[发明专利]半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910026192.6 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN110797327A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 余振华;邱文智 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L25/18;H01L21/98
代理公司: 32243 南京正联知识产权代理有限公司 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成电路组件 半导体装置 包封体 电连接 堆叠 介电 包封 制造
【说明书】:

提供一种包括第一集成电路组件、第二集成电路组件、第三集成电路组件及介电包封体的半导体装置。第二集成电路组件堆叠在第一集成电路组件上且电连接到第一集成电路组件。第三集成电路组件堆叠在第二集成电路组件上且电连接到第二集成电路组件。介电包封体在侧向上包封第二集成电路组件或第三集成电路组件。另外,提供上述半导体装置的制造方法。

技术领域

发明的实施例是有关于一种半导体装置及其制造方法,特别是有关于一种包括堆叠的集成电路组件的半导体装置及其制作方法。

背景技术

当前,三维集成电路(three-dimensional integrated circuit,3D-IC)组件在多个半导体管芯彼此堆叠的半导体封装(例如层叠式封装(package-on-package,PoP)及系统封装(system-in-package,SiP)封装技术)中得到广泛开发。举例来说,三维集成电路组件的一些优势包括展现出较小的占用面积,通过减小信号内连线的长度减少电力消耗,提高良率及降低制作成本。随着半导体技术的进一步进步,进行芯片到晶片(chip-to-wafer)结合或晶片到晶片(wafer-to-wafer)结合的结合技术用在三维集成电路组件的制作中。举例来说,在晶片到晶片结合技术中,已开发出各种方法来将两个封装组件(例如晶片)结合在一起。混合结合(hybrid bonding)是用于三维集成电路的一种结合技术类型,其中使用混合结合技术来将两个半导体晶片结合在一起。

发明内容

根据本发明的一些实施例,提供一种包括第一集成电路组件、第二集成电路组件、第三集成电路组件及介电包封体的半导体装置。所述第二集成电路组件堆叠在所述第一集成电路组件上且电连接到所述第一集成电路组件。所述第三集成电路组件堆叠在所述第二集成电路组件上且电连接到所述第二集成电路组件。介电包封体在侧向上包封所述第二集成电路组件或所述第三集成电路组件。

根据本发明的一些实施例,提供一种半导体装置的制造方法。所述方法包括以下步骤。将多个集成电路组件与第一半导体晶片进行结合。在所述第一半导体晶片上形成介电包封体以在侧向上包封所述集成电路组件。在所述集成电路组件及所述介电包封体上形成结合层。将所述第二半导体晶片与所述结合层进行结合。

根据本发明的一些实施例,提供一种半导体装置的制造方法。所述方法包括以下步骤。将第一半导体晶片与第二半导体晶片进行结合。将多个集成电路组件与所述第二半导体晶片进行结合。在所述第二半导体晶片上形成介电包封体以在侧向上包封所述集成电路组件。

附图说明

结合附图进行阅读,从以下详细说明最好地理解本发明的各方面。注意,根据行业中的标准惯例,各种特征并不按比例绘制。事实上,出于论述清晰起见,可任意地增大或减小各种特征的尺寸。

图1到图7是示出根据本发明的一些示例性实施例的半导体装置的制造方法的各个阶段的示意性剖视图。

图8是示出根据本发明的一些示例性实施例的半导体装置的应用的示意性剖视图。

图9到图13是示出根据本发明的一些示例性实施例的半导体装置的制造方法的各个阶段的示意性剖视图。

图14到图18是示出根据本发明的一些示例性实施例的半导体装置的制造方法的各个阶段的示意性剖视图。

图19到图22是示出根据本发明的一些示例性实施例的半导体装置的制造方法的各个阶段的示意性剖视图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910026192.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top