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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]水液处理筒-CN200520108980.3无效
发明人：林明助;林明洲 -专利权人：林明助;林明洲
申请日： 2005-06-10 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：一种水液处理筒，该水液处理筒主要由盛水容器及处理筒所构成；该盛水容器是可供盛装水液的容器，该处理筒可容置于盛水容器内，处理筒的筒身设有若干孔洞，且至少于处理筒一端设为开放端，该开放端可供一盖体封合，处理筒内具有容置空间，可供若干水处理组件置入。通过以上结构，当盛水容器装入水液时，该水液将透过处理筒筒身的若干孔洞与水处理组件接触，进而使水处理组件作用于水液。
处理

[外观设计]碱液处理装置-CN201830064404.6有效
发明人：刘诗军 -专利权人：刘诗军
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： 23-01 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：碱液处理装置。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于存放处理化学废料，回收含碱液体。3．本外观设计产品的设计要点：主视图。
外观设计碱液处理含碱液体化学废料回收图片

[发明专利]污液处理装置-CN200880000899.X有效
发明人：田代实 -专利权人：株式会社分离
申请日： 2008-06-19 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： B01D21/02 文献下载
摘要：污液处理装置(10)包括：污槽(20)、传送带(30)、滚筒形过滤装置(21)。滚筒形过滤装置(21)的流入口(60、61)沿磁铁滚筒(40)的轴线(X)方向开口。
处理装置

[发明专利]钻井液处理-CN201280058888.3有效
发明人： G·福特;M·萨沃伊 -专利权人： M-I有限公司
申请日： 2012-10-01 - 公布日： 2018-02-06 - 主分类号： E21B43/40 文献下载
摘要：一种处理返回的油基钻井液的方法，包括以第一速度离心分离最初的液相，并且将最初的液相分离成第一流出物和第一残渣；以第二速度离心分离第一流出物，并且将第一流出物分离成第二流出物和第二残渣；以及以第三速度离心分离第二流出物可以添加表面活性剂、聚合物、表面活性剂和聚合物的组合和/或冲洗水到返回的油基钻井液、最初的液相、最初的固相、第一流出物、第二流出物和第三流出物中的一个或多个。
钻井处理

[发明专利]脏液处理装置-CN200680005693.7有效
发明人：田代实;田代诚 -专利权人：株式会社分离
申请日： 2006-08-28 - 公布日： 2008-02-20 - 主分类号： B23Q11/00 文献下载
摘要：脏液处理装置(10)包含脏槽(11)、传送带(20)、和具有磁滚筒(42)的油泥除去机构(40)。磁滚筒(42)配置在液体流通部(32)中。脏液处理装置(10)具有溢流槽(31)。溢流槽(31)具有将脏槽(11)的液面(Q)保持在比液体流通部(32)和磁滚筒(42)高的位置上的功能。磁滚筒(42)水平地配置在传送带(20)的下侧部分(20a)和上侧部分(20b)之间。
处理装置

[发明专利]处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置-CN202211022627.8在审
发明人：朴庸硕;朴镐胤;姜辰求 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，该处理液罐具有过滤器部，简化供给配管的结构并使供给配管和配管连接部最小化，可以提高设备的可靠性和容易地执行针对泄漏引发问题的安全管理。为此，本发明公开的处理液罐储存用于处理衬底的处理液，包括：罐主体，隔着第一分离带划分为上侧储存部和下侧储存部；过滤器部，设置在罐主体的内部，过滤处理液中包含的异物，过滤器部包括：过滤器主体，设置在第一分离带，其上侧流入部配置在上侧储存部供处理液流入，其下侧排出部配置在下侧储存部供过滤后的处理液排出；过滤器壳体，设置在上侧储存部，覆盖上侧流入部的上部，上侧储存部的处理液流入内部，使上侧流入部浸没在处理液中。
处理包括衬底装置

[发明专利]处理液供给装置及方法、处理液及基板处理装置及方法-CN201380047457.1有效
发明人：宫城雅宏;荒木浩之;铃木政典;佐藤朋且;川濑信雄 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2013-09-26 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的处理液供给装置(100)用于从喷出口(53)喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物(W)，包括：第一管(51)，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口(53)相连通；X射线照射单元(62)，用于向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。(51)的管壁上具有开口(52)，所述开口(52)被窗构件(71)堵塞，所述窗构件(71)由能够使X射线透过的材料形成，所述X射线照射单元(62)，经由所述窗构件(71)向在所述第一管(51)内存在的处理液照射
处理供给装置方法

[发明专利]基板处理液和使用该处理液的抗蚀基板处理方法-CN200980135780.8有效
发明人：王晓伟;康文兵;片山朋英;松浦裕里子;小池彻 -专利权人： AZ电子材料(日本)株式会社
申请日： 2009-09-14 - 公布日： 2011-08-10 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供一种可以有效除去残存在显影后抗蚀基板表面上的抗蚀剂残渣，并且能够使图案精细化的抗蚀基板处理液以及使用该处理液的抗蚀基板的处理方法。处理具有该显影后的光抗蚀图案的抗蚀基板的抗蚀基板处理液含有不溶解显影后的光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。通过将显影处理后的抗蚀基板与该抗蚀基板处理液接触，并用水等冲洗液进行洗涤，可以有效除去基板表面上的抗蚀剂残渣。溶剂优选使用水，聚合物优选使用水溶性聚合物。
处理使用抗蚀基板方法

[发明专利]漏液检测装置、漏液处理设备、液冷系统和漏液处理方法-CN202010600957.5在审
发明人：郭轩;曹阳;袁丁;张世荃;梁豆 -专利权人：中国工商银行股份有限公司
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： G01M3/28 文献下载
摘要：本公开提供了一种用于液冷服务器的漏液检测装置，包括进水管道、出水管道和压差感应组件。本公开还提供了一种用于液冷服务器的漏液处理设备、一种液冷系统和一种用于液冷服务器的漏液处理方法。
检测装置处理设备系统方法

[发明专利]喷墨用处理液、使用该处理液的墨液组以及印花方法-CN202180082031.4在审
发明人：杉本博子 -专利权人：京瓷株式会社
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明一个方面涉及喷墨用处理液，其含有阳离子性聚合物以及乳酸，其中，卤素离子浓度为5g/L以下且pH为7～9.5。
喷墨用处使用处理墨液组以及印花方法

[发明专利]液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质-CN202180047390.6在审
发明人：杉町尚德 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质。对基片上供给处理液来对基片进行液处理的液处理装置包括：保持基片的基片保持部；对被上述基片保持部保持的基片释放处理液的释放嘴；供给处理液的处理液供给源；处理液供给管，其连接于上述处理液供给源，形成有供要被供给到上述释放嘴的处理液流通的供给通路；设置在上述处理液供给管的、进行上述供给通路的开闭动作的调节阀；和控制上述调节阀的控制部，上述调节阀具有隔膜和阀体，控制对上述隔膜的空气的供给，并经由上述隔膜使上述阀体动作，进行上述供给通路的开状态和全闭状态的开闭动作
处理装置供给机构方法计算机存储介质

[发明专利]一种处理液供应装置的控制方法及处理液供应装置-CN201911011890.5有效
发明人：陈浩;杨玉辉;李绪;熊泰贻;廖昌洋 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理液供应装置的控制方法及处理液供应装置，该处理液供应装置包括用于容纳对半导体待处理件进行湿法处理所需的处理液的储液容器，该处理液供应装置用于将储液容器内的处理液供应至执行湿法处理的处理装置；该控制方法包括：确定处理液供应装置的工作模式；相应于工作模式被确定为第一模式，判断储液容器内的处理液是否满足预设换液条件；若满足预设换液条件，则控制储液容器排出处理液；当处理液被排出至第一液位时，停止排出处理液并输入处理液直至储液容器的液面达第二液位；其中，第一液位为处理液未被排空的液位；控制储液容器向处理装置供应处理液。
一种处理供应装置控制方法

[发明专利]处理液提供单元及具有其的基板处理装置-CN202210124305.8在审
发明人：李建旼;河道炅;崔文淳;林采永;刘在赫 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-02-10 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了能够将基板处理液的流入量或消耗量等增加为控制因子以预测基板处理液的温度变化的处理液提供单元及具有其的基板处理装置。所述处理液提供单元包括：处理液存储模块，存储基板处理液；处理液加热模块，加热基板处理液；处理液排出模块，排出基板处理液；处理液供应模块，当基板处理液被排出时，向处理液存储模块供应基板处理液；以及控制模块，基于基板处理液的流入量来预测残留在处理液存储模块的基板处理液的温度。
处理提供单元具有装置

[发明专利]基板液体处理装置和基板液体处理方法-CN201610065467.3有效
发明人：佐藤秀明;佐藤尊三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-01-29 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液体处理装置和基板液体处理方法。该基板液体处理装置具有：贮存用于对基板(8)进行处理的处理液的处理液贮存部(38)；供给处理液的处理液供给部(39)；使处理液贮存部的内部的处理液循环的处理液循环部(40)；使处理液排出的处理液排出部(41)；浓度传感器(61)，其设置于处理液排出部，测量处理液中的基板处理产物的浓度；以及控制处理液供给部的控制部(7)，其中，控制部通过处理液循环部使处理液循环，使循环的处理液在规定的定时间歇性地或者在规定时间内连续地从处理液排出部排出，从处理液供给部供给新的处理液，通过浓度传感器在规定的定时测量所排出的处理液中的基板处理产物的浓度。
液体处理装置方法

[发明专利]基片处理装置、处理液供给方法和计算机存储介质-CN202211579665.3在审
发明人：矢野英嗣 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制处理液供给管路内的处理液的滞留，提高处理液的清洁度的基片处理装置、处理液供给方法和计算机存储介质。基片处理装置包括：保持基片并使其旋转的基片保持部；向基片释放处理液的释放部；和液供给装置，液供给装置具有：向释放部供给处理液的处理液供给部；回收从释放部释放的处理液的处理液回收部；以及控制处理液供给部和处理液回收部的控制部，处理液供给部具有：处理液供给源；将处理液从处理液供给源引导到释放部的第一管路；使处理液从释放部连续地释放的第一送液机构；和设置于第一管路的第一过滤器，处理液回收部具有将从释放部释放的处理液输送到第一管路中的处理液供给源与第一过滤器之间的结构
处理装置供给方法计算机存储介质

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