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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]高吞吐量缺陷检测-CN202310458465.0在审
发明人： B·戈尔伯格 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：一种用于高吞吐量缺陷检测的方法，所述方法可包括(i)使用第一检测通道通过包括多个光瞳平面段的分段光瞳平面执行同时检查工艺以从多个光瞳平面段中选择一个或多个感兴趣光瞳平面段；(ii)配置与第二检测通道相关的一个或多个可配置滤波器以通过从所述一个或多个感兴趣光瞳平面段接收的辐射并阻挡从一个或多个非感兴趣光瞳平面段接收的辐射；以及(iii)使用所述第二检测通道执行部分掩蔽光瞳平面检查工艺。
吞吐量缺陷检测

[发明专利]检查样本的方法和其系统-CN202011609247.5有效
发明人：尤塔姆·索弗;肖尔·恩格勒;波阿斯·科恩;萨尔·沙比;阿米尔·巴尔;马塞洛·加布里埃尔 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：提供了一种用于检查样本的系统、方法和计算机可读介质，所述方法包括：从检验工具接收的潜在缺陷群组中选择的审查子集获得关注缺陷(DOI)和错误报警(FA)，每个潜在缺陷与属性值相关联，所述属性值定义潜在缺陷在属性空间中的位置；产生所述群组的代表子集，包括根据潜在缺陷在属性空间中的分布来选择的潜在缺陷，并且将代表子集中的潜在缺陷指示为FA；和在使用提供DOI的属性值、代表子集的潜在缺陷、和其作为DOI或FA的相应指示的信息的数据训练分类器之后，将分类器应用于至少一些潜在缺陷以获得对样本中的预期DOI的数量的估计。
检查样本方法系统

[发明专利]用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法-CN202310708052.3在审
发明人：伊里特·拉奇-尼尔;迈克尔·艾伦;盖伊·伊坦;马根·雅科夫·舒曼 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01N30/72 文献下载
摘要：一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器。所述清洁度监测器可包括质谱仪、分子聚集和释放单元、以及分析器。所述分子聚集和释放单元被配置为(a)在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放。所述质谱仪被配置为：监测所述真空腔室内的环境，和产生指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集指示所述有机分子的所述子集的存在。所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的清洁度。
用于监测空腔清洁监测器方法

[发明专利]确定三维信息-CN202110287046.6有效
发明人： A·黎凡特;R·比斯特里泽 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01B15/04 文献下载
摘要：公开了用于确定基板的结构元件的三维(3D)信息的方法、非暂时性计算机可读介质和系统。
确定三维信息

[发明专利]检查方案的自动优化-CN202110592645.9有效
发明人： A·巴尔 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：提供了检查方案的自动优化的系统和方法。所述方法包括：获得一个或多个检验图像，每个检验图像表示半导体样本的至少一部分，一个或多个检验图像指示使用包括在检查方案中的第一分类器从缺陷图选择的相应缺陷候选；获得分别与一个或多个检验图像相关联并且提供相应缺陷候选的类型的信息的标签数据；提取表征一个或多个检验图像的检验特征；使用第一特征和标签数据重新训练第一分类器，从而产生第二分类器；以及通过用第二分类器替换第一分类器来优化检查方案；其中经优化的检查方案可用于检查后续的半导体样本。
检查方案自动优化

[发明专利]测量形成在非导电区域中的孔的高度轮廓-CN201910502157.7有效
发明人：康斯坦丁·奇科;奥里特·哈瓦阿蒙·赫什科维奇 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2019-06-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01B15/04 文献下载
摘要：一种用于测量空穴的系统、计算机程序介质和方法。所述方法可以包括：对具有纳米宽度的空穴附近进行充电；获得所述空穴的多个电子图像；其中每个电子图像通过感测超过与所述电子图像相关联的电子能量阈值的电子能量的电子形成；其中与所述多个电子图像中的不同电子图像相关联的电子能量阈值彼此不同；接收或生成高度值与所述电子能量阈值之间的映射；处理所述多个电子图像以提供空穴测量；以及基于所述映射和所述空穴测量而生成所述空穴的三维测量。
测量形成导电区域中的高度轮廓

[发明专利]确定隐藏结构元素背景的深度-CN202310324375.2在审
发明人： L·阿克曼;V·库切克 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N23/225 文献下载
摘要：一种用于确定对象的隐藏结构元素的深度的方法，所述方法可包括：(i)获得有关在(a)指示从隐藏结构元素发射的电子的隐藏结构元素检测信号与(b)指示从隐藏结构元素的周围环境发射的电子的周围环境检测信号之间的对比度的对比度信息；其中隐藏结构元素检测信号和周围环境检测信号是作为用照射电子束对对象的区域的扫描的结果检测到的；其中所述区域包括隐藏结构元素和周围环境；以及(ii)至少部分地基于对比度信息来确定隐藏结构元素的深度。
确定隐藏结构元素背景深度

[发明专利]基于扫描电子显微镜和声光的混合计量-CN202310373232.0在审
发明人： G·舒瓦茲;O·戈拉尼;I·沙尼;I·阿尔莫格 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N23/2251 文献下载
摘要：本文公开了一种用于基于声光和扫描电子显微镜的非破坏性混合计量的方法。该方法包括：(i)获得样品上被检查结构的声光和扫描电子显微镜测量数据；(ii)处理测量数据，以分别提取与声光测量数据和扫描电子显微镜测量数据相对应的关键测量参数的值；以及(iii)通过将所提取的值输入到算法中来获得被检查结构的一个或多个结构参数的估计值，该算法被配置为联合处理所提取的值以输出一个或多个结构参数的估计值。
基于扫描电子显微镜声光混合计量

[发明专利]高分辨率X射线光谱仪表面材料分析-CN202280014353.X在审
发明人：耶胡达•祖尔 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：一种利用评估系统对样品的感兴趣区域进行X射线光谱表面材料分析的方法，该评估系统包括扫描电子显微镜(SEM)柱和X射线检测器，该方法包括：识别预期在感兴趣区域内的元素；基于经识别的元素为由SEM柱产生的带电粒子束选择着陆能量；用设定为选定着陆能量的带电粒子束扫描感兴趣区域；检测带电粒子束扫描感兴趣区域时产生的X射线；以及基于检测到的X射线产生经扫描的感兴趣区域的二维影像。
高分辨率射线光谱仪表面材料分析

[发明专利]基于机器学习的半导体样品的检查及其训练-CN202310263499.4在审
发明人： T·本－什洛莫;S·埃尔卡亚姆;S·科恩;T·H·佩雷德 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：提供了一种半导体样品的运行时检查的系统和方法。所述方法包括：获得表示样品的检验区域的运行时图像，所述运行时图像具有相对低的信噪比(SNR)；以及使用机器学习(ML)模型处理运行时图像以获得特定于给定检查应用的检查数据，其中ML模型先前使用一个或多个训练样本针对给定检查应用进行训练，每个训练样本表示共享与检验区域相同的设计模式的相应参考区域并包括：相应参考区域的具有相对低的SNR的第一训练图像；以及标签数据，所述标签数据指示相应参考区域中有关给定检查应用的真值，所述标签数据通过标注相应参考区域的具有相对高的SNR的第二训练图像来获得。
基于机器学习半导体样品检查及其训练

[发明专利]晶片的三维表面计量-CN202310273248.4在审
发明人： I·阿尔莫格;R·巴尔-奥尔;L·亚龙 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G01B15/04 文献下载
摘要：一种用于基于扫描电子显微镜和原子力显微镜的样品三维表面计量的基于计算机的方法。该方法包括：(i)使用扫描电子显微镜(SEM)来获得样品表面上的位点集合的SEM数据；(ii)使用原子力显微镜(AFM)来测量集合的校准子集中的位点的竖直参数；(iii)通过以下方式来校准配置成在位点的SEM数据作为输入馈送时估计位点的竖直参数的算法：确定算法的自由参数，使得算法估计的竖直参数和AFM测量的竖直参数之间的残差被约最小化；以及(iv)使用经校准算法来估计校准子集的补集中的位点的竖直参数。
晶片三维表面计量

[发明专利]检测稀有随机缺陷的系统与方法-CN202080014344.1有效
发明人： G·科恩 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2020-02-13 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于检测稀有随机缺陷的方法，所述方法可包括在基板的密集图案中搜寻稀有随机缺陷，其中稀有随机缺陷(a)是纳米级的，(b)以低于10‑9的缺陷密度出现在基板的功能性图案中，以及(c)以高于10‑7的缺陷密度出现在密集图案中；其中密集图案为功能性图案的密集表示，密集图案不同于功能性图案，不同之处在于(a)密集图案的特征之间的距离以及(b)密集图案的特征的宽度中的至少一者；以及基于搜寻的结果来估计功能性图案内的稀有随机缺陷的发生。
检测稀有随机缺陷系统方法

[发明专利]半导体样品制造的掩模检查-CN202310257817.6在审
发明人： V·奥韦奇金;A·什卡利姆;A·切列什尼亚;Y·奥尔;S·本雅科夫;R·麦德蒙 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：提供了一种检查可用于制造半导体样品的掩模的系统和方法。所述方法包括：获得包括表示候选缺陷的缺陷像素的原始缺陷图像以及候选缺陷的位置，以及在多个聚焦水平处获取的候选缺陷的缺陷图像库和参考图像库；在多个聚焦水平中确定最佳聚焦，并且在最佳聚焦处生成合成缺陷图像；将原始缺陷图像与合成缺陷图像对准，以识别合成缺陷图像中与缺陷像素相对应的目标像素的区域；并且针对每个聚焦水平，提供指示缺陷图像组与至少一个参考图像之间的位移的测量，从而产生对应于所述多个聚焦水平的多个测量结果。
半导体样品制造检查

[发明专利]灰度比检查-CN202310152831.X在审
发明人： E·S·托夫;U·阿布拉哈莫夫 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：一种用于灰度比检查的方法，包括：获取电子图像，该电子图像包括样本的感兴趣区域(ROI)的ROI像素和样本的参考区域的参考像素，其中ROI像素是通过用电子束照亮ROI获取的，并且参考像素是在没有用电子束照亮参考区域的情况下获取的；基于参考像素中的至少一些参考像素的值来计算参考暗水平值；响应于参考暗水平值，计算与ROI像素的第一子集相关的第一灰度值和与ROI像素的第二子集相关的第二灰度值之间的灰度比；确定灰度比是否指示缺陷；以及在确定灰度比指示缺陷之后生成缺陷信息。
灰度检查

[发明专利]基于关注区域的缺陷检测-CN202310032591.X在审
发明人： S·考特卡尔;S·劳特;S·K·伊赛提;N·M·S·钱丹 -专利权人： 应用材料以色列公司
申请日： 2023-01-10 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供了辅助半导体样品上的缺陷检测的系统和方法。所述方法包括：获得提供管芯上的要检查的多个关注区域(CA)的信息的第一图；创建包围多个CA的多个边界矩形(BR)；以及将多个BR压缩为压缩矩形集合以满足预定义的检查容量，同时尝试最小化由压缩矩形集合包围的非CA区域，从而产生提供压缩矩形集合的信息的第二图。所述压缩包括构造表示多个BR和压缩矩形的R树结构，并且基于预定义的检查容量从R树结构中选择节点集合，所述节点集合表示压缩矩形集合。所述第二图可用于过滤指示管芯上的缺陷候选分布的缺陷图。
基于关注区域缺陷检测

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