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[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201710600092.0有效
发明人：佐竹圭吾;小宫洋司;小仓康司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-21 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构。控制部以第一周期接收流量计的测量结果。另外，在流量计的测量结果表示在供给线中流动的流体的流量包含在预先设定的范围中的情况下，控制部以时间间隔比第一周期的时间间隔长的周期通过流量调整机构对在供给线中流动的流体的流量进行调整。
处理装置方法

[发明专利]基板液处理装置和基板液处理方法-CN201910418261.8有效
发明人：高木康弘;小宫洋司;信国力;佐竹圭吾;穴本笃史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
基板液处理装置方法

[发明专利]基片液处理装置和基片液处理方法-CN202180032981.6在审
发明人：中岛干雄;小宫洋司;中森光则;北野淳一;南辉臣;大塚贵久;小佐井一树;尾嶋智明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供有利于抑制颗粒混入到要提供给基片的处理液中的技术。基片液处理装置包括：供给容器，处理液经由引导管线被供给到供给容器的内侧；对供给容器的内侧加压的加压装置；喷出被供给来的处理液的喷出嘴；供给管线，其与供给容器和喷出嘴连接，没有设置对连接供给容器与喷出嘴的流路进行可变限制的调节机构；第一排液管线，其与供给管线中的供给容器与喷出嘴之间的第一分支部分连接；液流调节机构，其设置于第一排液管线，限制压力比设定压低的处理液通过；和调节设定压的控制部。
基片液处理装置方法

[发明专利]液供给机构、基板处理装置以及基板处理方法-CN202180033454.7在审
发明人：竹口博史;中岛幹雄;大塚贵久;小宫洋司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：液供给机构具有：喷嘴，其对基板喷出处理液；供给流路，其向所述喷嘴供给所述处理液；阀，其对所述供给流路中的流动进行调整；以及缓冲部，其在从所述阀朝向所述喷嘴的中途将所述处理液暂时积存在该缓冲部的内部空间中。
供给机构处理装置以及方法

[发明专利]过滤器清洗系统和过滤器清洗方法-CN202180011726.3在审
发明人：大塚优树;穴本笃史;小宫洋司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-01-27 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本公开的过滤器清洗系统(1、1A)具备贮存部(2)、输液路(3、3A)、循环路(4)、第一供给部(5)以及第二供给部(6)。贮存部贮存要向过滤器(100)通液的液体。输液路向所述过滤器输送贮存于贮存部的液体。循环路使从过滤器输出的液体回到贮存部。第一供给部向贮存部供给第一液体。第二供给部向贮存部供给表面张力比第一液体的表面张力小且具有与第一液体的亲和性的第二液体。
过滤器清洗系统方法

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质-CN201680068848.5有效
发明人：小佐井一树;甲斐義广;五师源太郎;小宫洋司;藤本诚也;大塚贵久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：基板处理装置具备：基板保持部(31)，其保持基板(W)；外喷嘴(45)，其以使基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式从比被基板保持部保持的基板的外周缘靠外侧的位置朝向基板的表面喷出处理液；以及致动器(46、90)，其能够变更外喷嘴的高度位置或俯仰角。
基板液处理装置方法存储介质

[发明专利]基板液处理装置-CN201580068790.X有效
发明人： 小宫洋司;高木康弘;梅野慎一;田中幸二;佐藤尊三;穴本笃史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-12-15 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式的一形态的基板液处理装置具备输送部、处理部、贮存部、以及供液机构。输送部配置有输送基板的输送装置。处理部沿着水平方向与输送部相邻，配置有使用处理液来对基板进行处理的液处理单元。贮存部贮存处理液。供液机构将贮存到贮存部的处理液向液处理单元送出。贮存部配置于输送部的正下方。另外，供液机构配置于处理部的正下方。能够谋求基板液处理装置的省空间化。
基板液处理装置

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN201910875980.2在审
发明人：东博之;穴本笃史;大塚贵久;筱原和义;小宫洋司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-17 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置和基片处理方法。本发明的基片处理装置包括循环管线、过滤器、加热部、供给管线和冷却部。循环管线使处理液循环。过滤器设置在循环管线，用于从处理液中除去异物。加热部设置在循环管线中比过滤器靠下游侧处，用于加热处理液。供给管线在比过滤器和加热部靠下游侧处与循环管线连接，将处理液供给到基片。冷却部设置在循环管线中比过滤器、加热部以及循环管线与供给管线的连接点靠下游侧处，用于冷却处理液。本发明能够抑制在加热了处理液的情况下过滤器的除去性能降低。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN201910809056.4在审
发明人：上村史洋;小宫洋司;绪方信博;大塚贵久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。提供能够削减由虚拟分配等废弃的处理液并且在基板处理时稳定地供给处理液的技术。本公开的一技术方案提供的基板处理装置包括喷嘴、待机部、供给路径、排出路径、循环路径以及气体介质截止机构。喷嘴向基板喷出处理液。待机部具有开口部，该待机部使喷嘴贯穿于开口部而待机。供给路径向喷嘴供给处理液。排出路径自待机部排出处理液。循环路径通过喷嘴、待机部、供给路径以及排出路径相连而形成。气体介质截止机构设于循环路径，用于将循环路径的内部与基板的周围之间切断。
处理装置方法以及存储介质

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201910711315.X在审
发明人：上村史洋;大塚贵久;小宫洋司;绪方信博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-02 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置和基板处理方法，提供一种能够减少处理液的废弃量的技术。基板处理装置具有：处理室，在该处理室中利用处理液来对基板进行处理；喷嘴，其在前端部具有所述处理液的喷出口；喷嘴槽，在该喷嘴槽的内部形成有收容室，该收容室用于在所述处理液向所述基板的供给中断的待机时收容所述喷嘴的所述前端部；循环线路，其用于使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液返回所述喷嘴；以及第一限制部，在使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液向所述喷嘴循环时，该第一限制部限制所述喷嘴槽的外部与存在于所述喷嘴槽的内部的所述处理液之间的气体的流动。
处理液喷嘴槽喷嘴基板处理装置喷嘴喷前端部收容室基板处理循环线路对基板喷出口待机基板废弃中断返回外部流动

[发明专利]基板液处理装置和基板液处理方法-CN201410641579.X有效
发明人：高木康弘;小宫洋司;信国力;佐竹圭吾;穴本笃史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
基板液处理装置方法

[发明专利]处理装置、异常探测方法以及存储介质-CN201810371461.8在审
发明人：中溝贤治;守田聪;田中明贤;小宫洋司;中岛幹雄;福田孝佑;正木洋一;安藤了至;须中郁雄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-04-24 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种探测流路开闭部的异常的处理装置、异常探测方法以及存储介质。实施方式的一种方式所涉及的处理装置具备腔室、喷嘴、流量测量部、流路开闭部以及控制部。腔室用于收容被处理体。喷嘴设置于腔室内，用于向被处理体供给处理液。流量测量部用于测量向喷嘴供给的处理液的流量。流路开闭部进行向喷嘴供给处理液的供给流路的开闭。控制部向流路开闭部输出用于进行关闭供给流路的闭动作的闭信号。另外，控制部根据在输出闭信号之后由流量测量部测量得到的流量的累积量来探测流路开闭部的动作异常。
开闭部流路喷嘴流量测量部处理装置处理液探测被处理体存储介质供给流路腔室测量输出累积量开闭收容室内

[发明专利]基板处理装置-CN201210311001.9有效
发明人：东昇;平木哲;清濑浩巳;佐藤秀明;小宫洋司 -专利权人：仓敷纺织株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-08-28 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，由于可直接检测处理液的浓度，所以能够进行独立的浓度控制，且由于不易产生因透镜温度变化引起的测定误差，因此能够高精度地进行基板的药液处理。一种在由磷酸和稀释液混合而成的处理液中浸渍基板而进行处理的基板处理装置，具备通过测定处理液的吸光特性而检测处理液浓度的浓度检测单元，浓度检测单元具备：透光部，将处理液导入内部并使之在内部流通；发光部，向透光部照射规定波长的光；受光部，通过透光部接收来自发光部的光；第一透镜，将由发光部发出的光汇聚于透光部；第二透镜，将通过透光部的光汇聚于受光部；和冷却机构，冷却第一透镜和第二透镜中的至少任一个。
处理装置

[发明专利]超声波清洗装置、超声波清洗方法-CN201010502243.7有效
发明人：上川裕二;稻富弘朗;山本秀幸;小宫洋司;江头浩司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-28 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明提供一种超声波清洗装置、超声波清洗方法以及记录有用于执行该超声波清洗方法的计算机程序的记录介质。该超声波清洗装置包括：清洗槽，其用于积存清洗液；被处理体保持装置，其被设置成能够插入到清洗槽内，保持被处理体而将被处理体浸渍于清洗液中；振子，其设置在清洗槽的底部；超声波振荡装置，其使振子产生超声波振动。在清洗槽内设有保持被处理体的侧部保持构件。另外，被处理体保持装置利用驱动装置向侧方移动。控制装置以下述方式控制驱动装置：在将被处理体保持于侧部保持构件之后，使被处理体保持装置向侧方移动，并使振子产生超声波振动，使来自振子的超声波振动传播到被处理体。
超声波清洗装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN200710159745.2无效
发明人：坂井光广;八寻俊一;川内拓男;小宫洋司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-12-21 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，在被处理基板的洗净处理中，防止异物向洗净处理后的基板再附着，有效地进行洗净处理，同时实现提高生产量和低成本化。在使用洗净液进行被处理基板的洗净处理的基板处理装置中，具有：形成有以仰面朝上的姿势搬送被处理基板的搬送路径，通过搬送路径搬送基板的搬送单元；和向搬送的基板的上面供给洗净液的洗净喷嘴，其中搬送路径具有以水平状态搬送基板的水平部、和从所述水平部形成规定角度的向上倾斜的倾斜部，洗净喷嘴配置在倾斜部的上方，洗净液的喷出方向为相对于水平方向向下方倾斜规定角度的方向、并且为搬送路径的上游方向，向在倾斜部上搬送的基板的倾斜面喷出洗净液。
处理装置

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