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[发明专利]气雾剂定量喷射阀-CN201980013873.7在审
发明人：和中英夫;新居慎也;阿部练;松井和弘;池田尊胤;中村泰祐 -专利权人：阿斯制药株式会社;株式会社大造;株式会社丸一
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： B65D83/52 文献下载
摘要：气雾剂定量喷射阀(10)的定量室(15)的外周壁部以由下部有底筒状部件(15b)的外侧周壁(Wb)与其内侧的内侧周壁(Wc)夹持上部有底筒状部件(15a)的外周壁(Wa)的方式嵌合。在上部有底筒状部件(15a)的外周壁(Wa)的内周面或下部有底筒状部件(15b)的内侧周壁(Wc)的外周面中的任一者或两者设置纵向的槽条部(G)。或者，在外周壁(Wa)与内侧周壁(Wc)之间设置间隙。
气雾剂定量喷射

[发明专利]锥齿轮的冷加工方法-CN201910937909.2在审
发明人：叶君;孙浩;王春雷;黄啸 -专利权人：中国航发哈尔滨东安发动机有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： B23P15/14 文献下载
摘要：本发明提供一种锥齿轮的冷加工方法，锥齿轮采用15Cr14Co12Mo5Ni2WA材料，该方法包括：对15Cr14Co12Mo5Ni2WA材料毛坯件依次进行粗车、铣齿、去毛刺、镀镍、热处理、粗磨、螺纹加工本发明提供的锥齿轮的冷加工方法，适用于采用材料15Cr14Co12Mo5Ni2WA的锥齿轮的加工，锥齿轮质量稳定。
锥齿轮冷加工消除应力处理啮合热处理材料毛坯螺纹加工质量稳定去毛刺粗车粗磨镀镍精磨磨齿铣槽铣齿插花检验加工

[发明专利]液体涂敷方法和液体涂敷装置-CN201510303242.2有效
发明人：一野克宪;石井贵幸;川原幸三;下川大辅;田代和之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-04 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：液体涂敷方法进行：在晶片(W)的旋转中，一边使喷嘴(N)在晶片(W)的旋转轴与晶片(W)的周缘之间在沿晶片(W)的表面(Wa)的规定的方向上移动，一边从喷嘴(N)排出涂敷液，由此在晶片(W)的表面(Wa)螺旋状地涂敷涂敷液的步骤；晶片(W)的表面(Wa)中从喷嘴(N)排出涂敷液的排出位置越位于晶片(W)的周缘侧越减小晶片(W)的转速，由此使排出位置的线速度大致一定的步骤；基于从喷嘴(N)排出之前的涂敷液的流量使喷嘴(N)的排出口与晶片(W)的表面(Wa)的间隙变化，由此使从喷嘴(N)排出的涂敷液的排出流量为大致一定的大小的步骤。
液体方法装置

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201510436986.1有效
发明人：井关智弘;竹口博史;寺下裕一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-07-23 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种显影方法，将配置于晶片(W)的表面(Wa)上且被曝光了的抗蚀剂膜(R)显影而形成抗蚀剂图案，该显影方法包括：使晶片(W)绕在与水平地保持的晶片(W)的表面(Wa)正交的方向上延伸的旋转轴旋转，并且从位于晶片(W)的上方的液体接触部件(N)的排出口(Na)将显影液(L)排出到抗蚀剂膜(R)上，使显影液(L)遍布于抗蚀剂膜(R)的表面上的步骤；和将具有与晶片(W)的表面(Wa)相对的下端面(Nb)的液体接触部件(N)配置于作为晶片(W)的表面(Wa)之中在先从液体接触部件(N)进行了显影液(L)的供给的区域的在先区域的上方的步骤。
显影方法装置

[发明专利]图像形成装置以及其中使用的一成分显影用调色剂-CN200810146303.9有效
发明人：加藤博秋;中武直树;安永英明;不破一兴;御厨义博;叶木雅之 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2008-08-25 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： G03G15/01 文献下载
摘要：所述调色剂，为至少含有树脂，着色剂，脱模剂成分的粉碎调色剂，并且，用圆锥转头转矩测定法，测定的空间率的范围为52－58％，调色剂转矩的范围为1.0－2.5mNm；所述调色剂的脱模剂露出量WA(％)以及，通过使用圆锥转头转矩测定法测定的空间率为58％时的调色剂转矩T(mNm)以及所述图像承载体的裸管厚t(mm)，全部满足下述式(1)－(4)：45≤WA≤60...式(1)2＊WA－40≤50＊T≤2＊WA+5 ...式(2)2≤t≤2.0 ...式(3)40*T－70≤15*t
图像形成装置以及其中使用成分显影调色

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201780081004.9有效
发明人：滨田崇广;林航之介;长岛裕次;神山洋辉 -专利权人：芝浦机械电子株式会社;中兴化成工业株式会社
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置(10)，其是对半导体晶圆(W)的被洗涤面(Wa)进行洗涤的基板处理装置(10)，其具备：能够保持半导体晶圆(W)的旋转夹头(21)、与保持于旋转夹头(21)上的半导体晶圆(W)的被洗涤面(Wa)相对配置且使多孔质的氟树脂的纤维相对于半导体晶圆(W)的表面朝向垂直方向形成的洗涤刷(41a)、使旋转夹头(21)以上述基板的被洗涤面(Wa)的法线方向作为基板旋转轴进行旋转驱动的旋转发动机(44)、和对保持于旋转夹头(21)上的半导体晶圆(W)的被洗涤面(Wa)供给洗涤液(L)的喷嘴管(45)，为了使颗粒除去力增加，可以使用试剂作为洗涤液、或者将洗涤液加热，同时进行广范围的颗粒除去。
处理装置方法

[实用新型]一种带三重防雷的20W A+C快充排插-CN202321192955.2有效
发明人：郭志忠;池应锋;廖燕兵 -专利权人：厦门视贝科技有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01R13/66 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带三重防雷的20WA+C快充排插，涉及快充排插技术领域。本实用新型包括上盖、底壳、电源线、过载保护器、AC插模组、三重防雷模块、20WA+C快充模块，三重防雷模块包括防雷模块和未接地指示模块，20WA+C快充模块包括整流滤波模块、电源控制模块、同步整流模块和快充输出模块本实用新型通过三重防雷模块确保电器在恶劣环境下和多雷地区的安全使用，通过20WA+C快充模块实现快充功能，减少再购买充电器，只要充电线就可以给产品充电，对于主流的手机和需要供电产品均具有良好的兼容性，方便家庭日常使用
一种三重防雷 20 快充排插

[发明专利]铝制热交换器的表面处理方法-CN201480019222.6有效
发明人：水野晃宏;松井德纯;和田优子 -专利权人：日涂表面处理化工有限公司
申请日： 2014-04-03 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： C23C22/40 文献下载
摘要：其是使用化成处理剂的铝制热交换器的表面处理方法，所述化成处理剂含有选自由锆、钛和铪组成的组中的一种或两种以上金属元素(A)、钒元素(B)和树脂(C)，所述树脂(C)包含聚乙烯醇系树脂(C1)，金属元素(A)的质量基准合计含量(Wa)相对于钒元素(B)的质量基准含量(Wb)的比值(Wa/Wb)为0.1～15，金属元素(A)和钒元素(B)的质量基准合计含量(Wa+Wb)相对于聚乙烯醇系树脂(C1)的质量基准合计含量(Wc1)的比值((Wa+Wb)/Wc1)为0.25～15。
铝制热交换器表面处理方法

[发明专利]多孔板表面检查方法以及多孔板表面检查装置-CN201180046006.7有效
发明人：松村修美;今重薫;矢崎伸二 -专利权人：东洋钢钣株式会社
申请日： 2011-11-14 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： G01N21/89 文献下载
摘要：本发明从多孔板W的表面侧照射反射用的照明光，并且从多孔板W的背面侧照射背光用的照明光，利用摄像部4对多孔板W的表面Wa进行摄像。然后，基于此影像，测定在多孔板W的表面Wa反射的反射光12的光量和透过多孔板W的透孔部Wc的透过光11的光量，为了使这两个光量相同并且在事先设定的范围内，调节反射用的照明光和背光用的照明光的光量。然后，在光量已调节的状态，对多孔板W的表面Wa进行摄像，基于此摄像的影像检查多孔板W的表面Wa的缺陷。
多孔表面检查方法以及装置

[发明专利]堆叠有绝缘腔的芯片-CN03806026.4有效
发明人： J－C·西克斯 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2003-03-11 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： H01L25/065 文献下载
摘要：本发明涉及一种将第一硅晶片(WA1)的连接表面与第二硅晶片(WA2)的连接表面连接从而在装配之后形成绝缘腔的方法，两个硅晶片(WA)中至少一个包括至少一个将位于腔内的功能区(DA)。按照本发明的方法包括在第一硅晶片(WA1)的连接表面上淀积合金焊接凸块(PLTC)的步骤(PLTS)，所述凸块(PLTC)彼此间隔开均匀的距离，该距离足够小以在两个硅晶片装配期间接合。
堆叠绝缘芯片

[发明专利]九柱组合铁心变压器-CN201410237712.5有效
发明人：乔宏伟 -专利权人：山西宇欣磁业有限公司
申请日： 2014-05-31 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： H02M7/06 文献下载
摘要：调节器和三只三柱式铁心；三只三柱式铁心共有截面积相等的Ta1、Ta2、Ta3、Tb1、Tb2、Tb3、Tc1、Tc2、Tc3九个铁心心柱，采用垂直组合方式叠合成三层铁心结构，铁心心柱上依次套装一次绕组Wa1、Wa2、Wa3、Wb1、Wb2、Wb3、Wc1、Wc2、Wc3和二次绕组Wa10、Wa20、Wa30、Wb10、Wb20、Wb30、Wc10、Wc20、Wc30；一次绕组的结构、线圈匝数及绕向相同，二次绕组的绕组结构
组合铁心变压器

[发明专利]一种曲折移相调压变压器-CN201310622608.3有效
发明人：刘涛;刘建平 -专利权人：刘建平
申请日： 2013-11-30 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G05F1/24 文献下载
摘要：一种曲折移相调压变压器，目的是结构简单、可靠性高、损耗小；本发明包括装设在主铁心上的主一次绕组与主二次绕组、装设在调节铁心上的调节一次绕组与调节二次绕组、电容器、短开关和调节器，主一次绕组Wa1、Wb1、Wc1与调节一次绕组Wa2、Wb2、Wc2以相同的首端方向依次两两串联成三个支路，两组一次三相绕组整体联接成近似的三角形接线；主二次绕组Wa3、Wb3、Wc3的三个末端相联成中性点0，其三个绕组首端对应引出a1、b1、c1三个二次输出端，在a1端联接调节二次绕组的Wb4首端或Wc4末端或Wc4首端，在b1端联接调节二次绕组的Wc4末端或Wa4末端或Wa4首端，在c1端联接调节二次绕组Wa4首端或Wb4末端或
一种曲折调压变压器

[发明专利]抛光垫及抛光系统-CN202311132487.4在审
发明人：林文多;高越;王腾;杨浩;段冲;王椎;黄锐 -专利权人：湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
申请日： 2023-09-05 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光垫以及包含该抛光垫的抛光系统，其中抛光垫包含抛光层，所述抛光层表面包含有位于圆心处的中心区域、设置在中心区域外周的外周区域以及放射线沟槽,所述外周区域内设置有网格状沟槽；所述网格状沟槽的沟槽宽度为Wa，网格状沟槽的相邻两条沟槽之间的间距为P，其中Wa与P的比值需要满足0.2≤Wa/P≤0.4；本发明通过对抛光垫不同的抛光区域及沟槽尺寸以及相关参数进行综合设计，是的抛光垫具有优异的综合抛光性能。
抛光系统

[发明专利]双焊丝焊枪以及使用该双焊丝焊枪的双焊丝焊接装置-CN200910175165.1有效
发明人：盐崎秀男;野田裕纪;上山智之 -专利权人：株式会社大亨
申请日： 2009-09-25 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： B23K9/29 文献下载
摘要：所述双焊丝焊枪是具备对位于焊接方向前方的第一焊丝(WA)及位于上述焊接方向后方的第二焊丝(WB)进行保持的焊丝保持机构(2)的双焊丝焊枪(A1)，焊丝保持机构(2)构成为可使第一焊丝(WA)及第二焊丝(通过这样的结构，可以将焊丝(WA、WB)之间的前端距离(L)设定成适于焊接母材的板厚、焊接速度的大小，可以实现顺畅的双焊丝焊接。
焊丝焊枪以及使用焊接装置

[发明专利]磨床-CN201610453162.X有效
发明人：渡边明 -专利权人：株式会社捷太格特
申请日： 2016-06-21 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： B24B49/12 文献下载
摘要：磨床(1)具备非接触式检测器(16)，其设置于砂轮座(14)，在从曲轴W向X轴方向离开的位置通过非接触对曲轴W被主轴装置(12)支承的状态下的曲柄销Wb或者曲轴轴颈Wa的位置状态进行检测；位置计算装置(19)，其根据基于非接触式检测器(16)的检测信息对曲柄销Wb或者曲轴轴颈Wa的端面位置进行计算。控制装置(18)基于由位置计算装置(19)计算出的端面位置使砂轮座(14)沿Z轴方向相对定位而进行利用砂轮(15)对曲柄销Wb或者曲轴轴颈Wa的研磨。
磨床