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- [实用新型]一种拼接式柔性厚膜发热布料-CN201520347153.3有效
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黄伟聪
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黄伟聪
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2015-05-26
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2015-12-16
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A41D31/02
- 本实用新型公开一种拼接式柔性厚膜发热布料,包括控制模块和两块以上的厚膜发热布料单元,厚膜发热布料单元包括至少一层柔性基材层,在柔性基材层上附着有以回折或平铺方式布置的厚膜发热电路,厚膜发热电路设有电源连接端子,各厚膜发热布料单元通过附接装置可拆卸式拼接成一体,电源连接端子与控制模块连接,控制模块设有供电接口。与现有技术相比,本实用新型提供的拼接式柔性厚膜发热布料,可以根据实际需要选择厚膜发热布料单元的数量,满足取暖的要求;本实用新型提供的拼接式柔性厚膜发热布料可应用于不同面积大小的物品上,解决了现有产品通用率低
- 一种拼接柔性发热布料
- [实用新型]一种抗干扰的厚膜集成电路-CN202021197194.6有效
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黄伟聪;陈保青;冯嘉俊
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广东天泓新材料科技有限公司
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2020-06-24
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2020-12-25
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H01L23/552
- 本实用新型公开了一种抗干扰的厚膜集成电路,包括陶瓷基壳,所述陶瓷基壳是由陶瓷下基体和陶瓷基帽构成,所述陶瓷下基体的内侧壁设置有抗干扰金属内层一,所述抗干扰金属内层一的顶端设置有厚膜陶瓷基片,所述厚膜陶瓷基片的顶端设置有厚膜集成电路,所述厚膜集成电路的两端分别均设置有金属引脚,所述厚膜集成电路的顶端设置有若干散热片一,所述散热片一的顶端设置有卡套,所述卡套的内部设置有导热硅胶,所述卡套的顶端设置有散热片二,所述陶瓷基帽的内侧壁设置有抗干扰金属内层二有益效果:使得厚膜集成电路具有较好的抗干扰抗腐蚀性能,同时使得厚膜集成电路具有较好的散热型,有效提高厚膜集成电路的使用寿命。
- 一种抗干扰集成电路
- [发明专利]成膜控制装置、成膜装置以及成膜方法-CN202280005853.7在审
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大泷芳幸;松平学幸;山口刚;宫内充祐
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株式会社新柯隆
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2022-02-04
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2023-07-11
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C23C14/54
- 成膜控制装置具有:光源(42),其对配置于旋转体(25)的基板(S)照射光;受光部(46),对于从所述光源照射的光,该受光部接收透过形成在所述基板上的薄膜的层的透过光或者被形成在所述基板上的薄膜的层反射的反射光;位置信息取得部(48),其取得与所述旋转体的圆周方向的位置对应的位置信息;以及控制部(4),其对成膜条件进行控制,所述控制部包含:时机控制部,其根据由所述位置信息取得部取得的所述旋转体的圆周方向的位置信息来确定作为目标的基板的位置,对接收从所述光源向该确定的位置的基板照射的光的透过光或者反射光的时机进行控制;膜厚判定部,其根据由所述受光部接收到的透过光或者反射光,计算由多个层构成的薄膜的各层的膜厚,判定所述各层的膜厚与构成具有期望的分光特性的薄膜的各层的目标膜厚的膜厚差;以及成膜条件设定部,其在所述各层的膜厚相对于所述目标膜厚存在规定值以上的膜厚差的情况下,对针对该层的成膜条件进行校正以使得存在该膜厚差的层的膜厚成为该层的目标膜厚,然后设定所述成膜条件。
- 控制装置以及方法
- [发明专利]电子元件安装机-CN201380081771.1有效
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永田吉识
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株式会社富士
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2013-12-23
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2019-01-18
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H05K13/04
- 本发明提供能够适当地管理转印装置利用粘性流体形成的流体膜的膜厚并且能够实现装置的小型化及装置结构的简化、进而实现制造成本的降低的电子元件安装机。电子元件安装机具备能够与安装头的吸嘴互换的膜厚测量计(131)。膜厚测量计(131)设有以与贮存部(64)的助焊剂膜(F)的膜厚(T)的测定值相对应的轴向长度形成的测定部(136A~136D)。安装头移动至贮存部(64)的上方的位置,使膜厚测量计(131)下降而使其与助焊剂膜(F)接触。膜厚测量计(131)的测定部(136A~136D)在助焊剂膜(F)上形成与膜厚(T)相对应的测定痕迹(200A~200D)。电子元件安装机通过标记相机(37)拍摄测定痕迹(200A~200D),基于拍摄数据判定实际形成的助焊剂膜(F)的膜厚(T)。
- 电子元件装机
- [实用新型]一种物镜光学镜片-CN202220590700.0有效
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高原;李金美;帅江波;李春菊
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昆明勋凯瑞光学仪器有限公司
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2022-03-18
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2022-08-02
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G02B1/10
- 本实用新型提供一种物镜光学镜片,其特征在于:本体采用K9料作为基材进行加工,沿本体从左到右依次设置有第七膜层,第六膜层,第五膜层,第四膜层,第三膜层,第二膜层,第一膜层,第七膜层为厚800‑850KA的氟化镁,第六膜层为厚700‑7300KA的三氧化二铝,第五膜层为厚1050‑1100KA的二氧化锆,第四膜层为厚1100‑1200KA的氟化镁,第三膜层为厚380‑400KA的二氧化锆,第二膜层为厚880‑900KA的氟化镁,第一膜层为厚530‑550KA的二氧化硅,其中1nm为10KA,通过对抛光完成后的镜片进行镀膜加工,增加镜片的透过率。
- 一种物镜光学镜片
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