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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201310713222.3有效
发明人：高栁康治;领川幸江;吉田勇一;吉原孝介;寺下裕一;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。利用一个过滤器得到与设有多个过滤器时相同的过滤效率并谋求防止生产率降低。根据来自控制部（101）的控制信号，将抗蚀剂液（L）经由过滤器（52）吸入到泵（70）内，将被吸入到泵内的抗蚀剂液的一部分自喷射嘴（7）喷射，使余下的抗蚀剂液返回到供给管路（51b）中的位于过滤器的初级侧的部分，将与喷射量相等的补充量加入到返回量中而进行合成，对合成后的抗蚀剂液以与喷射量和返回量之比的合成相应的次数进行抗蚀剂液的喷射和由过滤器进行的过滤。
处理装置方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201310145350.2有效
发明人：安藤了至;佐藤尊三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-04-24 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。通过处理液对基板进行处理时能够高精度地测量处理液的流量并监视处理液的喷射状态。液处理装置（10）包括处理液供给源（31）和流路构件且在流路构件上具有超声波流量计（40）和用于将处理液送出到喷嘴（50）的送液机构。41）的周向上具有成对的压电元件（42），通过在两个方向上执行由一个压电元件激发超声波和由另一个压电元件检测所激发的超声波的操作，能够基于自超声波产激发到检测为止的时间来测定管内的1mL/sec以下的处理液的流量另外，液处理装置构成为能够基于由流量计观测到的流量的波形的变化来监视处理液中的气泡、处理液的喷射状态等。
处理装置方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201210067192.9有效
发明人：西健治;竹下和宏;绪方信博;田中晓;沟田昌吾 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-14 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。能够利用简单的方法形成适合所进行的液处理的处理气氛。在用于在壳体内的处理空间(21)中向被处理基板(W)的表面供给处理液而进行液处理的液处理装置(2)中，旋转保持部(33、341)保持被处理基板并使其绕铅垂轴线旋转，处理液供给喷嘴(35)向旋转的被处理基板的表面供给处理液第1气体供给部(23)为了形成适合上述液处理的处理气氛而形成在被处理基板的整个表面流动并流入到杯状件(31)中的第1气体的下降流，第2气体供给部(22)在该第1气体的下降流的外侧区域中形成与上述第1气体不同的第且第1气体供给部和第2气体供给部设在构成上述处理空间的壳体的顶部。
处理装置方法

[发明专利]液处理装置及液处理方法-CN201210025741.6有效
发明人：东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-01-31 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置及液处理方法。其能够防止由附着在杯状件上的污垢导致处理室内的基板污损。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)及配置在基板保持部(21)周围的杯状件(42)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)上的基板(W)供给处理液
处理装置方法

[发明专利]液处理装置及液处理方法-CN201110460406.4有效
发明人：东岛治郎;绪方信博;金子聪;长峰秀一;甲斐义广 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-12-28 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置及液处理方法。该液处理装置能够有效地清洗基板的下表面。基板清洗装置(10)具有位于被基板保持机构保持的基板(W)的下表面的下方并用于将处理液喷射到基板的下表面的喷嘴(60)。第1喷射口以朝向基板的下表面喷射的处理液的喷射方向具有基板的旋转方向的成分的方式被形成。
处理装置方法

[发明专利]处理液及处理液收容体-CN201780025775.6有效
发明人：村山哲;清水哲也;上村哲也 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-04-26 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够抑制半导体器件的缺陷的产生且抗腐蚀性及润湿性优异的处理液。本发明的处理液为半导体器件用处理液，其含有：选自包括醚类、酮类及内酯类的组中的至少一种有机溶剂；水；及包含选自包括Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、Ti及Zn的组中的至少一种金属元素的金属成分，处理液中的水的含量为100质量ppb～100质量ppm，处理液中的金属成分的含量为10质量ppq～10质量ppb。
处理收容

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201710600092.0有效
发明人：佐竹圭吾;小宫洋司;小仓康司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-21 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构
处理装置方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201710679783.4有效
发明人：福田昌弘;一之宫博;小畑耕一;山本太郎;田中公一朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-09 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置和液处理方法。提供一种在向绕铅垂轴线旋转的晶圆供给清洗液而进行处理的液处理装置中抑制雾向晶圆的再次附着的技术。液处理装置设置有：引导构件(3)，其从水平地保持着的晶圆(W)的背面的周缘部朝向外侧下方形成有倾斜面(32)；包围构件(2)，其形成为包围晶圆(W)的圆筒状，其上缘部朝向内周侧向斜上方伸出，在其内表面侧的比水平地保持着的晶圆
处理装置方法

[发明专利]液处理装置及液处理方法-CN02151833.5无效
发明人：黑田修 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2002-11-27 - 公布日： 2003-07-30 - 主分类号： B08B11/00 文献下载
摘要：液处理装置一个实施例的清洗处理单元(CLN)12包括：转动板61，支持部件64a，保持部件64b，向晶片W供给清洗液的药液供给喷嘴51，驱动保持部件64a的弹簧120以及挤压机构121。通过向保持部件64b保持的晶片W供给清洗液进行清洗处理，能消除晶片W的未处理部分，进行均匀的液处理。
处理装置方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201180034562.2有效
发明人：泷口靖史;山本太郎;山畑努;藤本昭浩;藤村浩二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-07-12 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置，当在杯体内水平保持基板，供给药液对基板进行液处理时，该液处理装置能够抑制药液用的喷嘴的数目，并且以高的吞吐量进行处理。作为液处理列举显影处理时，准备两种显影喷嘴以能够应对两个种类的显影处理方式，对于两个方式当中喷嘴的约束时间较长的方式所使用的显影喷嘴，对第一液处理模块（1、2）单独设置，对于喷嘴的约束时间较短的方式所使用的显影喷嘴
处理装置方法

[发明专利]基片处理装置、液处理装置和液处理方法-CN02141002.X无效
发明人：立山清久;元田公男;佐田彻也;宫崎一仁;筱木武虎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2002-06-19 - 公布日： 2003-01-22 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴(138)，使基片(G)静止。之后，操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。
处理装置方法

[发明专利]杯、液处理装置以及液处理方法-CN202210554458.6在审
发明人：出石佑树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及杯、液处理装置以及液处理方法。抑制从基板飞散的处理液在该杯的内周面向该基板弹回。一种杯，其包围基板以对该基板进行液处理，其中，该杯构成为包括：第1槽，其在所述杯的内周面在纵向上伸长地设置；多个第2槽，其以各自的一端与所述第1槽分别连接的方式设置，在朝向伸长方向观察时的该多个第2槽各自的截面积小于所述第
处理装置以及方法

[发明专利]液处理装置和液处理装置的液检测方法-CN202010921031.6在审
发明人：桾本裕一朗;羽山隆史;铃木秀启 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理装置的液检测方法。液处理装置包括：能够载置基片的载置部；对载置于上述载置部的上述基片供给处理液以进行处理的喷嘴；用于拍摄上述喷嘴以获取图像数据的拍摄部；和检测部，其基于多个上述图像数据来检测液面，该多个上述图像数据是在不从上述喷嘴供给上述处理液的期间内的彼此不同的时刻获得的，上述液面由设置于上述喷嘴内的上述处理液的流路中的该处理液或者该处理液以外的液体形成。本发明在对基片进行液处理时，能够可靠性高地防止处理异常。
处理装置检测方法

[发明专利]坑井处理液材料以及含有该坑井处理液材料的坑井处理液-CN201480004371.5有效
发明人：正木崇士;小林卓磨;山崎昌博;佐藤浩幸 -专利权人：株式会社吴羽
申请日： 2014-01-14 - 公布日： 2015-09-16 - 主分类号： C09K8/035 文献下载
摘要：一种坑井处理液材料，其含有100质量份聚酯树脂、以及0.01～10质量份有机磷化合物和10～50质量份羧酸酐中至少一种分解促进剂，其中所述聚酯树脂含50质量％以上的乳酸系树脂。
坑井处理材料以及含有

[发明专利]再生液处理方法与再生液处理装置-CN201910811031.8在审
发明人：李再强;黄文涛;张伟奇;汪前程 -专利权人：深圳市祺鑫天正环保科技有限公司
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明公开一种再生液处理方法与再生液处理装置，其中，所述再生液处理方法包括以下步骤，检测蚀刻槽内工作液的酸度，当所述工作液的酸度低于预设浓度后，向所述工作液中加入再生液，制备得到蚀刻液。可以理解的，本发明能够保证工作液的蚀刻速率，提高蚀刻线的产能。
工作液再生液酸度蚀刻处理装置蚀刻槽蚀刻线蚀刻液产能预设制备检测保证

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