[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201480007030.3 | 申请日: | 2014-03-14 |
公开(公告)号: | CN104981903B | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 内藤达也 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L21/336;H01L21/822;H01L29/06;H01L29/739;H01L29/78 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 万捷 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
技术领域
本发明涉及半导体装置。
背景技术
对于绝缘栅型双极晶体管(IGBT:Insulated Gate Bipolar Transistor)等功率半导体元件,有时会施加外来的浪涌电压、噪音电压、以及因功率半导体元件的动作而产生的电磁噪音等的浪涌电压。用保护用二极管来对该外来的浪涌电压、噪音电压以及电磁噪音等的浪涌电压等过大的电压进行箝位,以防止对功率半导体元件施加过大的电压,由此在形成有功率半导体元件的半导体装置中实现较高的破坏耐量。
形成有功率半导体元件的半导体装置例如搭载于内燃机用点火装置。对内燃机用点火装置的主要部分的电路结构进行说明。图9是表示内燃机用点火装置600的主要部分的电路结构的电路图。图9的矩形框Q所包围的部分是将作为功率半导体元件的IGBT503、以及用于控制IGBT503的周边电路形成于同一半导体基板601而得的半导体装置500。半导体装置500例如起到对流向点火线圈的初级线圈505的低压电流进行控制的点火器的作用。IGBT503构成使流过初级线圈505的低压电流通断的开关。
在图9中,在从栅极驱动电路501输入导通信号的情况下,导通信号经由栅极电阻502输入至IGBT503的栅极。由此,IGBT503的栅极电位上升,IGBT503导通。IGBT503导通从而使电流从电池504流向初级线圈505。另一方面,在从栅极驱动电路501输入截止信号的情况下,IGBT503截止从而使集电极C的电位上升,流向初级线圈505的电流被切断,初级线圈505的电压上升。由此,在次级线圈506中产生与匝数比相对应的高电压,火花塞507的间隙产生放电,从而发动机点火。
连接于IGBT503的集电极C-栅极G间的保护用二极管508具有以下作用:在IGBT503截止时,对施加于IGBT503的集电极C的高电压进行箝位,以防止对IGBT503施加过电压。
另外,在保护用二极管508达到箝位电压的情况下,保护用二极管508中流过箝位电流Icl。该箝位电流Icl经由栅极电阻502和齐纳二极管(Zener Diode)509流向接地GND,使IGBT503的栅极电位上升。在IGBT503的栅极电位上升的情况下,IGBT503导通,流向初级线圈505的箝位电流Icl转流向IGBT503从而流向接地GND。由此,使流向初级线圈505的电流流向接地GND,从而使得累积于初级、次级线圈505、506的较大的能量得以发散。
接着,对半导体装置500的结构进行说明。图10是表示现有的半导体装置500的结构的说明图。图10(a)是现有的半导体装置500的主要部分俯视图,图10(b)是表示在图10(a)的Y-Y线处进行切断而得的剖面结构的主要部分剖视图。该半导体装置500具有p型集电区52、配置于该p型集电区52上的n型缓冲区53、以及配置于n型缓冲区53的与p型集电区52侧相反侧的表面上的n型漂移区54(n-型区)。
在n型漂移区54的与n型缓冲区53侧相反侧的表面层上,选择性地配置有p基极区(在图10中,示出了与p型基极区的比有源区71要向外侧(芯片外周侧)延伸的部分(以下称为外延部)相连的p型阱区55)。而且,在n型漂移区54的与n型缓冲区53侧相反侧的表面层上,在p型基区55的外侧,包围有源区71而呈环状地配置有1个p型保护环区56。形成于半导体装置500的IGBT及保护用二极管60分别相当于图9的电路图中的IGBT503和保护用二极管508。
在p型基极区的内部,设有n型发射区(在图10中,示出了与n型发射区的外延部相连的n型层57)。在n型漂移区54的芯片表面侧,配置有由未图示的p型基极区、n型发射区、栅极绝缘膜及栅电极所构成的MOS栅极(由金属-氧化膜-半导体所构成的绝缘栅)结构。发射电极58与p型基极区(p型阱区55)及n型发射区(n型层57)进行电连接。在半导体装置500的背面,设有与p型集电区52进行电连接的集电电极52a。
此外,在半导体装置500的表面上,设有配置于p型保护环区56上的氧化膜59、以及隔着氧化膜59进行配置的保护用二极管60。保护用二极管60设置于氧化膜59中的、p型保护环区56上的形成得较厚的部分即场氧化膜59a上。保护用二极管60的一端侧与经由n+型层72而反映出集电极电位的截断电极(stopper electrode)61相连接。保护用二极管60的另一端侧经由n+型层72与栅极布线63相连接。栅极布线63是与未图示的由多晶硅(poly-Si)所形成的栅电极和由金属膜所形成的栅极焊盘电极62相连的金属布线。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的