[发明专利]检查方案的自动优化

权利要求书

1.一种可用于检查半导体样本的检查方案的自动优化的计算机化系统，所述系统包括：

存储单元，经配置为存储：i)一个或多个检验图像，每个检验图像表示所述半导体样本的至少一部分，所述一个或多个检验图像指示使用包括在所述检查方案中的第一分类器从缺陷图中选择的相应缺陷候选；ii)标签数据，所述标签数据分别与所述一个或多个检验图像相关联并且提供所述相应缺陷候选的类型的信息；以及

处理和存储器电路系统(PMC)，操作地连接到所述存储单元并且被配置为：

提取表征所述一个或多个检验图像的检验特征；

使用所述检验特征和所述标签数据重新训练所述第一分类器，从而产生第二分类器；以及

通过用所述第二分类器替换所述第一分类器来优化所述检查方案；

其中所述经优化的检查方案可用于检查后续的半导体样本。

2.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述缺陷图由检验工具生成并且指示所述半导体样本上的缺陷候选分布。

3.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述相应缺陷候选的所述类型中的每一者指示以下各项中的至少一项：感兴趣的缺陷(DOI)、噪扰和相应缺陷候选的类别。

4.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述检验特征包括由使用一组训练检验图像预先训练以提取所述一组训练检验图像的代表性特征的无监督模型提取的第一特征。

5.如权利要求4所述的计算机化系统，其中所述第一分类器使用具有相应关联的标签数据的所述一组训练检验图像中的一个或多个训练检验图像来预先训练。

6.如权利要求4所述的计算机化系统，其中所述检验特征进一步包括由监督模型提取的第二特征，所述监督模型使用具有相应关联的标签数据的所述一组训练检验图像中的一个或多个训练检验图像来预先训练以确定缺陷候选的类型。

7.如权利要求6所述的计算机化系统，其中所述第二特征包括以下各项中的至少一项：i)表征所述一个或多个检验图像的特征向量，以及ii)指示检验图像上的每个给定缺陷候选属于特定类型的概率的标签预测特征。

8.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述PMC经配置为除了所述检验特征和所述标签数据之外，还使用包括以下各项中的至少一项的第三特征来重新训练所述第一分类器：工具特征、缺陷特征和样本特征。

9.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述PMC进一步经配置为在所述重新训练所述第一分类器之前使用所述一个或多个检验图像和所述标签数据来重新训练所述无监督模型和/或所述监督模型。

10.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述PMC进一步经配置为基于一个或多个参数来确定是否优化所述检查方案，并且响应于肯定的确定来执行所述优化和使用。

11.如权利要求10所述的计算机化系统，其中所述一个或多个参数包括方案更新频率、方案性能历史、客户策略和情况分析。

12.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述检查方案进一步包括至少附加的第一分类器，并且所述PMC进一步经配置为执行所述获得、提取和重新训练以用于生成对应于所述至少附加的第一分类器的至少附加的第二分类器，并且用所述第二分类器和所述至少附加的第二分类器来优化所述检查方案。

13.如权利要求1所述的计算机化系统，其中所述存储单元存储由多个检验工具捕获的多个检验图像，并且其中所述第一分类器的所述重新训练根据基于多个性能参数选择的工作点，所述多个性能参数包括指示所述多个检验工具之间的变化的工具间差异参数。