[发明专利]半导体组件无效
申请号: | 200910208069.2 | 申请日: | 2009-10-21 |
公开(公告)号: | CN102044513A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 罗健文;陈建汎 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485;H01L23/488;H01L23/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 中国台湾高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 组件 | ||
技术领域
本发明关于一种半导体组件,详言之,关于一种一芯片电性连接至一基板的半导体组件。
背景技术
参考图1,显示已知半导体组件的剖面示意图。该已知半导体组件1包括一基板2、一芯片3及一底胶36。该基板2具有一第一表面21、至少一基板焊垫22及一防焊层23。该基板焊垫22位于该第一表面21。该防焊层23位于该第一表面21上,且具有至少一防焊层开口231以显露部分该基板焊垫22。该芯片3位于该基板2的第一表面21上,且电性连接至该基板2。该芯片3包括一芯片本体31、至少一芯片焊垫32、一第一保护层33、一球下金属层34及至少一凸块35。该芯片本体31具有一主动面311。该芯片焊垫32位于该主动面311。该第一保护层33位于该主动面311上,且具有至少一第一开口331以显露部分该芯片焊垫32。该球下金属层34位于该芯片焊垫32上。该凸块35位于该球下金属层34上,且接触该基板2的基板焊垫22。该凸块35与该球下金属层34接触,而形成一第一接触面351。该凸块35与该基板2的基板焊垫22接触,而形成一第二接触面352。该底胶36包覆部分该芯片3的主动面311及该芯片3的凸块35。
该已知半导体组件1的缺点如下。该已知半导体组件1在进行信赖度测试时,需确定其经历一温度钜变后的良率仍达到预定标准,然而,该已知半导体组件1中每一构件的热膨胀系数不同,导致该凸决35因周围组件膨胀或收缩而受剪应力,且当该第一接触面351或该第二接触面352具有明显较弱的结合力时,该凸块35易于该具有明显较弱结合力的接触面产生破裂37。
因此,有必要提供一种半导体组件,以解决上述问题。
发明内容
本发明提供一种半导体组件。该半导体组件包括一基板及一芯片。该基板具有一第一表面及至少一基板焊垫,该基板焊垫位于该第一表面。该芯片位于该基板的第一表面上,且电性连接至该基板。该芯片包括一芯片本体、至少一芯片焊垫、一第一保护层、一球下金属层及至少一金属柱结构。该芯片本体具有一主动面。该芯片焊垫位于该主动面。该第一保护层位于该主动面上,且具有至少一第一开口以显露部分该芯片焊垫。该球下金属层位于该芯片焊垫上。该金属柱结构位于该球下金属层上,且电性连接该基板的基板焊垫。该金属柱结构与该球下金属层接触,而形成一第一接触面,该第一接触面具有一第一直径。该金属柱结构与该基板的基板焊垫电性连接,而形成一第二接触面,该第二接触面具有一第二直径。该第一直径及该第二直径的比值介于0.7至1.0。
藉此,该第一接触面与该第二接触面的结合力相当,可避免该金属柱结构受剪应力而破裂,进而提升结构强度并通过信赖度测试。
附图说明
图1显示已知半导体组件的剖面示意图;
图2显示本发明半导体组件的第一实施例的剖面示意图;
图3显示本发明半导体组件的第一实施例的剖面示意图,其中更包括一阻隔层;
图4显示本发明半导体组件的第二实施例的剖面示意图;
图5显示本发明半导体组件的第三实施例的剖面示意图;
图6显示本发明半导体组件的第四实施例的剖面示意图;及
图7显示本发明半导体组件的第五实施例的剖面示意图。
具体实施方式
参考图2,显示本发明半导体组件的第一实施例的剖面示意图。该半导体组件4包括一基板5、一芯片6及一底胶68。该基板5具有一第一表面51及至少一基板焊垫52,该基板焊垫52位于该第一表面51。在本实施例中,该基板5更包括一防焊层53,该防焊层53位于该第一表面51上,且具有至少一防焊层开口531以显露部分该基板焊垫52。在其它应用中,该基板5更包括一第二表面54及至少一焊球(图中未示),该焊球位于该第二表面54。
该芯片6位于该基板5的第一表面51上,且电性连接至该基板5。该芯片6包括一芯片本体61、至少一芯片焊垫62、一第一保护层63、一球下金属层64及至少一金属柱结构65。该芯片本体61具有一主动面611。该芯片焊垫62位于该主动面611。该第一保护层63位于该主动面611上,且具有至少一第一开口631以显露部分该芯片焊垫62。该球下金属层64位于该芯片焊垫62上。在本实施例中,该球下金属层64为多层结构,其包含钛(Ti)、铝(Al)、镍(Ni)、钒(V)或铜(Cu)。
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