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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]曝光装置-CN200710111347.3无效
发明人：厚见辰则;中村兼吾 -专利权人：日本精工株式会社
申请日： 2007-06-15 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种通过能够可靠地防止因与基板的干涉导致掩模破损的曝光装置。分割逐次接近曝光装置PE包括：激光监视装置(70)，其具有发射出大致在水平方向上通过保持在掩模装载台(1)的掩模M与保持在工件装载台(2)的基板W间的规定位置的激光束LB的发光部(71，72)和接收激光束LB的受光部(73，74)；和控制装置(80)，当受光部(73，74)接收的激光束LB的受光量在规定值以下时，停止工件装载台的上升移动。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200710200121.0无效
发明人：袁崐益 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2007-01-26 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种可用于镜头模组组装过程中的曝光装置。一种曝光装置，其包括光源及一个与该光源相对设置的承载机构，该光源发出的光束投射到该承载机构上，所述承载机构包括一个承载台，一个设置在该承载台上且设置有内齿牙的齿圈，一个设置在该承载台上且与该齿圈共中心轴线的第一齿轮，至少一个设置在该齿圈与该第一齿轮之间且分别与该齿圈的内齿牙及该第一齿轮相啮合的第二齿轮，所述至少一个第二齿轮的与该光源相面对的表面上设置有至少一个用于容置被曝光物的容置槽，所述至少一个第二齿轮绕该中心轴线旋转的同时可以绕其自身的中心线自转
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200710149283.6无效
发明人：小林义则 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2007-09-11 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供以不降低绘制分辨率而扩大带宽的曝光装置，或不会使曝光资料演算处理复杂化而在绘制分辨率高的状态下进行曝光的曝光装置。曝光装置包括DMD、成像光学系统以及绘制部，其中成像光学系统具有投影部，其包括将从在DMD中的开启状态的微型反射镜反射的光所构成的中间投影像聚集在对于主扫描方向xx形成一定倾斜角度θ的第一方向x上的第一方向圆筒状镜片绘制部在曝光时，由DMD经由成像光学系统、投影像被投影，在主扫描方向xx移动。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200710154071.7无效
发明人：五十岚晃;今井洋之;川俣晴男;杉田健一;江部克己;田口阳介 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2007-09-13 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，该曝光装置精度高且曝光时间也能缩短。提升曝光台(1)，使胶片掩模(2)与基板(90)接触，形成密闭空间(40)，通过减压泵(60)来减压，对胶片掩模(2)与基板(90)进行1次密合。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200810081702.1无效
发明人：渡辺义光 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2008-02-25 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，通过有效地进行基板(B)和光掩模(M)及台板(5)的除尘而实现成品率高的曝光。在搬入手(3)的搬入和退避动作时，第一清洁头(1)接触台板(5)的上表面来进行除尘。在除尘时通过加压装置(16)经轴承(17)对轴(22)施加载荷，该载荷向硬质连接环(23)、软质连接环(24)、辊芯(21)、清洁部(20)传递，清洁部(20)被按压在清洁面(8)上。虽然轴(22)因加压装置(16)的载荷而弯曲，但轴(22)的弯曲由软质连接环(24)吸收，从而辊芯(21)不弯曲而保持平坦的状态。由此，对清洁面的压力分布变均匀，可进行有效的清洁。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200810099206.9无效
发明人：铃木俊也 -专利权人：哈利盛东芝照明株式会社
申请日： 2008-05-08 - 公布日： 2008-11-12 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种具有制造成品合格率良好的窗部件的曝光装置。滤波器(6)通过将多个瓦状滤波器(10)组合后配置在玻璃板(5)的表面上而构成。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200510071774.4无效
发明人：金相珍 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2005-02-02 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置，包括在台上沿预定方向移动的玻璃，置于玻璃上方并在其中具有转印图案的辊型薄膜掩模，以及曝光系统，用于在薄膜掩模的上表面上辐射紫外光，从而使薄膜掩模中形成的转印图案转印到玻璃上。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200610076560.0无效
发明人：早川利郎;松本研司;森本美范;齐藤贤一 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-03-25 - 公布日： 2006-11-01 - 主分类号： G03B27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置。在该曝光装置中，把GaN系列蓝色半导体激光器用作光源，其特征在于：构成为在把最接近所述蓝色半导体激光器的活性层的发光面的耦合透镜的孔径数设为NA，把来自所述发光面的光束扩散角度设为α时，满足NA·tan
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200610004900.9无效
发明人：西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN200610007356.3无效
发明人：屋木康彦;薮慎太郎;氏益稔 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2004-06-04 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，曝光装置具有：以多个掩模标记为基础与校准标记的分配点WB进行比较的第一比较单元；根据第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点WB相对于上述掩模标记的分配点MB是否在容许范围内的第一判断单元；在上述第一判断单元判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体
曝光装置

[实用新型]曝光装置-CN201020566256.6有效
发明人：刘晏绮;郑耀豊;黄秋蓉 -专利权人：华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司
申请日： 2010-10-12 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：一种曝光装置，应用于一光配向流程。曝光装置包括一发光单元以及一光折射组件。发光单元能发出一线偏振光。光折射组件具有一入光面以及多根出光条。
曝光装置

[实用新型]曝光装置-CN201320462091.1有效
发明人：王德帅;郭建 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2013-07-31 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种曝光装置，涉及微电子领域，可更加简单直观的判断出基板与掩膜板的对位情况，提高了曝光装置的工作效率。本实用新型实施例的曝光装置，包括用于放置基板的基板基台、用于放置掩膜板的掩膜板基台，所述基板上设置有第一对位标记组，所述掩膜板基台上设置有第二对位标记组，所述曝光装置还包括第一物镜组和第二物镜组；所述第一物镜组用于捕捉所述第一对位标记组
曝光装置

[实用新型]曝光装置-CN201320112359.9有效
发明人：坂田勇 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2013-03-12 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： G03G15/04 文献下载
摘要：一种曝光装置，具有：光源；扫描单元；外壳，具有收容空间；开闭器，其可以摆动地设置在外壳中，其可在遮断从光源到扫描单元的激光的射出路径的遮断位置和开放射出路径的开放位置之间变位；变位单元，在主体罩子相对于装置主体开放时，使开闭器向遮断位置变位，在主体罩子相对于装置主体封闭时，使开闭器向开放位置变位。根据上述曝光装置，可以实现对于图像形成装置的搭载性的提高。
曝光装置

[实用新型]曝光装置-CN201521128620.X有效
发明人：李建兴 -专利权人：群创光电股份有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种曝光装置，其可对一第一基板及一第二基板进行一光配向工艺，曝光装置包括一传输单元、一第一移动平台及一第二移动平台以及一光源模组。本实用新型的曝光装置能有效利用曝光光源、增加产能及降低光配向工艺工站时间。
曝光装置

[实用新型]曝光装置-CN201922115954.8有效
发明人：许文豪 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种曝光装置。所述曝光装置包括：支撑台，用于承载光罩；检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。本实用新型可以提高所述光罩检测的效率以及准确率；同时，避免了将光罩取出、在曝光机台外部进行清洁的繁琐操作以及二次污染的风险，提高了光罩清洁的效率，从而相应提高了曝光装置的机台产能。
曝光装置

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