[发明专利]半导体器件及其制造方法以及半导体密封用树脂有效

专利信息
申请号: 200910166793.3 申请日: 2009-08-20
公开(公告)号: CN101667563A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 岩崎富生 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/29;H01L21/48;H01L21/50;C08L67/00;C08K5/5435;C08G63/695
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法 以及 半导体 密封 树脂
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种半导体器件及该半导体器件的制造方法以及半导 体密封用树脂。

背景技术

专利文献1中公开了一种密封半导体芯片的方法,在由Cu合金形 成的引线基质上作为基底镀覆进行Cu触击电镀,之后部分镀覆用于 引线接合或管芯焊接的银、金、钯等,用树脂等密封连接有引线的 半导体芯片。

非专利文献1为涉及固体物理学的古典文献,其中登载了晶格常 数(最邻近原子间距离等)。

非专利文献2中,关于在高分子材料的浸湿性、摩擦·磨蚀特性、 粘接性、生物适应性等方面高分子固体表面的构造和物性的控制, 记载了通过使用放射光的表面X射线衍射、扫描力显微镜的分析技术。

【专利文献1】特开平9-195068号公报

【非专利文献1】第5版Kittel固体物理学入门(上):p.28、丸善 株式会社(1978年)。

【非专利文献2】Denso Technical Review:vol.12、No.2、pp.3~12 (2007年)

发明内容

即使如专利文献1中所记载,实施在引线基质上镀覆铜、银、金、 钯等后用树脂等密封半导体芯片的方法,由上述镀覆表面和树脂等 形成的密封体的粘合性也不充分,有时引起剥离。由于使用需要比 现有温度更高的回流焊温度(Reflow temperature)的无铅软焊条, 所以上述剥离的问题变得更加严重。

本发明的目的在于提供一种提高引线和密封体树脂(模树脂 (Mold Resin))的粘合性、不引起剥离的半导体器件。而且,本发 明的目的在于提供一种可靠性高的半导体器件。

进而,本发明的目的在于提供一种成品率高的半导体制造方法。

另外,本发明的目的在于提供一种不引起剥离的半导体密封用 树脂。

由本说明书的描述和附图可知本发明的上述和其他目的以及新 特征。

本发明的半导体器件具有半导体芯片和与所述半导体芯片电接 的以金属作为主构成材料的多根引线、以及密封所述半导体芯片的 树脂,其特征在于,所述多根引线具有从所述树脂中露出的外引线 部分和埋入所述树脂中的内引线部分,所述树脂含有具有苯环的芳 香族化合物和/或具有环己烷环的化合物,在所述内引线部分的表 面材料和所述树脂接触的界面上的所述树脂中含有的苯环和/或环 己烷环、和作为所述内引线部分的表面材料的主构成材料的金属原 子重叠排列。

根据本发明,可以提供一种提高引线和密封体树脂(模树脂) 的粘合性、不引起剥离的半导体器件。另外,根据本发明,可以提 供一种高可靠性的半导体器件。进而,根据本发明,可以提供一种 成品率高的半导体制造方法。

附图说明

【图1】为表示本发明的实施例的半导体器件的外观斜视图。

【图2】为图1的A-B剖面图。

【图3】为表示形成于图2的半导体器件上的引线的一部分的放大剖 面图。

【图4】为表示(111)取向的铜中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图5】为表示(111)取向的镍中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图6】为表示(111)取向的铂中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图7】为表示(111)取向的钯中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图8】为表示(001)取向的钌中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图9】为表示(111)取向的金中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图10】为表示(111)取向的银中含有的添加元素对剥离强度产生 的影响的图。

【图11】为表示添加到树脂中的环己烷分子对树脂和金或银的剥离 强度产生的影响的图。

【图12】为表示添加到树脂中的环己烷分子对树脂和铂、钯或钌的 剥离强度产生的影响的图。

【图13】为表示添加到树脂中的环己烷分子对树脂和被氧化的铜或 被氧化的镍的剥离强度产生的影响的图。

【图14】为表示铜的(111)取向率对剥离强度产生的影响的图。

【图15】为表示镍的(111)取向率对剥离强度产生的影响的图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910166793.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top