[发明专利]显示模组及其制备方法、掩膜板组件在审

专利信息
申请号: 202210343650.0 申请日: 2022-03-31
公开(公告)号: CN114709192A 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 陈南豪;陈军涛;张毅;徐倩;黄琰;李灵通;魏立恒 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 模组 及其 制备 方法 掩膜板 组件
【权利要求书】:

1.一种显示模组,其特征在于,包括:基板、以及层叠的第一标记组层和第二标记组层;

所述第一标记组层设置于所述基板的一侧,所述第二标记组层用于朝向对位装置并与所述对位装置具有第一识别距离,所述层叠的第一标记组层和第二标记组层用于供所述对位装置识别并对位。

2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一标记组层包括:第一光学标记组层;所述第二标记组层包括:第二光学标记组层;

所述第一光学标记组层与所述第二光学标记组层中尺寸较小的一个在所述基板上的正投影,落入所述第一光学标记组层与所述第二光学标记组层中尺寸较大的一个在所述基板上的正投影范围内。

3.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述第一光学标记组层的材料与所述第二光学标记组层的材料相同。

4.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述第一光学标记组层包括:同层设置的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记;所述第二光学标记组层包括:同层设置的第二层第一光学标记和第二层第二光学标记;

所述第一层第一光学标记的尺寸小于所述第一层第二光学标记的尺寸;所述第二层第二光学标记的尺寸小于所述第二层第一光学标记的尺寸;

所述第一层第一光学标记在所述第二层第一光学标记上的正投影,落于所述第二层第一光学标记范围内;

所述第二层第二光学标记在所述第一层第二光学标记上的正投影,落入所述第一层第二光学标记范围内。

5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括:第三光学标记组层;所述第一光学标记组层还包括:第一层第三光学标记;所述第三光学标记组层包括:第三层第三光学标记;

所述第一层第一光学标记的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸;所述第二层第二光学标记的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸;所述第三层第三光学标记的尺寸小于所述第一层第三光学标记的尺寸。

6.根据权利要求5所述的显示模组,其特征在于,所述第二光学标记组层还包括:第二层第三光学标记;所述第三光学标记组层还包括:第三层第一光学标记和第三层第二光学标记;

所述第三层第三光学标记的尺寸小于第三层的其他光学标记的尺寸。

7.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,每一层的各个光学标记的尺寸均不相同。

8.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述第一光学标记组层的材料与所述第二光学标记组层的材料为第一颜色发光材料、第二颜色发光材料和第三颜色发光材料中的两种。

9.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一标记组层包括:垫层;所述第二标记组层包括:同层设置的至少一个光学标记;

所述光学标记在所述垫层上的正投影,均落入所述垫层范围内。

10.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一标记组层包括:同层设置的至少一个电极标记;所述第二标记组层包括:同层设置的至少一个光学标记;

所述电极标记位于所述光学标记的中间区域与所述基板之间;所述光学标记的边缘区域与所述基板连接。

11.一种用于制备权利要求4-6中任一项所述的显示模组的掩膜板组件,其特征在于,包括:第一层掩膜板和第二层掩膜板;

所述第一层掩膜板与所述第二层掩膜板具有对应且尺寸一致的像素开口;

所述第一层掩膜板还具有第一层第一光学标记开口和第一层第二光学标记开口;所述第一层第一光学标记开口的尺寸小于所述第一层第二光学标记开口的尺寸;

所述第二层掩膜板还具有第二层第一光学标记开口和第二层第二光学标记开口;所述第二层第二光学标记开口的尺寸小于所述第二层第一光学标记开口的尺寸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210343650.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top