的技术问题。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

一种半导体芯片电镀装置,包括底座和主体支架,所述主体支架横跨设置在底座上方,所述底座上端设置有加热座,所述加热座上端放置有电镀槽箱;所述主体支架上端固定安装有竖直向下的驱动缸,所述驱动缸输出端固定连接有摆动部件,所述摆动部件上固定连接有上压盖,所述摆动部件用于驱动上压盖水平往复移动;

所述上压盖下端固定安装有多组夹持部件,所述夹持部件用于夹紧晶圆芯片;

所述上压盖上安装有搅拌部件,所述搅拌部件用于对电镀液进行搅拌。

作为本发明进一步的方案:所述摆动部件包括固定设置在驱动缸输出端的摆动支架,所述摆动支架上固定安装有驱动电机,所述驱动电机的输出端固定连接有螺纹丝杆,所述螺纹丝杆上螺纹连接有两组螺纹滑块,所述螺纹滑块滑动连接在摆动支架上。

作为本发明进一步的方案:所述上压盖包括固定连接在螺纹滑块下端的连接块,所述连接块下端固定设置有上盖板,所述上盖板沿着长边的两侧均固定设置有竖直向下的侧挡板。

作为本发明进一步的方案:所述夹持部件包括夹持座,所述夹持座上滑动设置有两组夹持连板,所述夹持连板下端固定设置有弧形夹板。

作为本发明进一步的方案:所述夹持座内固定设置有连接杆,所述连接杆上滑动设置有两组连接滑块,两组夹持连板固定连接在同侧的连接滑块上,两组夹持连板之间通过弹簧相连。

作为本发明进一步的方案:所述搅拌部件包括搅拌支板,所述搅拌支板固定安装在弧形夹板外侧,所述搅拌支板远离弧形夹板一侧的下部固定设置有搅拌轴一,所述搅拌轴一上转动安装有搅拌翅片。

作为本发明进一步的方案:所述搅拌部件包括转动安装在上压盖上的多个搅拌轴二,所述搅拌轴二下端固定设置有搅拌连杆,所述搅拌连杆上设置有多个搅拌支杆;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽积芯微电子科技有限公司,未经安徽积芯微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310453905.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top