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- [发明专利]紫外线光学膜的压印成形方法-CN202211260216.2在审
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林刘恭
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湖南和锐镭射科技有限公司;光群雷射科技股份有限公司
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2022-10-14
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2023-10-27
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G03F7/00
- 本发明公开一种紫外线光学膜的压印成形方法,包含:制造一压印图章,其制造过程包含:于一载体的外表面涂布有一光阻层,及以一曝光紫外线通过光罩或干涉而照射在所述光阻层,以使所述光阻层构成一单位图案层;以所述压印图章逐个压印于一紫外线光学膜的多个区域上,以使每个所述区域被压印形成有一单位图案而构成一图案化区域,并且相邻的任两个所述图案化区域之间保留有不大于10微米的一间隙;及以一固化紫外线来逐个照射并固化被所述压印图章所压印后的所述紫外线光学膜的多个所述图案化区域。据此,所述图案化区域若有单位图案产生失真的情况时,所述紫外线光学膜的压印成形方法也利于实时进行调整,以达到微调或修复所述图案化区域的效果。
- 紫外线光学压印成形方法
- [实用新型]对位式全像膜成形设备-CN202321180914.1有效
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林刘恭
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光群雷射科技股份有限公司
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2023-05-16
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2023-10-27
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B29C59/02
- 一种对位式全像膜成形设备,包括:一工作台,一对位型载体设置于工作台,对位型载体形成有多个载体对位标记并且通过多个载体对位标记限定多个压印区域;一位移机构,设置于工作台;一点胶机构,对应于工作台设置并且用来设置一紫外线固化胶体;以及一压印光罩,该压印光罩包含:一板体,形成有多个光罩对位标记;及一单位图案层;其中,对位式全像膜成形设备能对位于任一个紫外线固化胶体旁侧的至少两个载体对位标记,而后通过位移机构来使得压印光罩沿高度方向进行压印,以使多个紫外线固化胶体被按顺序压印而分别形成有一全像膜单位图案。通过光罩对位标记与载体对位标记之间的相互配合,同时确保多个全像膜单位图案的成形精准度。
- 对位式全像膜成形设备
- [实用新型]履带式无版缝膜成形设备-CN202321229106.X有效
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林刘恭;范健文
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光群雷射科技股份有限公司
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2023-05-19
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2023-09-26
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B41F16/00
- 本实用新型公开一种履带式无版缝膜成形设备,其包含一供料机构、一履带式转印机构、配置于所述履带式转印机构上游的一涂布机构、对应于所述履带式转印机构设置的一光固化机构。所述履带式转印机构包含多个滚轮及套设于多个所述滚轮的缓冲表层的一筒状转印版。所述履带式转印机构用来使由所述供料机构所输送的一基材沿经所述筒状转印版。所述涂布机构用以对所述基材涂布一光固化胶层,所述履带式转印机构用来压迫于所述光固化胶层,以通过多个所述缓冲表层受压迫产生弹性变形,使所述筒状转印版能无缝地将预设图案完全转印至所述光固化胶层。据此,所述履带式无版缝膜成形设备能有效地避免所述光固化胶层于转印时产生缺陷。
- 履带式无版缝膜成形设备
- [发明专利]增亮膜的转印式制造方法及增亮膜-CN202010655547.0有效
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林刘恭
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光群雷射科技股份有限公司
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2020-07-09
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2023-07-25
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G02B5/02
- 本发明公开一种增亮膜的转印式制造方法及增亮膜,增亮膜的转印式制造方法包括:制造一增亮膜转印滚轮;以增亮膜转印滚轮滚压一透光膜,进而构成一增亮膜。增亮膜转印滚轮的制造过程包含:于一透光圆管的外表面涂布一负光阻层;将一光源搭配一光罩来共同伸入透光圆管内,并以一预定光形穿过透光圆管并照射在负光阻层;将光源与光罩相对于透光圆管旋转,以使透光圆管的外表面的负光阻层的一部位,其能够受到具备预定光形的光线照射而构成一棱镜微结构转印层;去除未形成棱镜微结构转印层的负光阻层的另一部位,构成增亮膜转印滚轮。本发明所提供的增亮膜能通过增亮膜的转印式制造方法,以大幅降低增亮膜的制造时间及制造成本。
- 增亮膜转印式制造方法
- [发明专利]转印滚轮及其制造方法-CN202110268588.9在审
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林刘恭
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光群雷射科技股份有限公司
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2021-03-12
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2022-09-20
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G03F7/24
- 本发明公开转印滚轮及其制造方法。转印滚轮制造方法包括一滚轮提供步骤、一基板提供步骤、一压板步骤、一分离步骤、以及一滚轮形成步骤。在滚轮提供步骤中,外表面设置有一光阻层的一金属滚轮被提供,且光阻层形成有多个曝光图案。在基板提供步骤中,设置有一层保护膏的一基板被提供。在压板步骤中,每个曝光图案压浸于保护膏中,且每个曝光图案浸于保护膏与未浸于保护膏的体积高度比值介于0.5~0.76。在分离步骤中,金属滚轮与保护膏分离。在滚轮形成步骤中,光阻层与外表面被蚀刻,而后光阻层被去除以形成转印滚轮。转印滚轮及其制造方法能通过压板步骤,降低转印滚轮的制造困难度,并能有效避免金属滚轮的外表面的不平整情况。
- 滚轮及其制造方法
- [实用新型]转印模制设备-CN202121905772.1有效
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林刘恭
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光群雷射科技股份有限公司
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2021-08-13
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2022-03-29
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B41C1/00
- 本实用新型公开一种转印模制设备,其包括:一光学桌、一软烤装置、一光刻装置、以及一拆板装置。光学桌用来承载一基板,并且光学桌的边缘环绕且间隔地设置于基板。基板的长度介于1.6米至1.8米之间,并且基板的宽度介于1米至1.2米之间。软烤装置间隔地设置于光学桌,并且软烤装置包含多个软烤灯。光刻装置间隔地设置于软烤装置,并且光刻装置包含至少一个光刻光源。拆板装置间隔地设置于光刻装置,并且拆板装置能用来拆解基板。借此,通过应用根据本实用新型的转印模制设备,能够制作大型尺寸的模板。
- 印模设备
- [实用新型]点状滚轮蚀刻设备-CN202122584886.7有效
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林刘恭
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光群雷射科技股份有限公司
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2021-10-26
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2022-03-22
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C23F1/08
- 本实用新型公开一种点状滚轮蚀刻设备,用来对一金属滚轮进行蚀刻,点状滚轮蚀刻设备包括一滚轮固定装置、一弹性罩、一蚀刻装置以及一拉伸装置。滚轮固定装置用来固定金属滚轮。弹性罩用来部分贴合于金属滚轮,并且弹性罩包含一罩体及形成于罩体的多个开孔,而罩体能用来遮蔽金属滚轮的外表面,多个开孔能用来曝露金属滚轮的部分外表面。蚀刻装置间隔地设置于滚轮固定装置,而蚀刻装置用来对金属滚轮的部分外表面进行蚀刻并对应形成一蚀刻图案。拉伸装置安装于蚀刻装置,并且弹性罩缠绕于拉伸装置,而拉伸装置能用来配合金属滚轮卷动弹性罩。借此,残留于所述金属滚轮上的蚀刻液能减少。
- 滚轮蚀刻设备
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