[发明专利]一种透明导电层的制作方法及其发光二极管有效
| 申请号： | 201710841857.X | 申请日： | 2017-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN107706277B | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 何安和;林素慧;彭康伟 | 申请（专利权）人： | 厦门三安光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/42 | 分类号： | H01L33/42;H01L33/26;H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 透明 导电 制作方法 及其 发光二极管 | ||
1.一种透明导电层的制作方法，包括：
（1）提供一基材；
（2）在所述基材上形成第一厚度的透明导电层；
（3）对所述第一厚度的透明导电层进行减薄工艺，获得第二厚度的透明导电层；
其特征在于：所述步骤（3）之前，对所述第一厚度的透明导电层进行退火热处理，与基材实现欧姆接触。
2.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述第二厚度不超过第一厚度的50%。
3.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述第二厚度不超过第一厚度的25%。
4.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述第一厚度大于或者等于1200Å。
5.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述第二厚度介于100Å~600 Å。
6.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述第二厚度介于100 Å~300 Å。
7.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述步骤（1）中的基材包括衬底或者外延叠层或者它们的组合。
8.根据权利要求1所述的一种透明导电层的制作方法，其特征在于：所述步骤（3）中的减薄工艺包括蚀刻工艺或者研磨工艺或者抛光工艺或者激光工艺或者前述工艺的任意组合。
9.一种发光二极管，其特征在于，包括权利要求1~8中任一项所述的制作方法得到的透明导电层。
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