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[实用新型]一种曝光机用的曝光装置-CN201720902438.8有效
发明人：付菊玲 -专利权人：深圳市欣光辉科技有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种曝光机用的曝光装置，包括供电模块，所述的曝光装置还包括均与供电模块相连接的PLC可编程控制器、人机界面、灯源模组及曝光框架，所述的人机界面用于将设定的曝光信息传送到所述PLC可编程控制器，所述的PLC可编程控制器驱动所述曝光框架进入到曝光室，所述的PLC可编程控制器驱动所述的灯源模组对所述的曝光框架进行曝光。本实用新型提出的一种曝光机用的曝光装置，通过人机界面依曝光要求设定曝光的信息来控制曝光，曝光更充分。
一种曝光装置

[发明专利]图像采集系统及其控制方法、放射治疗系统-CN202180095214.X在审
发明人：赵文亮;张生林 -专利权人：西安大医集团股份有限公司
申请日： 2021-04-01 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：一种图像采集系统，包括旋转体、设置于旋转体上的X射线发生装置和探测器、高压发生器、曝光控制器和运动控制装置。其中，X射线发生装置被配置为发出X射线。探测器被配置为接收X射线并生成投影图像。高压发生器被配置为向X射线发生装置提供高压，以使X射线发生装置进行多次曝光，并生成多个曝光信号。曝光控制器被配置为依次获取来自高压发生器的多个曝光信号，并依次将多个曝光信号发送给运动控制装置，每个曝光信号用于指示X射线发生装置发生曝光时的曝光时刻。运动控制装置被配置为依次获取来自曝光控制器的多个曝光信号，并获取旋转体在每个曝光时刻对应的旋转角度，每个旋转角度分别与探测器在对应的曝光时刻生成的投影图像相对应。
图像采集系统及其控制方法放射治疗

[实用新型]一种晶圆加工用扫描式高效曝光装置-CN202220703227.2有效
发明人：金成昱;梁贤石 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆加工用扫描式高效曝光装置，涉及晶圆加工技术领域，其技术方案要点是：加工设备安装有包含扫描器的高度检测装置，扫描器配置有主曝光灯和备曝光灯，加工设备还安装有边缘曝光装置，边缘曝光装置和高度检测装置同步启闭；备曝光灯设有用于将光线聚集后传导至位于边缘曝光装置中的目标晶圆边缘处的光传导组件。本实用新型将晶圆片边缘曝光和晶圆高度检测集成于同一加工设备上，且通过光传导组件将扫描器中备曝光灯的光线聚集后传导至位于边缘曝光装置中以替代边缘曝光装置中的曝光灯，缩短了晶圆加工周期，降低晶圆加工的成本，能够有效避免原来的备曝光灯在几乎没有使用的情况下即替换的情况下。
一种晶圆加工用扫描高效曝光装置

[发明专利]一种玻璃曝光设备及方法-CN201910205361.2在审
发明人：俞庆平;章广飞 -专利权人：安徽地势坤光电科技有限公司;安徽地势坤装备科技有限公司
申请日： 2019-03-18 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及玻璃加工技术领域，公开了一种玻璃曝光设备及方法。本发明实施例的玻璃曝光设备包括曝光装置、递送装置以及控制装置。曝光装置包括曝光台、载物驱动机构、定位机构以及激光曝光组件，激光曝光组件用于对工件进行激光直写。整个设备采用了激光直写的方式对玻璃工件进行图案加工，并且利用了可移动的曝光台将生料(待曝光的工件)依次带到各个工位进行加工，并由递送装置完成上、下料，整个加工过程较为高效，时间成本和人力成本均较低。本发明实施例的玻璃曝光方法利用了上述的玻璃曝光设备，因此也具有加工效率高的优点。
曝光设备玻璃激光曝光组件递送装置激光直写曝光装置曝光台玻璃工件玻璃加工定位机构加工效率控制装置驱动机构人力成本时间成本图案加工曝光可移动工位生料下料载物加工

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法-CN202211306939.1在审
发明人：山本和树;小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。本发明提供有利于降低在基板上产生的曝光不均的曝光装置。针对基板中的同一拍摄区域进行多次扫描曝光的曝光装置具备：光源部，周期性地射出脉冲光；以及控制部，使用从所述光源部射出的脉冲光来控制所述多次扫描曝光，所述控制部以使在所述多次扫描曝光中的各次扫描曝光中在所述拍摄区域上周期性地产生的曝光不均通过所述多次扫描曝光而至少部分性地相抵的方式，根据所述曝光不均的周期，在所述多次扫描曝光中变更扫描曝光中的来自所述光源部的脉冲光的射出开始定时。
曝光装置方法以及物品制造

[发明专利]一种曝光装置、光刻设备及太阳能电池电极的制备方法-CN201910531041.6有效
发明人：陈勇辉;张为国;唐世弋 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种曝光装置、光刻设备及太阳能电池电极的制备方法，属于光刻技术领域，该曝光装置的工作台的能够兼容柔性待曝光样品和非柔性待曝光样品，以使曝光装置即能够对柔性待曝光样品，也能够对非柔性待曝光样品进行曝光
一种曝光装置光刻设备太阳能电池电极制备方法

[发明专利]网板曝光机监控系统-CN201410088620.5有效
发明人：詹文清;罗志雄 -专利权人：旺昌机械工业（昆山）有限公司
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种网板曝光机监控系统，用于监控网板曝光机的曝光装置的工作状态，包括设定曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，并透过持续侦测所述曝光装置中的光学元件的即时光功率（mW），俾于分析所述侦测到的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值不吻合，即可依据设定的异常处理操作流程执行相应的操作，从而达到可在后续轻易筛选出曝光不良品并分析导致曝光不良的原因的目的，同时还能透过控制所述曝光装置自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生
曝光监控系统

[实用新型]网板曝光机监控系统-CN201420109580.3有效
发明人：詹文清;罗志雄 -专利权人：旺昌机械工业（昆山）有限公司
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种网板曝光机监控系统，用于监控网板曝光机的曝光装置的工作状态，包括：设定曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，并透过持续侦测所述曝光装置中的光学元件的即时光功率（mW），俾于分析所述侦测到的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值不吻合，即可依据设定的异常处理操作流程执行相应的操作，从而达到可在后续轻易筛选出曝光不良品并分析导致曝光不良的原因的目的，同时还能透过控制所述曝光装置自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生
曝光监控系统

[发明专利]曝光机-CN202311084969.7在审
发明人：项宗齐;汪涛;刘国藩 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-08-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。
曝光

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法-CN202210244019.5在审
发明人：板桥宏明 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-03-14 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。一种曝光装置，是用来自光源的光对原版进行照明，进行一边使基板在扫描方向上移动一边将所述原版的图案曝光到所述基板的扫描曝光的曝光装置，所述曝光装置以使通过第1曝光而曝光的区域与通过第2曝光而曝光的区域部分地重复的方式进行连结曝光，所述曝光装置具有：投影光学系统，将所述原版的图案投影到所述基板；遮光板，对所述第1曝光以及所述第2曝光中的至少一方中的曝光的光的一部分进行遮光；及多个调整部，对所述遮光板施加力，调整被该遮光板遮光的光量
曝光装置方法以及物品制造

[发明专利]直接曝光装置和基板的曝光方法-CN202011296878.6在审
发明人：绿川悟 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。
直接曝光装置方法

[发明专利]自动曝光调节方法、装置、图像采集方法、介质及设备-CN202210037482.2在审
发明人：朱林靖 -专利权人：瑞芯微电子股份有限公司
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本公开提供一种自动曝光调节方法、装置、图像采集方法、介质及设备。所述方法包括：获取与采集到的当前图像的亮度相对应的曝光量作为第一曝光量；根据所述当前图像的亮度和目标亮度获取第二曝光量；以及根据所述第一曝光量、所述第二曝光量和自动曝光调节系数获取第三曝光量，其中所述自动曝光调节系数与曝光调节速度相关所述方法能够实现图像采集装置的自动曝光调节。
自动曝光调节方法装置图像采集介质设备

[发明专利]曝光控制装置和曝光控制方法-CN200410083768.6有效
发明人：仓根治久 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-10-19 - 公布日： 2005-04-27 - 主分类号： G03B7/091 文献下载
摘要：一种曝光控制装置和曝光控制方法。曝光控制装置(1)在使图像传感器(11)的快门速度和PGA(12)的增益的校正量按照曝光误差的大小来变化的同时，将其调整成使曝光误差在曝光容许范围内。并且，曝光控制装置(1)根据从微控制器(30)输入的控制灵敏度，使图像传感器(11)的快门速度和PGA(12)的增益的校正量按照规定的不同变化率来变化。并且，曝光控制装置(1)在使曝光误差收敛到曝光容许范围内之后，在发生闪烁现象的情况下，设定低的控制灵敏度。因此，根据本发明的曝光控制装置(1)，为了从摄影图像中检测出目标信息，能够进行合适的曝光控制。
曝光控制装置方法

[发明专利]基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置-CN201611189431.2在审
发明人：陈星宏;周詹闵 -专利权人：光宝电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司
申请日： 2016-12-21 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。曝光控制方法包括：根据多个曝光条件对物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组；从所述曝光条件中决定最佳曝光条件，其中最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他影像组的曝光不合格值，曝光不合格值是藉由每一影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定；以及根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。本发明的曝光控制方法及曝光控制装置会从多个曝光条件中决定最佳曝光条件，并根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。
影像组最佳曝光条件曝光控制曝光控制装置曝光条件结构光立体影像曝光过度曝光扫描操作低像素像素

[发明专利]曝光装置和曝光方法-CN201510208609.2有效
发明人：林慎一郎 -专利权人：恩斯克科技有限公司
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置和曝光方法，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。曝光装置(PE)包括对照射到工件(W)的曝光光的照度进行测定的照度计(40)，在将工件(W)曝光前，使用照度计(40)来测定经由平面镜(68)照射到工件(W)的曝光光的曝光区域(A)的照度分布。
曝光装置方法