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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光罩护膜框及其制造方法-CN201380080439.3有效
发明人：山口隆幸;田口喜弘 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2013-10-23 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本发明提供在能够防止雾产生的同时、聚光灯下的表面闪烁缺陷得到减少的光罩护膜框及其制造方法。本发明为光罩护膜框以及光罩护膜框的制造方法，其中光罩护膜框是由铝或铝合金形成的铝框材的表面上具有阳极氧化皮膜的光罩护膜框，阳极氧化皮膜包括使用碱性阳极氧化浴形成的皮膜和使用酸性阳极氧化浴形成的皮膜。
光罩护膜框及其制造方法

[发明专利]光罩护膜的清洁装置与方法-CN202210859671.8在审
发明人：李培生 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及一种光罩护膜的清洁装置与方法，光罩护膜的清洁装置包括出风模组、移动机构、以及控制器。出风模组设有依次间隔设置的多个出风孔。出风孔用于朝向光罩护膜出风，出风孔的出风方向与光罩护膜呈夹角设置，将出风孔按照出风方向与光罩护膜相交的位置定义为对位区。移动机构用于驱动光罩或出风模组移动，以使得对位区依次从光罩护膜的第一侧边移动至光罩护膜上与第一侧边相对的第二侧边。这样在易于产生形变的光罩护膜第一中部位置采用相对较小的风压吹扫清洁处理，避免由于光罩护膜中部部位易于产生形变的问题而导致护膜破损的不良现象，此外，在光罩护膜的其它区域则相对较大的风压吹扫清洁处理，从而同时能保证对光罩护膜的清洁效果
光罩护膜清洁装置方法

[发明专利]利用换气装置降低光掩膜雾化的曝光装置及方法-CN200710199060.0有效
发明人：游秋山 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-12-07 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用换气装置降低光掩膜雾化的曝光装置及方法，其是将印框护膜固定于光掩膜上，该印框护膜至少包含护膜框架及与其连接的护膜，印框护膜具有第一孔与第二孔，第一孔与第二孔均连接第一空间与印框护膜外的第二空间，而第一空间由光掩膜与印框护膜环设而成的。在利用能量源穿过印框护膜及光掩膜对光刻层曝光的同时，使第一空间内的气体经由第一孔而外流至印框护膜。
利用换气装置降低光掩膜雾化曝光方法

[发明专利]便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模-CN202211623777.4在审
发明人：田正洲;葛海鸣;包忍 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本申请提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模，涉及光掩模的技术领域，其步骤如下：在光掩模表面设置标尺，标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，标尺每格度数的量级为微米级；蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。通过设置标尺，利用光掩模上预先设置的标尺，对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行测量，只要借助显微镜辅助即可，无需使用标注差量测基台，降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低了光掩模的整体成本。
便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移方法

[发明专利]一种光罩防护结构、光罩基板的包装方法、光刻方法-CN202110032583.6在审
发明人：穆钰平;姜鹏 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-01-11 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩防护结构、光罩基板的包装方法、光刻方法，光罩护膜框的一端固定连接在光罩基板上，另一端连接第一保护膜和第二保护膜，第二保护膜位于第一保护膜远离光罩基板的一侧，第一保护膜为光罩功能膜；第一保护膜在光罩基板的正投影覆盖光罩基板上的掩膜图形，第二保护膜在光罩基板上的正投影覆盖第一保护膜，第一保护膜和第二保护膜在垂直于光罩基板的方向上的距离大于或等于预设值。在光罩功能膜上覆盖第二保护膜，第二保护膜保护光罩功能膜，避免颗粒掉落至光罩功能膜上，且由于光罩功能膜和第二保护膜之间具有一定的间隔，在去除第二保护膜时不会对光罩功能膜造成损伤，保证光罩功能膜能够有效保护掩膜图形
一种防护结构光罩基板包装方法光刻

[发明专利]光罩护膜检测方法及其系统-CN202210306558.7在审
发明人：陈明彰;张俊霖;陈家桢 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光罩护膜检测方法及其系统，光罩护膜检测方法包含以一低同调光干涉系统，分别使用一第一偏振光以及一第二偏振光，量测一光罩护膜的多个区域，以分别获得每一该些区域的一第一偏振态色散信息以及一第二偏振态色散信息，其中该第一偏振光的偏振态不同于该第二偏振光的偏振态；计算每一该些区域的该第一偏振态色散信息以及该第二偏振态色散信息，以判断该光罩护膜是否合格；以及将合格的该光罩护膜装设至一光罩上。
光罩护膜检测方法及其系统

[发明专利]极紫外线光罩护膜结构体及其制造方法-CN201780008507.3有效
发明人：安镇浩;金廷桓;金正植;禹东坤;张镛铸 -专利权人：汉阳大学校产学协力团
申请日： 2017-01-09 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本发明可提供极紫外线光罩护膜结构体的制造方法，上述极紫外线光罩护膜结构体的制造方法包括：准备光罩护膜薄膜的步骤，上述光罩护膜薄膜包括由多个极紫外线(EUV，Extreme Ultraviolet)透射层及散热层交替层叠而成的中间膜结构体(intermediate layer structure)、上述中间膜结构体的上部面上的上述第一薄膜以及配置于上述中间膜结构体的下部面且具有低于上述第一薄膜的热辐射率的第二薄膜；以及在上述光罩护膜薄膜的上述散热层所露出的边缘侧面(sidewall)上配置从上述光罩护膜薄膜吸收热量的冷却结构体的步骤。
紫外线光罩护膜结构及其制造方法

[实用新型]一种光罩护膜清洁装置-CN201520145480.0有效
发明人：邢滨;郝静安;张强 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2015-03-13 - 公布日： 2015-07-08 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光罩护膜清洁装置，该装置至少包括：底座和该底座两侧的滑轨；与每个滑轨匹配的滑块；连接于滑块间的除尘模块及扫描探测模块；两个滑轨的同一端设有凹槽，凹槽中嵌有挡板；除尘模块上设有进气口及若干出气口；进气口连接有进气管路；扫描探测模块包括：线传感器、散射光接收透镜以及激光束；底座上设有集气罩；集气罩与底座接触区域设有密封圈；集气罩上表面设有排气孔。本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置，移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定距离而不会损坏光罩护膜；同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面清洁度；提高了产品良率以及保证了产品的交期
一种光罩护膜清洁装置

[发明专利]一种修补光罩的方法及设备-CN202010936073.7在审
发明人：贺遵火;蔡奇澄;张哲玮;高翌 -专利权人：泉芯集成电路制造（济南）有限公司
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种修补光罩的方法及设备，利用激光穿过光罩护膜轰击光罩中透光型缺陷周围的不透光层，以使不透光层的不透光材料被轰击出来，透光型缺陷为不透光层中缺少不透光材料的区域。而后，利用轰击出来的不透光材料沉积至透光型缺陷上，从而在透光型缺陷上形成一层薄膜，降低光罩图形在光学上的线宽，达到修补光罩中的透光型缺陷的作用。这样，无需拆除光罩护膜，便可以实现对光罩的缺陷修补，简化修补缺陷的流程，提高工艺效率，而且由于无需拆除光罩护膜，节省光罩护膜的成本，无需占用较多的机台进行除胶清洗、修补及再次贴膜等操作，节省机台的资源，
一种修补方法设备

[发明专利]光罩护膜-CN201910996116.8在审
发明人：李柏轩;林钰庭;林云跃;杨怀德 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：光罩护膜包括应力控制金属层。在所述金属层中的应力可在约500百万帕到50百万帕之间。制造包括金属层的光罩护膜的方法包括通过等离子体物理气相沉积来沉积金属层。
光罩护膜

[实用新型]带护膜的光掩模、曝光系统及平板显示器用屏的制造系统-CN202220827623.6有效
发明人：関原一敏 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本实用新型提供一种带护膜的光掩模、曝光系统及平板显示器用屏的制造系统，此护膜的至少一条边的边长超过1000mm，且当安装于光掩模的护膜高速移动时，护膜膜片的摇晃量小。本实用新型的护膜包含至少一条边长超过1000mm的护膜框、及粘接于其一个框状面的护膜膜片而构成，且所述护膜，其中，对于护膜膜片，在与相互平行且为线对称的一对护膜框边平行的方向赋予有1％以上且2.5％以下的拉伸应变本实用新型可降低在曝光机或异物检查机内护膜膜片接触装置零件的危险性。
带护膜光掩模曝光系统平板显示器用制造

[发明专利]护膜、曝光方法及平板显示器用屏的制造方法-CN202210376691.X在审
发明人：関原一敏 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本发明提供一种护膜、曝光方法及平板显示器用屏的制造方法，此护膜的至少一条边的边长超过1000mm，且当安装于光掩模的护膜高速移动时，护膜膜片的摇晃量小。本发明的护膜包含至少一条边长超过1000mm的护膜框、及粘接于其一个框状面的护膜膜片而构成，且所述护膜，其中，对于护膜膜片，在与相互平行且为线对称的一对护膜框边平行的方向赋予有1％以上且2.5％以下的拉伸应变
护膜曝光方法平板显示器用制造

[实用新型]光罩清洗设备-CN200720127313.9无效
发明人：廖莉雯 -专利权人：廖莉雯
申请日： 2007-08-10 - 公布日： 2008-09-24 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种擦拭清洗光罩的设备，特别是指一种可迅速、且有效去除光罩表面微粒子与雾化污渍的设备，该设备至少包含有一输送装置、一侧边擦拭装置及一顶面擦拭装置，以利用输送装置载送光罩依序经由侧边擦拭装置与顶面擦拭装置，而利用含浸有清洗液的擦拭件直接接触擦拭该光罩的上、下边缘表面与顶部表面，借此可有效、且迅速的去除光罩护膜外表面的微粒子与雾化污渍等，以缩短光罩清洗及再运用时间，同时不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，并大幅提升光罩清洗后的洁净度
清洗设备

[实用新型]一种口腔科患者用防护罩-CN201420053501.1有效
发明人：郑新宇;牛晓燕 -专利权人：郑新宇
申请日： 2014-01-25 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： A61C19/00 文献下载
摘要：其结构特点是由护眼罩、护鼻罩、柔性罩膜组成；护眼罩包括镜框、墨镜片、护框、镜腿连接件、镜腿、鼻托，镜框上安装墨镜片，固连在镜框左右两端的呈L型的镜腿连接件的横杆为伸缩杆，镜腿为伸缩腿，镜框下侧面固设有一对左右对称设置的凸块，镜框环周贴靠人面一侧除两块凸块之间对应的镜框部分外的其余镜框部分均一体连接有护框，护框的上顶面开设有通气窗；护鼻罩的前面顶部一体设有的舌部两侧分别经扭力弹簧与护眼罩的一对凸块连接；护眼罩与护鼻罩连接位置的前面及左右侧面的外周均罩设有柔性罩膜
一种口腔科患者防护罩

[发明专利]一种光罩及清洁装置-CN201710165797.4在审
发明人：张瑞军;莫超德;范志翔;卢马才;蔡小龙 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-03-20 - 公布日： 2017-06-13 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明涉及液晶显示器技术领域，具体涉及一种光罩及清洁装置。包括石英玻璃板、透明导电膜、半透明膜和金属框；其中，在石英玻璃板的下面设有金属框，半透明膜设置在金属框的下端，在石英玻璃板的上面和半透明膜的下面均设有透明导电膜。本发明通过在光罩表面设置透明导电膜，对透明导电膜通电，使得掉落在光罩上的异物带电；再通过光罩清洁装置，通过相反电性的上清洁板和下清洁板吸附异物，达到对光罩表面异物洁净方便快捷的效果。
一种清洁装置

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