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[发明专利]处理液及处理液收容体-CN201780025775.6有效
发明人： 村山哲;清水哲也;上村哲也 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-04-26 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够抑制半导体器件的缺陷的产生且抗腐蚀性及润湿性优异的处理液。本发明的处理液为半导体器件用处理液，其含有：选自包括醚类、酮类及内酯类的组中的至少一种有机溶剂；水；及包含选自包括Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、Ti及Zn的组中的至少一种金属元素的金属成分，处理液中的水的含量为100质量ppb～100质量ppm，处理液中的金属成分的含量为10质量ppq～10质量ppb。
处理收容

[发明专利]固化性树脂组合物、树脂膜、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件-CN202180012209.8在审
发明人：高岛美沙树;山崎健太;村山哲;井上和臣 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： C08L79/08 文献下载
摘要：本发明提供一种固化性树脂组合物、将上述固化性树脂组合物适用于基材而成的树脂膜、将上述固化性树脂组合物固化而成的固化膜、包括上述固化膜的层叠体、上述固化膜的制造方法及包括上述固化膜或上述层叠体的半导体器件，所述固化性树脂组合物包含选自聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑及聚苯并噁唑前体中的至少一种树脂以及至少两种溶剂。
固化树脂组合层叠制造方法半导体器件

[发明专利]硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法-CN201810677751.5有效
发明人：荒山恭平;村山哲;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法，所述硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。本发明的硬化性组合物含有近红外线吸收性色素(A)及硬化性化合物(B)，所述硬化性化合物(B)具有选自氟原子、硅原子、碳数8以上的直链烷基及碳数3以上的分支烷基中的一种以上。本发明的硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。
化性组合硬化红外线截止滤波器照相机模块这些制造方法

[发明专利]半导体制造用处理液及图案形成方法-CN202210278119.X在审
发明人：上村哲也;清水哲也;村山哲 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够减少含有金属原子的颗粒的产生且能够形成良好的图案的半导体制造用处理液及图案形成方法。本发明的实施方式所涉及的半导体制造用处理液包含：由通式(N)所表示的季铵化合物；选自包括阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂及螯合剂的组中的至少一种添加剂；及水。上述半导体制造用处理液包含选自包括Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的组中的一种或两种以上的金属原子，且相对于所述添加剂的总质量与上述金属原子的总质量的合计，上述金属原子的总质量为1质量ppt～1质量ppm。
半导体制造用处图案形成方法

[发明专利]半导体制造用处理液及图案形成方法-CN201780020558.8有效
发明人：上村哲也;清水哲也;村山哲 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够减少含有金属原子的颗粒的产生且能够形成良好的图案的半导体制造用处理液及图案形成方法。本发明的实施方式所涉及的半导体制造用处理液包含：由通式(N)所表示的季铵化合物；选自包括阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂及螯合剂的组中的至少一种添加剂；及水。上述半导体制造用处理液包含选自包括Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的组中的一种或两种以上的金属原子，且相对于所述添加剂的总质量与上述金属原子的总质量的合计，上述金属原子的总质量为1质量ppt～1质量ppm。
半导体制造用处图案形成方法

[发明专利]红外线传感器、近红外线吸收组合物、感光性树脂组合物、化合物及其应用-CN201580023788.0有效
发明人：法月祐太朗;加藤隆志;村山哲;神保良弘;佐佐木大辅;有村启佑;鹤田拓也 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种探测性及画质优异的红外线传感器、近红外线吸收组合物、感光性树脂组合物、化合物及其应用。本发明的红外线传感器(100)具有红外线透射滤波器(113)及近红外线吸收滤波器(111)，且通过检测波长900nm以上且1000nm以下的光来检测物体，并且近红外线吸收滤波器(111)含有在波长900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波长的近红外线吸收物质。
红外线传感器吸收组合感光性树脂化合物滤波器摄像装置

[发明专利]硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法-CN201480033162.3有效
发明人：荒山恭平;村山哲;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C08L101/00 文献下载
摘要：本发明提供一种硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法，所述硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。本发明的硬化性组合物含有近红外线吸收性色素(A)及硬化性化合物(B)，所述硬化性化合物(B)具有选自氟原子、硅原子、碳数8以上的直链烷基及碳数3以上的分支烷基中的一种以上。本发明的硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。
化性组合硬化红外线截止滤波器照相机模块制造方法

[发明专利]固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置-CN201380063007.1在审
发明人： 村山哲;樋口令史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-11-27 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： H01L27/14 文献下载
摘要：本发明提供一种保持基板，其用于保持抑制眩光或重影产生的红外线截止滤波器。固体摄影装置具备：图像传感器、电路基板、保持基板、红外线截止滤波器、拍摄镜头、透镜架、保持筒。图像传感器封装于电路基板上。电路基板是以图像传感器进入保持基板的基板本体的开口中的状态固定于保持基板上，图像传感器的侧面由保持基板覆盖。红外线截止滤波器是以覆盖开口的方式固定于保持基板上。在拍摄镜头的射出面侧配置有图像传感器，且在拍摄镜头与图像传感器之间配置有红外线截止滤波器。在基板本体的内壁面，遍及全周而形成有遮光层。有害光由遮光层来遮蔽。
固体摄影元件保持及其制造方法装置

[发明专利]红外线截止滤波器及其制造方法、固体摄影装置、遮光膜的形成方法-CN201380063029.8在审
发明人：樋口令史;村山哲 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-11-27 - 公布日： 2015-08-05 - 主分类号： G02B5/26 文献下载
摘要：本发明提供一种抑制眩光或重影产生的红外线截止滤波器。固体摄影装置具备：互补金属氧化物半导体传感器、电路基板、陶瓷基板、红外线截止滤波器、拍摄镜头、透镜架、保持筒。互补金属氧化物半导体传感器封装于电路基板上。电路基板是以互补金属氧化物半导体传感器进入陶瓷基板的开口的状态而固定于陶瓷基板上，互补金属氧化物半导体传感器的侧面由陶瓷基板覆盖。红外线截止滤波器是以覆盖开口的方式固定于陶瓷基板上。在拍摄镜头的背后配置有互补金属氧化物半导体传感器，且在拍摄镜头与互补金属氧化物半导体传感器之间配置有红外线截止滤波器。在红外线截止滤波器的入射面的端部，遍及全周而形成有遮光层。反射光等的有害光由遮光层遮蔽。
红外线截止滤波器及其制造方法固体摄影装置遮光形成

[发明专利]黑色可聚合组成物及黑色层的制造方法-CN201180047445.X有效
发明人：嶋田和人;村山哲 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-10-03 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： C08F290/12 文献下载
摘要：本发明提供一种具有极佳碱显影剂抗性的黑色可聚合组成物、晶圆级透镜以及其类似物。黑色可聚合组成物包含至少：(A)黑色材料；(B)聚合起始剂；(C)可聚合化合物；以及(D)重量平均分子量为至少30,000且侧链具有可聚合基团的碱溶性粘合剂聚合物。
黑色聚合组成制造方法

[发明专利]遮光膜及其制造方法、固体摄像元件以及相机模块-CN201210021525.4有效
发明人：室祐继;村山哲;久保田诚 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-01-31 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种遮光膜及其制造方法、固体摄像元件以及相机模块。该遮光膜是固体摄像元件用遮光膜，所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁，所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布于该硅基板的具备受光元件的面、及形成于该具备受光元件的面上的壁上而形成，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂。
遮光及其制造方法固体摄像元件以及相机模块

[发明专利]喹诺酮羧酸衍生物的制备方法-CN87100387.2无效
发明人：入仓勉;铃江清吾;村山哲;平井敬二;石崎孝义 -专利权人：杏林制药株式会社
申请日： 1987-01-20 - 公布日： 1994-01-19 - 主分类号： C07D215/56 文献下载
摘要：本发明涉及如下化学式(I)的喹诺酮羧酸衍生物的某种新颖的制备方法，其中R1为低级烷基，X为氯原子或溴原子，而Y为卤原子，所述的喹诺酮羧酸衍生物是合成抗菌剂的有效中间体。
喹诺酮羧酸衍生物制备方法

[发明专利]选择毒性极好的8-烷氧基-3-喹啉羧酸及其盐类的制备方法-CN87100580.8无效
发明人：入仓勉;铃江清吾;村山哲;平井敬二;石崎孝义 -专利权人：杏林制药株式会社
申请日： 1987-01-21 - 公布日： 1993-06-02 - 主分类号： C07D401/10 文献下载
摘要：一种制备以下通式的氧代喹啉羧酸衍生物，水合物及其药学上可接受盐的方法，式中R为氢原子或低级烷基，R1为低级烷基，R2为氢原子、氨基或硝基，X为卤素原子，Z为卤素原子、哌嗪基、N-甲基哌嗪基、3-甲基哌嗪基、3-羟基吡咯烷基或以下通式的吡咯烷基，(这里n为0或1，R3为氢原子或低级烷基，R4为氢原子、低级烷基或取代的低级烷基，R5为氢原子、低级烷基、酰基或烷氧基羰基)，它可通过缩合反应、脱酰作用而制得，该类化合物可用作抗菌剂。
选择毒性极好烷氧基喹啉羧酸及其盐类制备方法

[发明专利]咪唑并[1，5-α]嘧啶衍生物的制备方法-CN85106477.9在审
发明人：入仓勉;铃江清吾;村山哲;木下进 -专利权人：杏林制药株式会社
申请日： 1985-08-29 - 公布日： 1992-12-16 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：本发明是关于一种新的咪唑并[1，5-α]嘧啶衍生物的制备方法。此外，本发明也涉及制备一种新的咪唑并[1，5-α]嘧啶衍生物的具有抗真菌性的盐的方法。
咪唑嘧啶衍生物制备方法

[发明专利]喹诺酮羧酸衍生物的制备方法-CN86102363.3无效
发明人：人仓勉;铃江清吾;村山哲;平井敬二;石崎孝义 -专利权人：杏林制药株式会社
申请日： 1986-03-07 - 公布日： 1991-05-15 - 主分类号： C07D401/04 文献下载
摘要：结构式I的喹诺酮羧酸衍生物其水合物及药学上可接受的盐的制备方法，它们是有用的抗菌药物。
喹诺酮羧酸衍生物制备方法

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