专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]用于荧光检测的结深光电二-CN201320169602.0有效
  • 施朝霞 - 浙江工业大学
  • 2013-04-07 - 2013-11-13 - H01L31/0352
  • 用于荧光检测的结深光电二管,由半导体硅P衬底和N阱构成的深PN光电二管;由P源漏注入和所述N阱构成的浅PN光电二管,所述半导体硅P衬底为所述深PN光电二管的阳极,所述N阱为所述深PN光电二管的阴极;所述P源漏注入为所述浅PN光电二管的阳极,所述N阱为所述浅PN光电二管的阴极;所述半导体硅P衬底通过P源漏注入形成重掺杂欧姆接触,并通过金属接触孔引出,所述N阱通过N源漏注入形成重掺杂欧姆接触,并通过金属接触孔引出。
  • 用于荧光检测双结深光电二极管
  • [实用新型]一种横向高压晶体管-CN201720194591.X有效
  • 刘建;刘青;税国华;张剑乔;易前宁;陈文锁 - 重庆中科渝芯电子有限公司
  • 2017-03-02 - 2017-10-20 - H01L29/735
  • 本实用新型公开了一种横向高压晶体管;包括P衬底、N埋层、P埋层、N外延层、P隔离穿透区、N穿通区、P体区、N重掺区、N重掺环区、预氧层、场氧层、TEOS金属前介质层、发射区金属、集电极金属和基极金属;本实用新型是在常规横向集体管的基础上,在集电区与发射区之间加入了N环状注入,再通过优化第一层金属的布局,使金属全覆盖于集电区之上,尺寸超出集电区结深的两倍。通过仿真以及实际流片结果得出本实用新型的横向高压晶体管在其余参数影响不大的情况下,BVcbo提高40%以上、BVceo提高30%以上、漏电能力提升一个量级。本实用新型提供的一种横向高压晶体管。
  • 一种横向高压双极结型晶体管
  • [发明专利]一种采样/保持电路装置-CN200610164878.4无效
  • 朱旭斌;石寅 - 中国科学院半导体研究所
  • 2006-12-07 - 2008-06-11 - G11C27/02
  • 一种采样/保持电路装置,包括保持电容和采样/保持开关装置;所述的采样/保持开关装置是由三个NPN晶体管和一个N沟道场效应晶体管构成的偏置电路装置,其一端接至模拟或射频信号源,另一端接至保持电容器;两个NPN晶体管的基极分别接至两个互补的采样/保持时钟信号,它们的发射相接并连接至N沟道场效应晶体管的漏,它们的集电极分别与第三个NPN晶体管的基极与发射相连;第三个NPN晶体管的集电极与电源相连;N沟道场效应晶体管的源与地相连,栅极连接偏置电压;在保持电容与采样/保持开关装置之间还连接了一个补偿电路装置,能够有效解决电荷注入带来输出电平不正确的问题。
  • 一种采样保持电路装置
  • [发明专利]包括极有源箝位的开关模式电源-CN201911211453.8在审
  • 琼·维夏德·斯特里耶克 - 恩智浦有限公司
  • 2019-11-29 - 2020-06-09 - H02M7/217
  • 开关模式电源可以包括装置(例如晶体管),所述装置与电容器串联连接并可作为箝位开关进行操作,其中可以通过使集电极‑基极正向偏压而使所述装置接通。当使基极‑集电极偏压反向时,与所述装置相关联的所述电容器可以基于从变压器初级绕组获得并存储在所述电容器中的能量而使所述箝位开关保持导通达有限的时间。所述箝位开关的存储电荷性质可以用于使所述箝位开关保持导通和工作,以作为有源箝位,而不需要高驱动器电路。
  • 包括有源箝位开关模式电源
  • [发明专利]一种碳化硅晶体管的静态驱动装置及方法-CN201510244410.5有效
  • 廖淋圆;唐赛;王俊;帅智康;尹新;沈征;蒋梦轩 - 湖南大学
  • 2015-05-14 - 2017-11-28 - H03K17/687
  • 本发明涉及半导体技术领域,具体涉及一种碳化硅晶体管的静态驱动装置及方法。在碳化硅晶体管的基极与驱动电源之间串联一个可变电阻单元,所述可变电阻单元包括高速硅基场控器件和一个限流电阻,所述限流电阻一端连接所述高速硅基场控器件的源,另一端连接所述高速硅基场控器件的漏;所述碳化硅晶体管的集电极与电流检测器件连接,所述电流检测器件与所述高速硅基场控器件的栅极和源连接。通过碳化硅晶体管基极驱动电流根据集电极电流的正比变化,很大程度上降低了基极驱动功耗,同时有效的降低了实现基极驱动电流变化的成本,而且基本消除了时间延迟。
  • 一种碳化硅双极结型晶体管静态驱动装置方法
  • [发明专利]参考电压产生器-CN200810098716.4有效
  • 王惠民 - 奇景光电股份有限公司
  • 2008-05-30 - 2008-12-03 - G05F1/56
  • 能隙参考电路包括电流产生器与第一晶体管。电流产生器输出参考电流。参考电流是通过第一电阻流入第一晶体管的射,第一晶体管的集与基极是接地,使得能隙参考电压于电流产生器与第一电阻间输出,并使得第一偏压电压于第一晶体管的射输出。
  • 参考电压产生器
  • [发明专利]电压基准电路-CN200910057947.5有效
  • 崔文兵 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2009-09-24 - 2011-04-27 - G05F3/30
  • 本发明公开了一种电压基准电路,在已有的传统常用带隙基准电压源电路结构基础上增加固定偏置电路和启动、过压保护电路,在固定偏置电路中实现一倍晶体管基极射PN电压VBE和二倍晶体管基极射PN电压2VBE,再通过启动、过压保护电路实现晶体管基极射PN电压与带隙基准电压源输出的基准电压的比较控制,使带隙基准电压源正常工作的输出基准电压限定在安全的范围内,当输出的基准电压过高时,能实现电路的自动保护,并且结构简单,适合在各种晶体管和金属氧化物场效应管兼容的工艺下制造。
  • 电压基准电路

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