[发明专利]封装基板及其制法在审

专利信息
申请号: 201710252557.8 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN108735695A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 许哲玮 申请(专利权)人: 凤凰先驱股份有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/31;H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;章侃铱
地址: 开曼群岛*** 国省代码: 开曼群岛;KY
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导电柱 封装基板 绝缘层 堆迭 制法 线路结构 子装置 外露 包覆 制程 供电
【说明书】:

本公开提供一种封装基板及其制法,通过将电子元件与导电柱设于线路结构上,并形成包覆该电子元件与导电柱的绝缘层,且令该导电柱的端面外露于该绝缘层,以供电子装置堆迭于该封装基板的导电柱的端面上,借此缩减整体结构的堆迭高度及简化制程。

技术领域

发明有关一种封装结构,特别涉及一种封装基板及其制法。

背景技术

随着半导体封装技术的演进,半导体装置(Semiconductor device)已开发出不同的封装型态,而为提升电性功能及节省封装空间,遂开发出不同的立体封装技术,例如,封装堆迭(Package on package,简称PoP)等技术,以配合各种芯片上大幅增加的输入/出端数量,进而将不同功能的集成电路整合于单一封装结构,这种封装方式能发挥系统封装(SiP)异质整合特性,可将不同功用的电子元件,例如:存储器存储器、中央处理器、绘图处理器、影像应用处理器等,通过堆迭设计达到系统的整合,适合应用于轻超薄各种电子产品。

图1为悉知用于PoP的半导体封装件1的剖面示意图。如图1所示,该半导体封装件1于一具有线路层(图略)的封装基板10上设置多个半导体元件11,12,再将电子装置15通过多个导电柱13堆迭于该封装基板10上,之后形成封装胶体14于该封装基板10与该电子装置15之间,以包覆所述半导体元件11,12与所述导电柱13。

然而,悉知半导体封装件1中,于该封装基板10上方设置所述半导体元件11,12,故于堆迭该电子装置15时,需考量所述半导体元件11,12及所述导电柱13的高度,因而增加该半导体封装件1的整体封装高度,导致难以缩小该半导体封装件1的尺寸且制程复杂;再者,若所述导电柱13的高度不一致,将提高电子装置15的设置困难度,甚或影响产品的良率。

因此,如何克服悉知技术的种种缺点,实为目前各界亟欲解决的技术问题。

发明内容

鉴于上述悉知技术的缺失,本发明提供一种封装基板及其制法,借此缩减整体结构的堆迭高度及简化制程。

本发明的封装基板,包括:线路结构;设于该线路结构上的电子元件;设于该线路结构上的多个导电柱;以及形成于该线路结构上且包覆该电子元件及该导电柱的绝缘层,并令各该导电柱的端面外露出该绝缘层的上表面。

本发明复提供一种封装基板的制法,包括:于一线路结构上设置电子元件与多个导电柱;以及形成绝缘层于该线路结构上以包覆该电子元件与该导电柱,且令各该导电柱的端面外露于绝缘层的上表面。

前述的封装基板及其制法中,该导电柱的端面凸出该绝缘层的上表面,以供接置电子装置于该导电柱的端面上。

前述的封装基板及其制法中,该导电柱的端面复可齐平或低于该绝缘层的上表面,以供形成导电元件于该导电柱的端面上,用以接置电子装置。

前述的封装基板及其制法中,该线路结构为大版面形式。

由上可知,本发明的封装基板及其制法,主要通过该电子元件与该导电柱埋设于该封装基板中的设计,以大幅降低该封装基板上方的外露元件的高度,故相较于悉知技术,于堆迭该电子装置时,可缩减电子封装件的整体封装高度,以利于缩小该电子封装件的尺寸。

此外,由于该电子元件埋设于该封装基板中,故能缩短该电子元件与线路结构之间的导电路径,因而能达到电性提升的目的。

又,将该电子元件与导电柱嵌埋于该封装基板中,可简化后续封装流程(如省略悉知封装胶体的制作),以降低制作成本。

附图说明

图1为悉知半导体封装件的剖面示意图;以及

图2A至图2C为本发明的封装基板的一实施例的制法的剖面示意图;

图2D为应用本发明的封装基板的一实施例的剖面示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凤凰先驱股份有限公司,未经凤凰先驱股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710252557.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top