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[实用新型]一种监控曝光机曝光能量的装置-CN202022777021.8有效
发明人：韩少华;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：上达电子（深圳）股份有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种监控曝光机曝光能量的装置，属于线路板制造技术领域。包括曝光灯、干板平台区域、曝光后传输装置、承载产品平台、曝光测量仪器平台和处理控制传输器，所述的曝光灯设置在干板平台区域的上方，曝光后传输装置设置在干板平台区域下方，承载产品平台设置在曝光后传输装置的下方，曝光后传输装置和承载产品平台的中间设置曝光测量仪器平台，曝光测量仪器平台连接处理控制传输器，曝光测量仪器平台对曝光灯的曝光量进行收集。本实用新型的有益效果是：曝光检测仪器可以通过对曝光能量的监控，控制曝光能量的问题，造成批量的线路不良问题。减少人为的去检测曝光能量，实现检测自动化。
一种监控曝光能量装置

[实用新型]一种全自动一体曝光生产线-CN201620634210.0有效
发明人：倪沁心;梁添贵;陈建明 -专利权人：广东华恒智能科技有限公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及柔性线路板曝光技术领域，尤其涉及一种全自动一体曝光生产线，包括第一单面曝光装置和第二单面曝光装置，所述第一单面曝光装置和第二单面曝光装置之间设置有翻转机构，所述第一单面曝光装置包括对位机构和曝光机构，所述对位机构包括对位平台，所述对位平台设置有CCD对位机构，所述对位平台的下端设置驱动对位平台进行XY轴调整的XY调整机构，所述曝光机构包括曝光平台，所述第一单面曝光装置还包括将对位平台移动至曝光平台下方的传动机构，本实用新型能够实现基材的精确定位，并自动移动至曝光机构处曝光、当基材一面曝光好后，自动对基材翻转，并传至另一单面曝光装置上，对另一面进行曝光处理，无需人工操作，效率高，降低成本。
一种全自动一体曝光生产线

[实用新型]一种液体版UVA‑LED曝光机-CN201620403900.5有效
发明人：陈水波 -专利权人：广州市白云区科茂印务设备厂
申请日： 2016-05-06 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种液体版UVA‑LED曝光机，包括机架体和机盖体，在机架体上设有下玻璃板和垂直升降机构，在下玻璃板的下方设有第一移动装置和主曝光装置，主曝光装置设在第一移动装置上，所述主曝光装置包括UVA‑LED光源，所述机盖体与垂直升降机构连接且机盖体处于下玻璃板的上方，在机盖体上设有背曝光部，所述背曝光部包括第二移动装置、背曝光装置和上玻璃板，第二移动装置和背曝光装置处于上玻璃板的上方，背曝光装置设在第二移动装置上主曝光装置和背曝光装置分别对液体版的正面和背面进行曝光工作，不需要进行翻版操作，同时第一移动装置和第二移动装置可以改变主曝光装置和背曝光装置相对于液体版的相对位置，这样可以根据不同的使用需求来进行往返曝光
一种液体 uva led 曝光

[发明专利]曝光方法以及曝光装置-CN201811109442.4有效
发明人：荻原元德 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法以及曝光装置。提供一种能够实现比曝光装置的曝光位置的定位精度高的曝光位置精度的曝光方法。曝光方法包括以下步骤：(1)根据曝光掩模和工件的相对的位置关系来计算工件上的曝光位置；(2)将即使曝光位置偏离工件上的目标曝光位置也容许图案的投影的范围设定为曝光位置范围；(3)执行如下的曝光控制：在所述曝光位置进入所述曝光位置范围的情况下向曝光掩模照射曝光光，在所述曝光位置偏离曝光位置范围的情况下使曝光光停止，其中，使用曝光光的所述曝光控制来将曝光掩模上的图案投影到工件上。
曝光方法以及装置

[发明专利]曝光方法、曝光装置以及物品制造方法-CN201910825064.8在审
发明人：永井善之;籔伸彦 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种曝光方法、曝光装置以及物品制造方法，该技术能够一边维持生产率一边降低曝光不均。曝光方法是曝光装置中的曝光方法，该曝光装置包含将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，该曝光装置对所述基板进行扫描曝光，该曝光方法具有：取得在扫描曝光中发生的所述投影光学系统的光学特性的变动的信息的工序；以降低由所述变动产生的曝光不均的方式来确定作为所述基板上的每一个点的曝光时间的目标值的目标曝光时间的工序；以使所述基板上的每一个点的曝光时间成为已确定的所述目标曝光时间的方式来调整曝光条件的工序；以及按照调整过的所述曝光条件来进行所述基板的扫描曝光的工序
曝光方法装置以及物品制造

[发明专利]一种曝光装置和光路控制装置-CN201510109956.X有效
发明人：肖宇;吴洪江;黎敏;李晓光;姜晶晶 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2015-03-13 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置及光路控制装置。所述曝光装置用于对位于不同曝光区的至少两个待曝光产品进行同时曝光，所述曝光装置包括光发生组件，用于生成第一光线；光路控制单元，与掩膜版配合，利用所述第一光线产生投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线所述光路控制装置用于曝光装置，包括所述光路控制单元。
一种曝光装置控制

[发明专利]双面曝光设备及曝光装置-CN202010577840.X在审
发明人：阮文兴;吕俊贤;尹作均 -专利权人：志圣科技(广州)有限公司
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种双面曝光设备及曝光装置。所述双面曝光设备包含曝光装置以及对应于所述曝光装置设置的输送装置，所述曝光装置包含曝光腔室、传输机构以及两个台框。所述曝光腔室包含有间隔设置的上曝光机构与下曝光机构，所述传输机构分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外，两个所述台框安装于所述传输机构且每个所述台框的相反两侧分别设置有两个底片。所述输送装置包含入料模块、出料模块以及移载模块。所述出料模块沿产线方向与所述入料模块间隔设置。通过所述上曝光机构、所述下曝光机构、以及所述传输机构，所述台框仅需在单一腔室内外移动，使原有曝光时间缩短为至少一半。
双面曝光设备装置

[发明专利]基于高动态范围摄像装置的曝光控制方法和装置-CN201611237265.9有效
发明人：阮文哲 -专利权人：上海兴芯微电子科技有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种基于高动态范围摄像装置的曝光控制方法和装置，所述曝光控制方法包括：基于高动态范围摄像装置获取短曝光图像和长曝光图像；分别统计短曝光图像和长曝光图像的直方图信息和分区域亮度信息；分别获取短曝光的调整影响值和长曝光的调整影响值，短曝光的调整影响值与短曝光图像的直方图信息和分区域亮度信息相关，长曝光的调整影响值与长曝光图像的直方图信息、分区域亮度信息和短曝光图像的分区域亮度信息相关；基于短曝光的调整影响值进行短曝光调整，基于长曝光的调整影响值进行长曝光调整；当短曝光达到稳定后，基于短曝光的亮度评估值与长曝光的亮度评估值的比值进行长曝光调整，直至长曝光达到稳定。
基于动态范围摄像装置曝光控制方法

[发明专利]印相机-CN94108860.X无效
发明人：谷端透 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1994-06-03 - 公布日： 2000-02-23 - 主分类号： G03B27/73 文献下载
摘要：一种像印机，包括投影曝光装置、影像曝光装置、输送装置、读取装置和修正信息输入装置。根据读取装置读取的影像信息和修正信息输入装置发出的修正信息指令，影像曝光装置产生的作为影像曝光信息的影像信息仅集中于按照修正内容作了修正的修正目标部分。输送装置以这样的方式输送感光材料投影曝光装置的投影曝光和影像曝光装置的曝光以重合方式在感光材料上进行。
相机

[发明专利]清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置、以及器件制造方法-CN200780049273.3无效
发明人：长坂博之;森田博志;床嶋裕人 -专利权人：株式会社尼康;栗田工业株式会社
申请日： 2007-12-04 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置以及器件制造方法。曝光装置借助曝光用液体利用曝光光对基板进行曝光。为了清洗曝光装置的至少一部分，将清洗用液体供给到曝光装置。
清洗液体方法产生装置曝光以及器件制造

[发明专利]曝光描绘装置及曝光描绘方法-CN201380010638.7有效
发明人：桥口昭浩;菊池浩明;吉川武志 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2013-01-24 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种能够确认对各被曝光基板的曝光处理时的曝光装置内的尘埃等级的曝光描绘装置及曝光描绘方法。所述曝光描绘装置具备：曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；计数单元，对曝光描绘装置内的微粒的粒子数进行计数；判定单元，判定曝光单元的曝光处理中利用计数单元计数出的粒子数是否是基于与电路图案的图案相关的尺寸而规定的阈值以上；及附加单元，在由判定单元判定为是阈值以上的情况下，对被曝光基板附加预先规定的信息。
曝光描绘装置方法

[发明专利]曝光系统与曝光工艺-CN201310545591.6在审
发明人：林承叡;陈右儒;高振宽;郑竹均 -专利权人：群创光电股份有限公司
申请日： 2013-11-06 - 公布日： 2015-05-20 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明揭露一种曝光系统与曝光工艺。其中，曝光系统是对一组立液晶面板进行曝光工艺。组立液晶面板具有一应连续曝光时间。曝光系统包括一光源装置、一快门装置以及一控制装置。光源装置可发射一光线照射于组立液晶面板。快门装置位于光线的光路径上。控制装置控制光源装置或快门装置，进而控制照射于组立液晶面板的光源照度，控制装置令组立液晶面板于曝光工艺中具有多个接受第一光源照度的第一曝光时间与多个接受第二光源照度的第二曝光时间，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间交错排置，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间的加总实质等于应连续曝光时间。
曝光系统工艺

[发明专利]曝光装置及曝光方法-CN200910118213.3有效
发明人：佐藤仁;山贺胜 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2009-02-25 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置和曝光方法。该曝光装置(100)是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体(T)送至曝光台(50)上，并将掩膜(M)的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置(100)具有：按压被曝光体的压板(42)；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(MM)的图像识别部(54)；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第
曝光装置方法

[发明专利]图像曝光装置-CN97103337.4无效
发明人：石川正纯;谷端透 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1997-03-20 - 公布日： 2002-05-01 - 主分类号： G03B27/80 文献下载
摘要：一种可自动变更光输出部的曝光量，以使曝光部的光输出部曝光量的离散变小，又不使曝光部大型化的图像曝光装置。该装置具有以图素为单位将图像数据变换成所定曝光量的光信号输出于感光纸上使其曝光的、具有多数的光输出部的曝光部，利用扫描装置测量由曝光部曝光基准图像所得到的感光纸上的图像的各图素浓度，并用补正装置将该测量的浓度数据变换成补正数据，用以变更各光输出部的曝光量，使各光输出部的曝光量的离散变小，用一控制部控制曝光部的曝光动作和扫描装置的测量动作。
图像曝光装置

[发明专利]分区对位模式的拼版曝光装置及其曝光方法-CN201811125799.1在审
发明人：蔡志国;徐乡;王志 -专利权人：苏州微影激光技术有限公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及光学设备领域，解决现有技术的PCB板曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座，设置在底座上曝光平台，用于PCB板Mark点识别的摄像头，以及PCB板曝光的曝光装置，曝光平台上分别设有两组用于放置PCB板的左PCB板定位条和右PCB板定位条，摄像头支架上对应左曝光区和右曝光区分别设有一个摄像头，摄像头滑动设置在摄像头支架上；曝光装置支架上对应左曝光区和右曝光区分别设有一个以上的曝光装置，底座上设有驱动曝光平台垂直摄像头支架和曝光装置支架移动的曝光平台驱动机构。可以同时对两块PCB板进行mark取点，同时对两块PCB板曝光，增加曝光平台利用率，同时提高了曝光效率，提升了制板产能。
曝光平台曝光装置曝光区摄像头支架摄像头底座曝光效率定位条曝光光学设备滑动设置曝光设备驱动机构支架移动右PCB板左PCB板产能对位两组拼版取点支架制板垂直分区驱动

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