[发明专利]半导体器件及其制造方法以及半导体密封用树脂有效
申请号: | 200910166793.3 | 申请日: | 2009-08-20 |
公开(公告)号: | CN101667563A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 岩崎富生 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L23/29;H01L21/48;H01L21/50;C08L67/00;C08K5/5435;C08G63/695 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 以及 半导体 密封 树脂 | ||
技术领域
本发明涉及一种半导体器件及该半导体器件的制造方法以及半导 体密封用树脂。
背景技术
专利文献1中公开了一种密封半导体芯片的方法,在由Cu合金形 成的引线基质上作为基底镀覆进行Cu触击电镀,之后部分镀覆用于 引线接合或管芯焊接的银、金、钯等,用树脂等密封连接有引线的 半导体芯片。
非专利文献1为涉及固体物理学的古典文献,其中登载了晶格常 数(最邻近原子间距离等)。
非专利文献2中,关于在高分子材料的浸湿性、摩擦·磨蚀特性、 粘接性、生物适应性等方面高分子固体表面的构造和物性的控制, 记载了通过使用放射光的表面X射线衍射、扫描力显微镜的分析技术。
【专利文献1】特开平9-195068号公报
【非专利文献1】第5版Kittel固体物理学入门(上):p.28、丸善 株式会社(1978年)。
【非专利文献2】Denso Technical Review:vol.12、No.2、pp.3~12 (2007年)
发明内容
即使如专利文献1中所记载,实施在引线基质上镀覆铜、银、金、 钯等后用树脂等密封半导体芯片的方法,由上述镀覆表面和树脂等 形成的密封体的粘合性也不充分,有时引起剥离。由于使用需要比 现有温度更高的回流焊温度(Reflow temperature)的无铅软焊条, 所以上述剥离的问题变得更加严重。
本发明的目的在于提供一种提高引线和密封体树脂(模树脂 (Mold Resin))的粘合性、不引起剥离的半导体器件。而且,本发 明的目的在于提供一种可靠性高的半导体器件。
进而,本发明的目的在于提供一种成品率高的半导体制造方法。
另外,本发明的目的在于提供一种不引起剥离的半导体密封用 树脂。
由本说明书的描述和附图可知本发明的上述和其他目的以及新 特征。
本发明的半导体器件具有半导体芯片和与所述半导体芯片电接 的以金属作为主构成材料的多根引线、以及密封所述半导体芯片的 树脂,其特征在于,所述多根引线具有从所述树脂中露出的外引线 部分和埋入所述树脂中的内引线部分,所述树脂含有具有苯环的芳 香族化合物和/或具有环己烷环的化合物,在所述内引线部分的表 面材料和所述树脂接触的界面上的所述树脂中含有的苯环和/或环 己烷环、和作为所述内引线部分的表面材料的主构成材料的金属原 子重叠排列。
根据本发明,可以提供一种提高引线和密封体树脂(模树脂) 的粘合性、不引起剥离的半导体器件。另外,根据本发明,可以提 供一种高可靠性的半导体器件。进而,根据本发明,可以提供一种 成品率高的半导体制造方法。
附图说明
【图1】为表示本发明的实施例的半导体器件的外观斜视图。
【图2】为图1的A-B剖面图。
【图3】为表示形成于图2的半导体器件上的引线的一部分的放大剖 面图。
【图4】为表示(111)取向的铜中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图5】为表示(111)取向的镍中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图6】为表示(111)取向的铂中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图7】为表示(111)取向的钯中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图8】为表示(001)取向的钌中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图9】为表示(111)取向的金中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图10】为表示(111)取向的银中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。
【图11】为表示添加到树脂中的环己烷分子对树脂和金或银的剥离 强度产生的影响的图。
【图12】为表示添加到树脂中的环己烷分子对树脂和铂、钯或钌的 剥离强度产生的影响的图。
【图13】为表示添加到树脂中的环己烷分子对树脂和被氧化的铜或 被氧化的镍的剥离强度产生的影响的图。
【图14】为表示铜的(111)取向率对剥离强度产生的影响的图。
【图15】为表示镍的(111)取向率对剥离强度产生的影响的图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910166793.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。