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- [实用新型]曝光装置-CN202021749020.6有效
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李世波
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深圳市爱普拓思科技有限公司
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2020-08-20
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2021-02-23
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G03F7/20
- 本申请涉及一种曝光装置，包括：液晶显示掩膜；控制器，与所述液晶显示掩膜连接，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案；光源，设置于所述液晶显示掩膜的一侧，所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面射出第二出射光；其中，所述第二出射光用于照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案。本申请中液晶显示掩膜显示预设的图案不需要使用额外的耗材，成像简单、成本低且成像的准确度高，因而能够有效地降低曝光成本，并提高曝光精确度。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201480046673.9有效
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渡边智也;松冈尚弥;山根茂树
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株式会社村田制作所
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2014-08-18
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2017-10-10
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G03F9/00
- 提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201180031708.8有效
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水村通伸;畑中诚
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株式会社V技术
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2011-06-07
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2013-03-06
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光装置，其中，形成为能够在与被曝光体的面及光掩模的面平行的面内向箭头(B)方向移动的透镜组装体(11)中，具有将多个单位透镜组装体(11A～11C)以各透镜列(16)的透镜组(15)在与箭头方向交叉的方向上以固定的排列间距排列的方式排列成一列的结构，其中，该多个单位透镜组装体(11A～11C)中，在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列构成为能够将光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到被曝光体表面上的多个透镜组由此，以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201080009430.X有效
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水村通伸;深谷康一郎;安藤哲生
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株式会社V技术
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2010-02-25
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2012-01-25
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G03F9/00
- 本发明涉及一种曝光装置，其具备：输送机构(1)，其上表面载置被曝光体(7)并将其沿一定方向输送；空间光调制机构(3)，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件(9)沿与被曝光体(7)的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；控制机构(6)，其个别地驱动各光调制元件(9)，对空间光调制机构(3)的透射光进行接通/断开控制，生成规定的图案，各光调制元件(9)，与其光轴正交的横截面形状形成为在被曝光体由此，提高利用由电光学结晶材料构成的多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位精度。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201680003247.6有效
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松冈尚弥;渡边智也;山根茂树
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株式会社村田制作所
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2016-01-05
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2019-04-26
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G03F7/20
- 本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下，无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备：工件输送机构(20)，其输送带状的工件(1)；曝光光源(30)，其产生曝光光；光掩模(40)，其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a～42c)；拍摄机构(60a～60c)，其拍摄透射窗(42a～42c)；以及位置调整机构(51、52)，其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，所述曝光装置构成为：能够根据由拍摄机构(60a～60c)拍摄得到的、透射窗
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN200580013348.3有效
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伊藤三好
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集成方案株式会社
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2005-04-28
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2007-04-11
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G03F9/00
- 本发明的曝光装置(1)，使从曝光光学系统(3)照射的光束在与玻璃基板(8)的移动方向(箭头A)相正交的方向上相对地扫描，在玻璃基板(8)上以规定的间距对功能图案进行曝光，其中包括：对预先形成于玻璃基板(8)的黑色点阵的像素进行拍摄的拍摄装置(5)；以及对拍摄装置(5)取得的像素的图像数据进行规定的图像处理，去除光束的一次扫描区域的像素列图像中的缺陷来生成无缺陷的像素列图像，对该无缺陷的像素列图像检测开始曝光或结束曝光的基准位置由此，在提高功能图案的重合精度的同时抑制曝光装置的成本升高。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN200680032915.4有效
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梶山康一;渡边由雄
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株式会社Ⅴ技术
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2006-08-29
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2008-09-03
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G03F7/20
- 本发明具有：台架13，其将滤色基板11装载在上表面13a上；掩模台架6，其配设在所述台架13的上方，而且能够平行于该台架13的上表面地保持长方形光掩模5；光源2，其向保持在所述掩模台架6的所述光掩模5照射曝光光；而且，将从所述光源2放射的曝光光通过所述光掩模5，照射到所述滤色基板11上，从而在规定位置形成规定曝光图案的曝光装置；并且，在所述光源2和掩模台架6之间的光路上配设有柱面透镜14，该柱面透镜14根据长方形光掩模5的形状，整形所述光源2放射的曝光光的光束的截面形状。由此，提高照射到长方形光掩模的曝光光的利用效率。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN200680032376.4有效
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梶山康一;渡边由雄
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株式会社V技术
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2006-09-25
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2008-09-03
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G03F9/00
- 本发明提供一种曝光装置，利用拍摄装置3在同一视场内分别捕捉并拍摄形成在滤色基板6上的基板侧对准标记和形成在光掩膜7上的掩膜侧对准标记，基于该拍摄到的基板侧和掩膜侧对准标记的各图像，相对移动载物台1和掩膜载物台2，对滤色基板6与光掩膜7进行对位后进行曝光，并且具有光学距离修正装置4，该光学距离修正装置4使拍摄装置3的线阵CCD22与滤色基板6之间的光学距离和拍摄装置3的线阵CCD22与光掩膜7之间的光学距离大致一致
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN200580037875.8无效
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佐佐木义晴
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富士胶片株式会社
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2005-11-04
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2007-10-17
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H01L21/027
- 本发明提供一种曝光装置，在将由感光层和支承体叠层形成的感光薄膜的所述感光层侧粘附在衬底上构成的板状叠层体中的感光层，将规定的图案曝光时，尽量减小支承体被剥离后的板状叠层体中的感光层与氧之间的反应。为了实现这个目的，在曝光装置(1)内设置用于从感光材料(150)剥离支承体的剥离装置(180)，通过剥离装置(180)从感光材料(150)剥离支承体后，立即通过扫描机构(162)在感光材料(150)进行图案的曝光
- 曝光装置
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