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[实用新型]液处理装置-CN202220985542.9有效
发明人：谷井章宽 -专利权人：杉野机械股份有限公司
申请日： 2022-04-26 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： B01D17/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种液处理装置，其不易发生倾斜，能够稳定地从液面附近抽吸处理液。液处理装置包括上浮液回收器、抽吸泵、第1抽引管、以及处理槽，所述上浮液回收器在储存含有低比重溶液及高比重溶液的处理液的箱中漂浮，包括：流入容器，其具有供处理液流入的流入口，该流入口配置于外周上部；抽引口，其配置于流入容器的内部，将流入到流入容器中的处理液吸到上方；以及浮子，其与流入容器连接，以包围流入容器的方式配置，所述抽吸泵包括抽吸口和排出口，所述第1抽引管将抽引口和抽吸口连接，所述处理槽与排出口连接，将处理液中的低比重溶液与高比重溶液分离。
处理装置

[发明专利]洗涤处理液-CN200680053944.9无效
发明人：增田敏幸;田中光利 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-12-12 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： C11D17/08 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供对显影残渣等污垢的洗涤除去性优异、没有环境问题、即便是空淋运转也不会恶化的洗涤处理液，使用该洗涤处理液的着色图像的形成方法，滤色片的制造方法及带滤色片的阵列基板的制造方法。本发明提供一种洗涤处理液，其特征在于，其含有碱性化合物，和选自具有至少1个羟基的炔类表面活性剂、烷基醚系表面活性剂和苯氧基氧化烯基表面活性剂的至少任一个表面活性剂，以及萘系表面活性剂。
洗涤处理

[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN201980015466.X在审
发明人：徳利宪太郎;田中洋一 -专利权人：株式会社斯库林集团;栗田工业株式会社
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种减少通过了溶解模块的处理液中的粒子量的技术。处理液供给单元3是将已由过滤器31a～过滤器31d过滤的处理液供给至多个处理单元2中的装置。另外，在一次侧供给配管32中的供给阀33的一次侧连接有排液配管41。而且，排液阀42插装于排液配管41上。控制部52对应于处理液中的粒子量，将供给阀33关闭，并将排液阀42打开，由此将处理液经由溶解模块30及一次侧供给配管32及排液配管41而排液。
处理供给装置以及方法

[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN202310210551.X在审
发明人：古矢正明;小林浩秋;森秀树 -专利权人：芝浦机械电子装置株式会社
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法，能够抑制成本而防止各储槽中的处理液的浓度的测定值产生偏差，从而能够调整所供给的处理液的浓度。实施方式是一种处理液供给装置，其连接于基板的处理装置，处理液供给装置具有：多个储槽；供给路径，通过依次经过多个储槽来对处理装置供给处理液；加热部，对处理液进行加热；稀释部，对处理液进行稀释；新液供给部，供给新液；共同的共同流路，供多个储槽的处理液流通；切换部，切换共同流路的处理液是哪个储槽的处理液；浓度计，设于共同流路；以及控制装置，使浓度计测定每个储槽的处理液的浓度，并控制加热部、稀释部以及新液供给部中的至少一个
处理供给装置以及方法

[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN201810167202.3有效
发明人：井上正史 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液供给装置，用于对多个处理部供给处理液。该处理液供给装置具有：处理液槽，用于积存处理液；多个循环配管，分别与所述多个处理部对应设置，并分别使所述处理液槽内的处理液进行循环；供给配管，分支连接到各所述循环配管，并对对应的所述处理部供给处理液；流量检测单元，安装于各所述循环配管，并检测在该循环配管内流经的处理液的流量；流量调节阀，安装于各所述循环配管，并调节该循环配管内的处理液的流量；开度调节单元，基于由安装于各所述循环配管上的所述流量检测单元检测出的处理液的检测流量
处理供给装置以及方法

[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN201810095001.7有效
发明人：谷泽成规;新庄淳一;山本哲也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法。处理液供给装置向多个处理部供给处理液。处理液供给装置包括：处理液供给源，供给进行了加热或者冷却的处理液；多个循环配管，多个所述循环配管分别与多个所述处理部对应地设置，分别使所述处理液供给源所供给的处理液循环；供给配管，与各所述循环配管分支连接，向对应的所述处理部供给处理液；流量调整阀，安装于各所述循环配管，调整该循环配管内的处理液的流量；以及，温度检测单元，安装于各所述循环配管，检测在该循环配管内流动的处理液的温度。
处理供给装置以及方法

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置-CN201610069114.0有效
发明人：张健;天野嘉文;冈本英一郎;伊藤优树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-02-01 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置。不阻碍在对基板进行液处理时产生的气流而能够良好地对基板进行液处理。在本发明中，具有：基板旋转保持部(1013)，其用于保持基板(1004)并使基板旋转；处理液供给部(1014)，其向由基板旋转保持部保持着的基板的下表面供给处理液，基板旋转保持部具有：底板(1025)，
基板液处理装置方法以及

[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN201780080296.4有效
发明人：太田乔 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-11-21 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：处理液供给装置对处理基板的处理单元供给处理液。处理液供给装置包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以及温度调节单元，对在所述循环流路循环的处理液的温度进行调节。
处理供给装置以及方法

[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN201811250812.6有效
发明人：岩畑翔太;樋口鲇美;藤田惠理;藤谷佳礼;真野雅子;竹松佑介;奥谷洋介 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法。处理液供给装置包括：供给配管，其输送贮存处理液的处理液箱内的处理液，将从处理液箱输送的处理液供给至处理单元；返回配管，其与供给配管分支连接，使供给配管内的处理液返回处理液箱；第一加热单元，其对在供给配管中设定于比连接有返回配管的分支位置靠上游侧的上游侧被加热部分内的处理液进行加热；第二加热单元，其对在供给配管中设定于比分支位置靠下游侧的下游侧被加热部分内的处理液进行加热；冷却单元，其对设定于返回配管的被冷却部分内的处理液进行冷却；以及第一过滤器，其在比上游侧被加热部分靠上游侧夹装于供给配管，对处理液中的颗粒进行去除。
处理供给装置以及方法

[发明专利]处理液生成装置及处理液生成方法-CN201510202999.2在审
发明人：今田胜巳;宫下万里子;宫本佳子 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：提供能够使处理液的氧化能力提高的处理液生成装置及处理液生成方法。本公开的处理液生成装置具备：第1槽；第1等离子发生装置，包括各自的至少一部分配置在上述第1槽内的一对第1电极和在上述一对第1电极间施加电压的电源，使上述第1槽内的液体中产生等离子；第2槽；第2等离子发生装置上述控制装置使上述第1等离子发生装置在第1时间的期间中产生等离子而在上述第1槽内生成第1处理液；使上述第2等离子发生装置在比上述第1时间长的第2时间的期间中产生等离子而在上述第2槽内生成第2处理液。上述第1处理液的初始氧化力比上述第2处理液的初始氧化力高；上述第2处理液的持续氧化力比上述第1处理液的持续氧化力高。
处理生成装置方法

[发明专利]液处理装置的运转方法和液处理装置-CN202110326560.6在审
发明人：西畑广;李贤友 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种液处理装置的运转方法和液处理装置，在使向基板供给处理液来对基板进行处理的液处理装置运转时，可靠且迅速地进行构成装置的流路系统的清洗。实施以下工序：处理工序，利用设置于包括供给路径的流路系统的泵使处理液从处理液供给源向设置有过滤器的所述供给路径的下游侧流通，使处理液从形成所述供给路径的下游端的供给部供给到基板来对该基板进行处理；清洗工序，向所述流路系统供给清洗液来清洗该流路系统；以及供给路径清洗工序，包括在所述清洗工序中，在所述供给路径中的流体的压力损失比所述处理工序中的该压力损失低的清洗用状态下从该供给路径的上游侧向下游侧供给所述清洗液
处理装置运转方法

[发明专利]处理液供应装置以及处理液供应方法-CN202110848339.7在审
发明人：李茂贤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明是处理液供应装置以及处理液供应方法，涉及如下方案：为了改善通过处理液的基板处理工艺中选择比，处理液供应单元在调整二氧化硅的供应量的同时混合处理液物质并基于基板处理条件调节处理液的浓度和温度后向基板处理装置供应，通过与所述处理液供应单元空间上分离的处理液再循环单元回收处理液并调节处理液的水分浓度和温度后供应再生处理液。
处理供应装置以及方法

[发明专利]气体释放部件、液处理装置和液处理方法-CN202210021316.3在审
发明人：川北直史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种气体释放部件、液处理装置和液处理方法。根据本发明，无需改变从液处理装置内的上方对基片供给的下降流的供给结构，就能够进行对基片上供给的气流的流速分布的控制。
气体释放部件处理装置方法

[发明专利]基板液处理装置以及处理液生成方法-CN201010278933.9有效
发明人：江岛和善 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-08 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理装置和处理液生成方法。该基板液处理装置无论同时使用的处理液的流量如何都能够生成规定浓度的处理液。该基板液处理装置包括：多个基板处理部，其用处理液处理基板；处理液生成部，其通过使气体溶解于溶剂而生成规定浓度的处理液，将该处理液作为同时向多个基板处理部中的一个或两个以上基板处理部供给的处理液；控制部，其控制处理液生成部和多个基板处理部；其中，使自溶剂供给源供给的溶剂分支流入用于借助气体溶解器使气体溶解于溶剂的溶解流路、以及与溶解流路并列连接的旁路流路中，改变旁路流路的流路阻力，使得在溶解流路中流动的溶剂的流量与在旁路流路中流动的溶剂的流量的比例恒定
基板液处理装置以及生成方法

[实用新型]体腔液处理装置及体腔液处理系统-CN201922288832.9有效
发明人：德永顺子 -专利权人：旭化成医疗株式会社
申请日： 2019-12-18 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： A61M1/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种体腔液处理装置及体腔液处理系统。该体腔液处理装置包括容器本体，所述容器本体形成有至少两个输送端口，所述输送端口用于连接输送管，其特征在于，所述体腔液处理装置还包括：在所述容器本体上与至少一个所述输送端口对应地设置的第一匹配标记，所述第一匹配标记被构造成与设置于所述输送管的第二匹配标记匹配对应本实用新型的体腔液处理装置能够实现输送端口和输送管的快速连接，并减小输送端口和输送管接错的风险。
体腔处理装置系统