[实用新型]一种碳化硅生长设备的两用真空系统有效
| 申请号: | 201920971321.4 | 申请日: | 2019-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN210117455U | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
| 发明(设计)人: | 周元辉;刘春艳;胡春霞;刘洪亮;刘洪涛;范子龙;高雅蕾;姜树炎 | 申请(专利权)人: | 苏州优晶光电科技有限公司 |
| 主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;F04B41/06 |
| 代理公司: | 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 | 代理人: | 蒋常雪 |
| 地址: | 215613 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 碳化硅 生长 设备 两用 真空 系统 | ||
本实用新型公开了一种碳化硅生长设备的两用真空系统,包括腔体、机械泵和干式真空泵,腔体连通的管道上安装有一个机械泵,干式真空泵的输入端连通两个真空管,两个真空管均连通在腔体上,其中一个真空管上还安装有分子泵和第二电磁式高真空阀门,分子泵连通在干式真空泵和第二电磁式高真空阀门之间,腔体还连通有气体管,气体管上安装有第一电磁式高真空阀门,腔体内还安装有检测装置;本实用新型的两用真空系统通过检测装置检测腔体中的气体含量、温度和压力,并通过控制箱分析后,相应的按比例调节腔体内的真空环境,可以精确的控制腔体内的真空环境,避免挥发物对系统的影响,还可以为碳化硅生产提供适宜的真空环境,以便于生产碳化硅。
技术领域
本实用新型涉及一种两用真空系统,特别涉及一种碳化硅生长设备的两用真空系统,属于碳化硅生产设备技术领域。
背景技术
通常晶体生长设备配备单一真空系统,即机械泵、扩散泵和高真空阀门组成的,用以完成后对炉腔真空状态下的工作,起到减少热量流失和炉腔内部部件氧化的作用,但是,在生产时,由于腔体内作为保温材料的石墨在做碳化处理时,将产生大量的挥发物,会对整个真空系统的阀门、控制元件以及扩散泵产生影响,降低了对炉腔内真空环境的精确控制,不利于生产。
实用新型内容
本实用新型提出了一种碳化硅生长设备的两用真空系统,解决了现有技术中的石墨在做碳化处理时,将产生大量的挥发物,会降低了对炉腔内真空环境的精确控制,不利于生产的问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:
本实用新型一种碳化硅生长设备的两用真空系统,包括腔体、机械泵和干式真空泵,所述腔体连通的管道上安装有一个机械泵,所述干式真空泵的输入端连通两个真空管,两个所述真空管均连通在腔体上,其中一个真空管上还安装有分子泵和第二电磁式高真空阀门,所述分子泵连通在干式真空泵和第二电磁式高真空阀门之间,所述腔体还连通有气体管,所述气体管上安装有第一电磁式高真空阀门,所述腔体内还安装有检测装置,所述检测装置电连接控制箱,所述控制箱电连接机械泵、第一电磁式高真空阀门、干式真空泵、分子泵和第二电磁式高真空阀门。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述干式真空泵的输入端通过一个三通连接头连通两个真空管,所述真空管与三通连接头的连接处还设置有密封圈。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述检测装置包括气体传感器、温度传感器和压力传感器。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述控制箱包括采集模块、51单片机、i7处理器和驱动板,采集模块采集检测装置发送的检测数据后,传送给i7处理器处理,i7处理器电连接51单片机和驱动板,驱动板电连接机械泵、第一电磁式高真空阀门、干式真空泵、分子泵和第二电磁式高真空阀门。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述51单片机为80C51单片机。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述两用真空系统还配有一个供电电源,所述供电电源通过电源分配器将一部分电源分配给腔体内的检测装置供电,另一部分电源分配给机械泵、第一电磁式高真空阀门、干式真空泵、分子泵和第二电磁式高真空阀门供电。
本实用新型所达到的有益效果是:本实用新型的一种碳化硅生长设备的两用真空系统与现有技术相比,具有以下的有益效果:
1、本实用新型的两用真空系统通过检测装置检测腔体中的气体含量、温度和压力,并通过控制箱分析后,相应的按比例调节腔体内的真空环境,可以精确的控制腔体内的真空环境,避免挥发物对系统的影响。
2、本实用新型的两用真空系统通过干式真空泵和分子泵,可以良好的吸取腔体内的气体,为碳化硅生产提供适宜的真空环境,以便于生产碳化硅。
附图说明
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