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[发明专利]基板液处理方法、基板液处理装置以及存储介质-CN201910470720.7在审
发明人：本田拓巳;佐野和成;百武宏展 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供基板液处理方法、基板液处理装置以及存储介质，在浸渍蚀刻工艺中在适当的定时变更处理参数。基板液处理方法包括以下工序：通过使基板(8)浸在处理液中来对基板(8)进行处理；探测使对基板(8)进行处理的工序的处理条件变更的变换点；以及在探测到变换点的情况下，变更处理条件。
基板变更处理对基板液处理探测基板液处理装置浸渍处理液中存储介质蚀刻工艺变更

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质-CN201910783102.8在审
发明人：吉田博司;石井佑树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质，提供一种能够高精度地进行处理液内的特定的成分的浓度变更的技术。基板液处理装置具有贮存处理液的处理槽、对处理槽供给处理液的处理液供给部、从处理槽排出处理液的处理液排出部和控制处理液供给部和处理液排出部的控制部，控制部基于对处理槽中贮存的处理液中的特定成分的浓度进行变更的指示，来基于与特定成分的当前的浓度有关的信息、与处理槽中贮存的处理液中的每单位时间的特定成分的浓度上升量有关的信息和与指示所表示的变更后的特定成分的浓度有关的信息，计算从处理槽排出的处理液的排出量和向处理槽供给的处理液的供给量，基于该计算结果来控制处理液供给部和处理液排出部。
基板液处理装置方法存储介质

[发明专利]处理液供给装置、处理液供给方法以及存储介质-CN202210610418.9在审
发明人：矢野英嗣 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液供给装置、处理液供给方法以及存储介质。处理液供给装置具备：供给管路，其连接于喷出部；泵，其设置于供给管路，向喷出部加压输送处理液；第一开闭阀，其设置于供给管路中的泵的下游侧的位置；过滤器，其设置于供给管路中的泵与第一开闭阀之间的位置，对处理液进行过滤；排出管路，其从供给管路中的过滤器与第一开闭阀之间的位置分支出来，用于从供给管路排出处理液；贮存部，其连接于排出管路，用于贮存从供给管路排出的处理液；第二开闭阀，其设置于排出管路；以及控制部，其控制第一开闭阀和第二开闭阀，以使由过滤器过滤后的处理液不会在供给管路中的比第一开闭阀靠上游侧的部分处停留规定时间以上。
处理供给装置方法以及存储介质

[发明专利]处理液供给方法、处理液供给装置和存储介质-CN201310467501.6有效
发明人：吉田勇一;内藤亮一郎;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种实现了在处理液供给路径上安装有新的过滤器部时为了从过滤器部除去气泡而消耗的处理液的削减和启动时间的缩短的技术。实施如下工序：将处理液充满在新的过滤器部内的工序；接着，为了从上述过滤器部除去气泡而使该过滤器部内成为作为负压气氛的第一压力气氛的工序；之后，使上述过滤器部内升压的工序；然后，在使上述过滤器部的二次侧成为比上述第一压力气氛高的第二压力气氛的状态下，从上述过滤器部的一次侧使处理液通过上述过滤器部的工序；和将通过了上述过滤器部的处理液经由喷嘴供给至被处理体来进行液处理的工序。
处理供给方法装置存储介质

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质-CN201710414430.1有效
发明人：田中裕司;平山司;稻田尊士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。不改变磷酸水溶液的浓度地将磷酸水溶液的沸腾状态保持固定，实现蚀刻均匀性。基板液处理装置(1)具有液处理部(39)、处理液循环线(42)以及调整设置于液处理部(39)的处理槽(34)的沸腾状态检测部(70)。控制部(7)基于来自沸腾状态检测部(70)的信号对处理液循环线(42)的供给泵(51)进行控制来对供给的流路内的磷酸水溶液的压力进行调整，从而将磷酸水溶液的沸腾状态调整为期望的状态。
基板液处理装置方法以及存储介质

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质-CN201680068848.5有效
发明人：小佐井一树;甲斐義广;五师源太郎;小宫洋司;藤本诚也;大塚贵久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：基板处理装置具备：基板保持部(31)，其保持基板(W)；外喷嘴(45)，其以使基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式从比被基板保持部保持的基板的外周缘靠外侧的位置朝向基板的表面喷出处理液；
基板液处理装置方法存储介质

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质-CN201710579877.4有效
发明人：益富裕之;盐川俊行;田中幸二;佐藤尊三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-17 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。基板液处理装置能够在处理槽内的处理液中形成均匀的N2气体的气泡。基板液处理装置(1)具备：处理槽(34)，其收纳基板(8)；以及多个气体供给管(81、82、83、84)，所述多个气体供给管(81、82、83、84)设置在处理槽(34)内。
基板液处理装置方法以及存储介质

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质-CN201710532046.1有效
发明人：佐藤秀明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-03 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。本发明根据使用完毕的磷酸水溶液中的硅浓度来使用再生单元。基板液处理装置(1)具有控制部(7)和通过处理液对基板(8)进行处理的液处理部(39)。所述控制部(7)根据在所述液处理部(39)中对所述基板(8)进行处理而从所述基板(8)溶出的溶出成分浓度，将从排出线(82)排出的所述处理液从所述再生线(90)切换到经过所述排出线(82)向外部进行废弃的废弃线
基板液处理装置方法以及存储介质

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质-CN201710899650.8有效
发明人：佐藤秀明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质，在同一基板的液处理中变更蚀刻选择比。该基板液处理装置在设置于液处理部(39)的处理槽(34)内贮存磷酸水溶液，将基板浸于处理槽所贮存的磷酸水溶液中，由此对该基板进行处理。在基板浸于处理槽内的磷酸水溶液中的第一期间，利用磷酸水溶液排出部(43)以第一排出流量从液处理部(39)排出磷酸水溶液，并且利用磷酸水溶液供给部(40)向液处理部供给磷酸水溶液。在另外的第二期间，利用磷酸水溶液排出部以与第一排出流量不同的第二排出流量从液处理部排出磷酸水溶液，并且利用磷酸水溶液供给部向液处理部供给磷酸水溶液。
基板液处理装置方法存储介质

[发明专利]处理液、被处理物的处理方法-CN202080061165.3在审
发明人：杉岛泰雄 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： C11D7/04 文献下载
摘要：本发明提供一种在将含有含钴物质的被处理物适用于处理的情况下，清洗性优异且被处理物的平滑性优异的处理液。并且，还提供一种被处理物的处理方法。本发明的处理液含有水、羟基胺以及由Cl‑、NO2‑及NO
处理方法

[发明专利]处理液、被处理物的处理方法-CN202080092116.6在审
发明人：杉岛泰雄 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种有机残渣物去除性优异且稳定性优异的处理液。还提供一种与上述处理液相关的被处理物的处理方法。所述处理液含有水、羟胺以及选自肼、肼盐及肼衍生物中的一种以上的肼类，并且肼类的合计含量相对于羟胺100质量份为1质量份以下。
处理方法

[发明专利]刻蚀液处理装置-CN201811540513.6在审
发明人：沈海洋 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种刻蚀液处理装置，该装置包括药液槽，用于容纳刻蚀液，刻蚀液用于对基板进行刻蚀；承载槽，用于承载基板以及容纳刻蚀后的刻蚀液；第一药液管，一端与药液槽连接，另一端设置在基板上，第一药液管用于将药液槽中的刻蚀液传输至基板上，使刻蚀液对基板进行刻蚀；第二药液管，一端与药液槽连接，另一端与承载槽连接，第二药液管用于将刻蚀后的刻蚀液传输至药液槽中；检测模块，用于检测刻蚀液或刻蚀后的刻蚀液是否受到污染，得到检测结果；处理模块，用于根据检测结果，对刻蚀液和/或刻蚀后的刻蚀液进行处理。该方案通过设置检测模块和处理模块，可以提高刻蚀性能以及基板的良品率。
刻蚀液刻蚀药液槽药液管基板处理模块处理装置检测结果承载槽对基板容纳承载基板检测模块刻蚀性能设置检测一端设置传输良品率检测污染

[发明专利]基板液处理装置-CN201811137414.3在审
发明人：益富裕之;池田贵志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板液处理装置。防止从内槽内的处理液表面飞散的处理液的飞沫飞散到内槽外侧的意料之外的区域。基板液处理装置具备：内槽，其能积存处理液并具有上部开口；外槽，其设置于内槽的外侧并供处理液从内槽流入；第1盖体，其能在覆盖内槽的上部开口的第1区域的封闭位置与使上部开口的第1区域开放的开放位置间移动；及第
盖体内槽上部开口侧壁处理液底壁基板液处理装置封闭位置开放位置区域开放表面飞散延伸移动飞沫飞散覆盖积存外槽

[发明专利]水果保鲜处理液-CN201610730511.8在审
发明人：赖婷婷 -专利权人：赖婷婷
申请日： 2016-08-25 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： A23B7/154 文献下载
摘要：本发明公开了一种水果保鲜处理液，包括活性成分，所述的活性成分包括抗坏血酸钠、咪鲜安和赤霉素。所述抗坏血酸钠、咪鲜安和赤霉素的质量比为1～41～40.5～2。本发明水果保鲜处理液以抗坏血酸钠、咪鲜安和赤霉素为活性成分，具有协同增效作用，特别是赤霉素的添加大大提高保鲜效果，保鲜效果好。本发明水果保鲜处理液简单，仅采用少数原料即可制成，成本降低，易于加工。
水果保鲜处理

[发明专利]基片液处理装置-CN201911299983.2在审
发明人：大津孝彦;高山和也;稻田尊士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基片液处理装置。本发明的一个方面的基片液处理装置包括：处理槽，其贮存用于对多个基片实施液处理的处理液；基片支承部，其在处理槽内，以多个基片各自的主面沿铅垂方向的方式支承多个基片；处理液排出部，其设置在比由基片支承部支承的多个基片靠下方处，通过将处理液排出到处理槽内来生成上升流；和在侧方空间中调节处理液的液流的整流部，其中侧方空间形成在处理槽的第1侧壁与多个基片中具有和第1侧壁相对的主面的第1基片之间。本发明对基片液处理时的基片面内的处理的均匀性有效的。
基片液处理装置