[发明专利]一种基于窗口式基板的无引线MEMS芯片封装结构及其工艺在审
| 申请号: | 201911036592.1 | 申请日: | 2019-10-29 |
| 公开(公告)号: | CN110759311A | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
| 发明(设计)人: | 杨健;刘鹏;马军;张光明 | 申请(专利权)人: | 太极半导体(苏州)有限公司 |
| 主分类号: | B81B7/00 | 分类号: | B81B7/00;B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司: | 32246 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 于浩江 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基板 共振腔 芯片 塑封结构 槽孔 倒装封装结构 封装过程 封装结构 工序顺序 生产效率 芯片倒装 倒置 窗口式 上表面 下表面 避让 倒装 塑封 锡球 封闭 优化 保证 生产 | ||
本发明公开了一种基于窗口式基板的无引线MEMS芯片封装结构及其工艺,结构包含基板、芯片、共振腔和塑封结构,所述共振腔设置在芯片的正面,芯片倒装在基板的上表面,使芯片的正面朝下,基板上设置有避让共振腔的槽孔,基板的下表面上设置有多个锡球;所述塑封结构将芯片和共振腔塑封在基板上,并将上述槽孔封闭;芯片通过倒装的方式安装在基板上,共振腔倒置使整体厚度大为缩减,可以满足厚度<1mm的设计需求;工艺根据上述倒装封装结构设计,工序顺序优化,在保证生产封装过程稳定可靠的前提下,提高生产效率。
技术领域
本发明涉及一种基于窗口式基板的无引线MEMS芯片封装结构及其工艺。
背景技术
目前,随着自动驾驶以及5G技术的发展,RF-MEMS技术的应用越来越普及,RF-射频就是射频电流,它是一种高频交流变化电磁波的简称,所谓RF-MEMS是用MEMS技术加工的RF产品。RF-MEMS技术可望实现和MMIC的高度集成,使制作集信息的采集、处理、传输、处理和执行于一体的系统集成芯片(SOC)成为可能。按微电子技术的理念,不仅可以进行圆片级生产、产品批量化,而且具有价格便宜、体积小、重量轻、可靠性高等优点。
RF-MEMS器件主要可以分为两大类:一类称为无源MEMS,其结构无可动零件;另一类称为有源MEMS,有可动结构,在电应力作用下,可动零件会发生形变或移动。
射频微机电系统(RF-MEMS)是MEMS技术的重要应用领域之一,也是二十世纪九十年代以来MEMS领域的研究热点。RF-MEMS用于射频和微波频率电路中的信号处理,是一项将能对现有雷达和通讯中射频结构产生重大影响的技术。随着信息时代的来临,在无线通信领域,特别是在移动通信和卫星通信领域,正迫切需要一些低功耗、超小型化且能与信号处理电路集成的平面结构的新型器件,并希望能覆盖包括微波、毫米波和亚毫米波在内的宽频波段。而目前的通讯系统中仍有大量不可或缺的片外分立元件,例如电感、可变电容、滤波器、耦合器、移相器、开关阵列等,成为限制系统尺寸进一步缩小的瓶颈,RF-MEMS技术的出现有望解决这个难题。采用RF-MEMS技术制造的无源器件能够直接和有源电路集成在同一芯片内,实现射频系统的片内高集成,消除由分立元件带来的寄生损耗,真正做到系统的高内聚,低耦合。
现有的RF-MEMS封装技术如附图1所示,包括基板11、芯片12、共振腔13、塑封结构14和键合线15,共振腔13设置在芯片12的上表面,芯片12设置在基板11的上表面,并通过键合线15与基板11电连接,塑封结构14将芯片12和共振腔13塑封在基板11上;这种封装方式结构简单,可靠性高,封装成本低,但由于共振腔13的高度和尺寸的特殊性,造成整体封装厚度>1.8 mm,而当下封装设计厚度需要<1mm,现有的封装结构无法达到此要求。
发明内容
针对上述存在的技术问题,本发明的目的是:提出了一种基于窗口式基板的无引线MEMS芯片封装结构及其工艺。
本发明的技术解决方案是这样实现的:一种基于窗口式基板的无引线MEMS芯片封装结构,包含基板、芯片、共振腔和塑封结构,所述共振腔设置在芯片的正面,芯片倒装在基板的上表面,使芯片的正面朝下,基板上设置有避让共振腔的槽孔,基板的下表面上设置有多个锡球;所述塑封结构将芯片和共振腔塑封在基板上,并将上述槽孔封闭。
优选的,所述芯片通过锡焊倒装在基板上。
优选的,所述塑封结构的厚度小于1mm。
一种基于窗口式基板的无引线MEMS芯片封装工艺,包含以下步骤:
①提供晶元,并在晶元的正面粘贴层压胶带,保护电路区域;
②对晶元的背面进行磨削,使其达到封装要求的厚度;
③晶元锯片;
④提供基板,并在基板的每个安装芯片的位置上加工槽孔,并布置锡焊;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太极半导体(苏州)有限公司,未经太极半导体(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911036592.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





