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- [发明专利]曝光装置-CN202180092160.1在审
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村上晃一;滝上耕太郎;阿部哲也
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株式会社尼康
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2021-01-29
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2023-09-19
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G03F7/20
- 本发明提供能够实现微细图案成形的曝光装置。本发明的曝光装置具备射出曝光用光的光源、具有多个曝光用元件且配置在曝光用光的至少一部分的光路上的曝光图案形成装置、以及与曝光图案形成装置电连接的控制单元,控制单元通过将各曝光用元件切换成第1状态或者第2状态,对经由各曝光用元件的曝光用光是否照射至工件进行控制,使经由多个曝光用元件中的第1状态的第一曝光用元件的曝光用光的一部分光、以及经由多个曝光用元件中的与第一曝光用元件不同的第1状态的第二曝光用元件的曝光用光的一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动,依次照射至预定曝光区域的规定区域,由此使规定区域中的曝光量累计。
- 曝光装置
- [实用新型]曝光装置-CN201620608378.4有效
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宁鹏飞
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昆山国显光电有限公司
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2016-06-20
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2016-11-23
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G03F7/20
- 本实用新型提供了一种曝光装置,所述曝光装置包括:分光装置,所述分光装置具有一个或者多个入射口以及多个出射口;及一盏曝光灯,所述曝光灯位于所述分光装置的入射口一侧。在本申请提供的曝光装置中仅采用一盏曝光灯,由此便可避免照度不均的问题,从而也就能避免边缘光刻胶的曝光程度不同的问题,即能够提高曝光效果。同时,在本申请提供的曝光装置中,通过分光装置能够将一个入射光分成多个出射光,由此,同样能够实现通过一次曝光工艺,便使得一整个条形区域的边缘光刻胶进行曝光。同时,本申请提供的曝光装置还能节约曝光灯的更换时间,降低生产成本。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN202111576057.2在审
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刘萧松;李克强;吴志阳;卢毅
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宁德时代新能源科技股份有限公司
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2021-12-21
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2023-06-30
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G03F7/20
- 本申请提供了一种曝光装置,涉及曝光技术领域。曝光装置包括输送机构和曝光机构;输送机构用于输送基材,基材的表面涂有光刻胶;曝光机构包括曝光源和曝光件,曝光源用于向基材提供光线;曝光件包括与基材相对的曝光段,曝光段位于曝光源与基材之间并贴近基材设置,曝光段具有允许光线入射至基材的透光部和阻止光线入射至基材的遮光部,曝光段被配置为使透光部和遮光部与基材保持同步运动。曝光件设有遮光部和透光部的部分相对基材同步运动,实现在输送基材的过程中被曝光机构曝光处理,提高曝光效率。在基材输送过程中,遮光部和透光部相对基材静止,能够保证曝光件上的图形高速且完全曝光至基材上,且图形一致性好。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201180044697.7有效
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水村通伸
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株式会社V技术
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2011-08-16
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2013-07-17
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G02F1/1337
- 曝光装置(1)通过将液晶显示装置的各像元或者像素在宽度方向分割为2个部分并从不同的方向曝光,使取向材料膜进行光取向。曝光装置使从2个光源(第1光源(11)和第2光源(12))射出的2个曝光光(11a、12a),透射掩模(13)的预定的图案的分别不同的光透射区域,照射到与在曝光对象部件(2)上形成的取向材料膜的各像元或者像素的各分割区域对应的区域曝光装置使2个曝光光在第1和第2光源与取向材料膜之间的光路上互相交叉。由此,在取向分割方式的曝光装置中,即使在需要减小曝光光相对于曝光对象面倾斜的角度的情况下,也能以预定的图案将取向材料膜正常曝光,能够使曝光装置小型化。
- 曝光装置
- [实用新型]曝光装置-CN202023005674.0有效
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孙万华;周金东;揭海欢
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南昌欧菲显示科技有限公司
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2020-12-14
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2021-08-10
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G03F7/20
- 本申请公开了一种曝光装置,曝光装置包括第一光罩以及视觉定位组件,第一光罩包括曝光区以及设置于曝光区外围的非曝光区,曝光区的尺寸可调节以用于与不同待曝光元件的尺寸相适配,曝光区具有第一待识别标识,视觉定位组件包括第一驱动件以及设置于第一驱动件上的视觉定位件,第一驱动件配置成可带动视觉定位件运动,以使视觉定位件可对不同尺寸的曝光区上所对应的不同位置的第一待识别标识进行识别,该设计能够对不同尺寸的待曝光元件进行曝光,以提升曝光装置的适用性。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201210587429.6有效
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葛黎黎;王天明
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上海微电子装备有限公司
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2012-12-28
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2017-02-22
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光装置,其用于将电路图形投影于涂有光刻胶的硅片上,所述曝光装置包括曝光系统、运动台系统、测量系统、对准系统及传输系统,所述曝光系统用于将电路图形投影于所述硅片上,所述运动台系统用于承载掩模版和硅片并具备快速步进、定位及微调能力,所述测量系统用于测量工件台及掩模台长行程的相对运动距离,所述对准系统用于测量所述掩模版、掩模台和工件台三者之间的相对位置,所述传输系统用于所述掩模版及硅片的交换工作,本发明提供的曝光装置在增大曝光视场、减小框架稳定时间、提高产率等方面提供了一些解决方案,以提高曝光装置的曝光精度,增加曝光装置的曝光效率。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201910149815.9在审
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绿川悟;山贺胜
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株式会社ORC制作所
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2019-02-28
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2020-04-03
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光装置。利用抑制了设置空间的RtoR输送系统的曝光装置进行长基板的双面曝光。在RtoR输送系统的曝光装置(10)中,在曝光载台(15)的单侧配置供给卷轴(22)、收卷卷轴(32),在相反侧配置基板折回机构(50)。曝光部(40)在曝光载台(15)与包含供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)的基板供给/收卷装置(20)一体地进行相对移动的期间内,对长基板(W)的正面侧曝光对象部分(W1)和背面侧曝光对象部分(W2)这双方同时进行曝光
- 曝光装置
- [实用新型]曝光装置-CN201320719313.3有效
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王相钦
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意力(广州)电子科技有限公司
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2013-11-14
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2014-09-03
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种曝光装置,包括上台框,其特征在于,还包括吸附装置,所述吸附装置设置在所述上台框上。需要从曝光装置中取出已曝光材料时,打开上台框,由于上台框上设有吸附装置,吸附装置将已曝光材料吸附在上台框上,使得已曝光材料与底片分离开,直接从上台框上取已曝光材料,无需用手从下台板上取出已曝光材料,避免手指刮花底片,能延长底片的使用寿命,同时从上台框上取已曝光材料比从下台板上取,操作更加简单方便,能节省大量时间,提高工作效率。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN200680013662.6无效
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白石雅之
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株式会社尼康
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2006-05-15
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2008-04-16
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H01L21/027
- 一种曝光装置,可准确把握由光的照射热而引起的光学系统的特性变动。本曝光装置是以自光源(1a)射出的光对被曝光物(7)进行曝光的曝光装置,其特征在于包括检测上述光的非曝光波长成分的光量的检测机构(12、13、9)。因此,即使曝光波长成分的光量与非曝光波长成分的光量单独变动,亦可准确把握由光学系统的照射热引起的特性变动。其结果,亦可实现高性能的镜片调整系统。
- 曝光装置
- [发明专利]曝光装置-CN201310193949.3有效
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渡边健二
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株式会社阿迪泰克工程
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2013-05-22
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2017-10-24
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光装置,其在印刷布线基板翻转后不需要进行预校准。所述曝光装置具有进行印刷布线基板的一面侧的曝光的一面侧曝光部(1);交接部(2);以及进行另一面侧的曝光的另一面侧曝光部(3),曝光部(1、3)分别具备吸附手部(5)、吸附手部(6),在设定于曝光部(1)和曝光部(3)之间的交接部(2),利用吸附手部(5)进行印刷布线基板(99)的翻转,并直接交接至吸附手部(6)。
- 曝光装置
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