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- [发明专利]曝光装置及图形形成方法-CN201010157502.7有效
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伊藤三好
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集成方案株式会社
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2005-06-20
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2010-09-22
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G03F7/20
- 本发明是一种曝光装置及图形形成方法，该曝光装置具备：使光束和导向光两者都在同一方向上扫描的曝光光学系统(1)，所述光束利用光开关(9)进行开、关控制，并对玻璃基板(8)照射以进行曝光，所述导向光由不对玻璃基板(8)曝光的波长构成，并与光束的光轴重迭地射出，始终照射在玻璃基板(8)上；与所述导向光的扫描方向正交地设置在该导向光的扫描开始侧，并检测导向光通过的扫描开始时刻的线状传感器(17)；光学系统控制手段(7)，以导向光的扫描开始时刻为基准，控制光开关的开、关，使光束照射在玻璃基板(8)上。
- 曝光装置图形形成方法
- [发明专利]曝光方法以及曝光装置-CN200680054845.2有效
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饭野仁
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集成方案株式会社
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2006-06-07
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2009-06-17
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G03F7/20
- 本发明的曝光装置对于通过基板搬运单元(5)以一定速度向一定方向搬运的基板(4)，在曝光部位(曝光部分)(2)通过在曝光光学系统(3)的光轴(光程)(S)上设置的掩膜(11)照射来自灯(连续光源)(9)的曝光光。在基板(4)上转印并曝光掩膜(11)的开口部分(11a)的图像时，由摄像单元(6)的线性CCD(20)拍摄在基板(4)上预先形成的像素(基准图案)(18)的前方边缘以及侧方边缘(图案边缘)，检测出基板(4)上的搬运方向和与该搬运方向成直角的方向中的基准位置。在由摄像单元(6)拍摄的像素(18)从摄像位置(F)被移动到曝光位置(E)时，曝光部位(2)一边对掩膜(11)进行位置调节以使掩膜(11)的位置与基板(4)上的基准位置一致，一边对沿基板(4)的搬运方向的曝光区域进行连续曝光。
- 曝光方法以及装置
- [发明专利]液晶显示装置用基板的制造方法-CN200580046016.5有效
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饭野仁
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集成方案株式会社
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2005-10-28
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2008-01-02
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G02F1/1335
- 本发明提供一种在TFT基板的规定位置上高精度地形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案的液晶显示装置用基板的制造方法。为此，包括：在TFT基板(6)上涂敷滤色器或者黑矩阵的感光材料的步骤；由搬运单元(3)边以规定速度搬运涂敷了上述感光材料的TFT基板(6)边由摄像单元(2)拍摄像素区域的步骤；由控制单元(4)的图像处理部(13)检测利用上述摄像单元(2)拍摄的像素区域中预先设定的基准位置的步骤；以及形成步骤，以该检测出的基准位置为基准，由灯控制器(16)控制曝光光学系统(1)的光源(7)的照射定时，在TFT基板(6)的规定位置上形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案。
- 液晶显示装置用基板制造方法
- [发明专利]曝光装置-CN200580022190.6有效
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伊藤三好
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集成方案株式会社
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2005-06-27
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2007-06-13
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G03F9/00
- 一种曝光装置，其包括：从光源(7)对滤色片基板(6)照射曝光用光的曝光光学系统(2)；与该曝光光学系统(2)相对配置的、载置并以一定速度输送所述滤色片基板(6)的输送设备(4)，将夹装在所述曝光光学系统(2)的光路上的遮光板(10)的开口部(10a)的像曝光在所述滤色片基板(6)上，其包括：摄像设备(3)，其在所述输送设备(4)的移动方向以所述曝光光学系统(2)的曝光位置的跟前侧为摄像位置，对所述滤色片基板(6)上所预先形成的黑底(11)进行摄像；控制设备(5)，其检测出经所述摄像设备(3)摄像的黑底(11)所预先设定的基准位置，以该基准位置为基准，对所述曝光光学系统(2)的曝光用光的照射时间进行控制，将所述遮光板(10)的开口部(10a)的像曝光在所述滤色片基板(6)的规定位置上。由此，提供一种采用小的遮光板高效地在宽阔的曝光区域进行曝光的曝光装置。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光图案形成方法-CN200580013115.3有效
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伊藤三好
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集成方案株式会社
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2005-04-28
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2007-04-11
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G03F7/20
- 本发明的曝光图案形成方法中，在玻璃基板(8A)的下侧配置预先形成了成为曝光位置基准的基准图案(P)的基准玻璃基板(8B)，由运送装置(4)在箭头A方向上运送，由照明装置(6)自上述运送装置(4)的下方对上述基准图案(P)进行照明，利用上述运送装置(4)上方配置的拍摄装置(5)对上述基准图案(P)进行拍摄，由光学系统控制手段(7)检测上述拍摄装置(5)拍摄的上述基准图案(P)上预先设定的基准位置，以该基准位置为基准对上述激光束的开始照射或停止照射进行控制，在上述玻璃基板(8A)的规定位置对层叠形成于上述玻璃基板(8A)上、成为功能图案基准的黑色点阵的像素进行曝光。由此在提高功能图案重合精度的同时抑制曝光装置成本上升。
- 曝光图案形成方法
- [发明专利]曝光装置-CN200580013348.3有效
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伊藤三好
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集成方案株式会社
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2005-04-28
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2007-04-11
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G03F9/00
- 本发明的曝光装置(1)，使从曝光光学系统(3)照射的光束在与玻璃基板(8)的移动方向(箭头A)相正交的方向上相对地扫描，在玻璃基板(8)上以规定的间距对功能图案进行曝光，其中包括：对预先形成于玻璃基板(8)的黑色点阵的像素进行拍摄的拍摄装置(5)；以及对拍摄装置(5)取得的像素的图像数据进行规定的图像处理，去除光束的一次扫描区域的像素列图像中的缺陷来生成无缺陷的像素列图像，对该无缺陷的像素列图像检测开始曝光或结束曝光的基准位置，以该基准位置为基准对光束的开始照射或停止照射进行控制的光学系统控制手段(7)。由此，在提高功能图案的重合精度的同时抑制曝光装置的成本升高。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置及图形形成方法-CN200510081105.5有效
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伊藤三好
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集成方案株式会社
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2005-06-20
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2006-12-27
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G03F7/20
- 本发明是一种利用曝光光学系统使激光光束对玻璃基板进行相对扫描，在该玻璃基板上使功能图形直接曝光的曝光装置，该装置具备：在所述比例基板的输送方向上将所述激光光束的扫描位置的面前一侧作为摄像位置，拍摄在所述玻璃基板上预先形成的黑底的像素的摄像装置；对所述黑底的像素进行照明，使所述摄像装置能进行摄像的照明手段；以及检测出用所述摄像装置摄得的预先设定在所述像素上的基准位置，并以该基准位置为基准控制所述激光光束的开始照射或停止照射的控制手段。通过这样，在提高功能图形的叠合精度之同时，还能抑制曝光装置成本的增加。
- 曝光装置图形形成方法
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