[发明专利]电子元件封装结构无效

专利信息
申请号: 201210023735.7 申请日: 2012-02-03
公开(公告)号: CN102769004A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: 谭瑞敏;戴明吉;刘汉诚 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L29/41
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子元件 封装 结构
【权利要求书】:

1.一种电子元件封装结构,包括:

半导体元件,包括:

半导体基极具有第一表面与第二表面,所述第一表面与所述第二表面相对;

集极位于所述半导体基极的所述第二表面上;

第一导电型基体区位于所述半导体基极的所述第一表面中;

第二导电型掺杂区位于所述第一导电型基体区中;

栅极位于所述半导体基极的所述第一表面上,覆盖部分所述第一导电型基体区与部分所述第二导电型掺杂区,且所述栅极以第一介电层与所述半导体基极的所述第一表面、所述第一导电型基体区与所述第二导电型掺杂区相隔绝;

第二介电层覆盖所述栅极,所述第二介电层中具有一开口,且所述开口贯穿所述第二导电型掺杂区,而延伸至所述开口的底部以裸露出所述第一导电型基体区;以及

射极位于所述半导体基极的所述第二介电层上,并且填充于所述开口中,电连接所述第二导电型掺杂区与所述第一导电型基体区;

第一保护层,位于所述栅极周围的所述半导体基极的所述第一表面上,且与所述第一介电层连接;

第一导体焊垫位于所述第一保护层上;

第二导体焊垫位于所述半导体基极的所述第二表面上方的所述集极上;以及

至少一导通结构,贯穿所述第一保护层、所述半导体基极的所述第一表面、所述第二表面以及所述集极,且电连接所述第一导体焊垫与所述第二导体焊垫,所述导通结构包括:

导体柱位于所述半导体基极之中;以及

第二保护层位于所述导体柱与所述半导体基极之间。

2.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于还包括:

第一凸块,与所述第一导体焊垫电连接;以及

第二凸块,与所述射极电连接。

3.如权利要求2所述的电子元件封装结构,其特征在于所述第一导体焊垫包括凸块下金属层。

4.如权利要求3所述的电子元件封装结构,其特征在于所述第一导体焊垫的材料包括镍或金,或其合金。

5.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于所述第二导体焊垫的材料包括金属或是金属合金。

6.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其中所述第二导体焊垫的材料包括铜或是铝,或其合金。

7.如权利要求1所述的电子元件封装结构,特征在于还包括:

第一导体焊线,与所述第一导体焊垫电连接;以及

第二导体焊线,与所述射极电连接。

8.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于所述导体柱的材料包括金属或是金属合金。

9.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于所述导体柱的材料包括铜、钨或铝,或其合金。

10.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于所述第一保护层的材料包括二氧化硅、氮化硅或氮化铝。

11.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于所述第二保护层的材料包括二氧化硅、氮化硅或氮化铝。

12.如权利要求1所述的电子元件封装结构,其特征在于所述第一导电型基体区包括P型基体区且所述第二导电型掺杂区包括N型掺杂区,或所述第一导电型基体区包括N型基体区且所述第二导电型掺杂区包括P型掺杂区。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210023735.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top