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[发明专利]无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极-CN02116687.0无效
发明人：杨会生;王燕斌;熊小涛 -专利权人：北京科技大学
申请日： 2002-04-16 - 公布日： 2003-02-19 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法，其特征在于法兰(28)安装于真空室壁上，在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27)，基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜；对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极，铁磁性靶材由中心圆形靶材(21’)和外侧环型靶材(21)组成，中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有5－60mm的间隙，溅射在间隙附近发生；靶材(21，21’)、磁极(22，22’)、磁铁(23，23’)和磁极背板(38)构成闭合磁路；其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料；靶体(33)采用具有良好导热性的材料制造。在溅射过程中，等离子体中的离子对靶材表面的轰击，将有大量的热能产生，在靶体内构造出冷却水道(39)。本发明的优点在于克服了铁磁性靶材对磁路的屏蔽效应；增加一致性，易于安装和维护。
屏蔽铁磁性溅射阴极

[发明专利]一种用于大电流密度M型阴极敷膜的合金靶材制备方法-CN201110444736.4有效
发明人：夏扬;谢元锋;吕宏;王玉民 -专利权人：北京有色金属研究总院
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： B22F3/16 文献下载
摘要：本发明公开了属于合金靶材制备技术领域的一种用于大电流密度M型阴极敷膜的合金靶材制备方法。在对原料粉末提纯的基础上，利用等离子体球化技术制备OsRe、OsRu、OsIr、OsRh、OsW、WRe等预合金粉末，有助于获得高纯和高均匀的靶材。合金均匀性提高有助于阴极发射稳定性改善。采用真空烧结制备结构稳定的中间合金粉末，有效抑制合金烧结时铝的挥发，可稳定合金成分并提高靶材均匀性。采用多段氢气烧结工艺，获得高致密度的锇合金靶材。本发明研制的锇合金系列靶材具有高纯、高致密、高均匀的特点，同时可通过调整组元及其含量，满足M型阴极大电流发射的要求。
一种用于电流密度阴极合金制备方法

[发明专利]一种可导电溅射靶材表面的快速自清洁工艺-CN202111442116.7有效
发明人：毛昌海;祖全先;帅小锋 -专利权人：艾瑞森表面技术（苏州）股份有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种可导电溅射靶材表面的快速自清洁工艺，包括以下步骤：在常温下将溅射镀膜设备真空抽至1e‑4mBar以内，将溅射镀膜设备的阴极靶门全部打开，用可以正常起辉的阴极点燃氩气，发生辉光放电，并保持高溅射功率；提高电磁辅助线圈电流以增强磁场，使辉光放电区域延伸至待清洁靶材表面附近；开启待清洁靶材阴极，在低功率条件下使靶材起辉，待靶材表面放电稳定后逐步增大溅射功率并保持预设时长，即可完成靶材表面自清洁工艺。
一种导电溅射表面快速清洁工艺

[实用新型]复合式沉积系统-CN201420017179.7有效
发明人：张奇龙;吴宛玉;陈品宏;陈威池;汪大永 -专利权人：明道学校财团法人明道大学
申请日： 2014-01-10 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种复合式沉积系统，包含一腔体、一抽气泵浦、一气体供应源、一阴极电弧源、一高功率脉冲磁控溅镀源与一基板。抽气泵浦与腔体内部连通以改变腔体的气压。气体供应源与腔体内部连通，并提供一气体进入腔体。阴极电弧源与腔体连接，阴极电弧源包含一第一靶材，第一靶材设置于腔体内。高功率脉冲磁控溅镀源与腔体连接，高功率脉冲磁控溅镀源包含一第二靶材，第二靶材设置于腔体内。基板设置于腔体内，且对应第一靶材与第二靶材。借此，可增加沉积速率与改善所沉积薄膜的性质，并可精简制程与提高产能。
复合沉积系统

[发明专利]一种高场强高靶材利用率的阴极-CN201910209403.X在审
发明人：张奇龙;李伟 -专利权人：杭州朗为科技有限公司
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及磁控溅射阴极，公开了一种高场强高靶材利用率的阴极，其核心是由磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁钢组通过磁力与磁轭连接，磁路模块包括一个磁轭，磁钢组由五道不等距且平行放置的磁钢组成，磁钢的磁极交错设置本发明提供的磁路结构使得阴极表面拥有更多的与靶材平行的磁场分量，能够对靶面进行更大面积的刻蚀，从而提升了靶材的利用率，有效节省了材料；单个靶材使用时间的延长，可以避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，保证生产的连续性另外，该阴极通过五道磁钢的配合，在提供更多平行磁场分量的同时保证了靶材表面的磁场强度，可以对导磁性材料或者较厚的靶材进行有效溅射，拓宽了产品的应用领域，也对溅射效率进行了有效提高。
靶材阴极磁钢组磁钢磁轭靶材利用率高场强磁路溅射磁极磁控溅射阴极平行磁场分量导磁性材料靶材表面磁场分量磁路结构工作效率交错设置平行放置阴极表面磁力不等距洁净度真空室对靶刻蚀磁场平行保证配合生产

[实用新型]一种光学镀层阴极体-CN202022673934.5有效
发明人：路金高 -专利权人：天津金永铭科技有限公司
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型属于镀膜设备部件技术领域，尤其是一种光学镀层阴极体，包括阴极体座和靶材，所述阴极体座的一侧开设有凹槽，所述凹槽的内部设置有绝缘接头，所述绝缘接头的表面安装有连接装置，通过所述连接装置连接靶材和阴极体座该光学镀层阴极体，通过设置利用将靶材与阴极体座通过连接装置进行连接，通过连接装置内的弹簧片在螺纹套管的带动下，通过卡块和卡轴带动弹簧片进行折叠，由于固定轴插入插孔内，将弹簧片的另一端相对固定，使得弹簧片螺旋折叠，随着螺纹套管的转动，使得弹簧片中心的靶材被夹紧固定，从而使得具有便于对靶材进行拆卸安装的特点。
一种光学镀层阴极

[发明专利]矩形平面阴极弧源和阴极靶材烧蚀装置-CN201310511738.X有效
发明人：马国佳;王明娥;刘星;孙刚;张林 -专利权人：中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所
申请日： 2013-10-25 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种矩形平面阴极弧源和阴极靶材烧蚀装置，该矩形平面阴极弧源包括：电磁线圈、中心永磁体组和与中心永磁体组极性相反的外围永磁体组；所述中心永磁体组放置于所述电磁线圈的中心；所述外围永磁体组放置于所述电磁线圈的外围通过本发明所提供的矩形平面阴极弧源和阴极靶材烧蚀装置可以在提高制备涂层的质量的同时，保证阴极靶材的利用率和沉积速率。
矩形平面阴极靶材烧蚀装置

[实用新型]磁控溅射镀膜设备的阴极装置及磁控溅射镀膜设备-CN202320257706.0有效
发明人：杨建;王雪戈;于振瑞 -专利权人：无锡极电光能科技有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备的阴极装置及磁控溅射镀膜设备。该装置包括阴极盖板和阴极组件，阴极盖板和阴极组件相对且间隔布置，阴极盖板和阴极组件之间设有冷却水管、组件支撑柱和高压接线柱，阴极组件包括冷却水通道和磁性组件，冷却水通道包括水道盖板和水道壁，水道壁包括第一水道壁和第二水道壁，第一水道壁围成上方敞口的储水空间，第二水道壁将储水空间隔为第一储水空间和第二储水空间，水道盖板盖设在储水空间的上端，水道盖板上自下而上设置有靶材背板和靶材材料；磁性组件设在第一储水空间和第二储水空间的外围该装置避免冷却水与靶材背板和磁性组件接触，保证靶材背板与磁性组件的洁净。
磁控溅射镀膜设备阴极装置

[实用新型]一种真空镀膜机的靶材绝缘保护结构-CN202320747950.5有效
发明人：王桂岳;王同泉;赵松强;张文刚 -专利权人：龙口市比特真空技术有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空镀膜机的靶材绝缘保护结构，包括阴极座，所述阴极座的外侧壁下端面上卡接有靶材绝缘套，所述靶材绝缘套包括有卡套，所述卡套的外侧壁靠上端的位置设置有第一护套槽，所述卡套的外侧壁底部的位置设置有第二护套槽本实用新型中，通过设置在靶材绝缘套外侧增加保护套，有效隔绝长时间工作时内部靶材高温颗粒溅射到靶材绝缘套上，防止高温颗粒烧损靶材绝缘套导致靶材绝缘套与内部靶材间连电；增加保护套，延长靶材绝缘套的使用寿命。
一种真空镀膜绝缘保护结构

[实用新型]一种用于电阻镀膜机的高利用率磁控溅射靶-CN202321256752.5有效
发明人：高洋;马铁明 -专利权人：沈阳晶科真空技术有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于电阻镀膜机的高利用率磁控溅射靶，包括有靶材和阴极体，所述磁铁安装在阴极体内部，所述磁铁排布在极靴上，所述磁铁上方设置有磁铁压条，所述靶材一端安装有靶材压框，另一端设置有靶护板，所述靶材压框的一侧安装有屏蔽板，所述靶材位于屏蔽罩内，所述靶材一侧连接有靶头，所述靶头包括有绝缘部和真空密封部，所述靶头一端设置有靶头屏蔽罩；优点是此磁控溅射靶利用率高，同时让镀膜过程中靶材表面以及靶材表面与屏蔽罩之间的打火、放点次数减少
一种用于电阻镀膜利用率磁控溅射

[发明专利]平面磁控阴极-CN201410629538.9在审
发明人：薛辉;任俊春;金海涛 -专利权人：芜湖真空科技有限公司
申请日： 2014-11-10 - 公布日： 2015-05-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面磁控阴极，该平面磁控阴极包括：核体，所述核体上嵌有磁体，所述磁体上设置有一个通道；铜板，所述铜板密封所述通道；靶材，所述靶材由多个靶块拼接形成，且固接于所述铜板。本发明的平面磁控阴极可以防止热膨胀。
平面阴极

[发明专利]磁控溅射铁磁性靶材的装置-CN202010661505.8有效
发明人：郝宏波;王婷婷;乔禹;梁雨萍;辛博;田若楠;张茂彩;王誉 -专利权人：包头稀土研究院;瑞科稀土冶金及功能材料国家工程研究中心有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射铁磁性靶材的装置，包括：阴极基座、周边永磁体、中心永磁体，周边永磁体、中心永磁体位于阴极基座的下部，周边永磁体位于中心永磁体外侧，还包括：耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材，耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材位于阴极基座上部，中心永磁柱位于耐高温绝缘保护罩内部，耐高温绝缘保护罩位于环状磁性靶材内侧。本发明改变了现有技术的磁路，使得磁场分布均匀合理，解决了由于铁磁性靶材高磁导率引起的表面磁场强度较小而无法正常磁控溅射的问题。
磁控溅射铁磁性装置

[发明专利]一种多模式调制弧源装置-CN202010412933.7有效
发明人：郎文昌;朱豪威;胡晓忠 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域，具体是指一种多模式调制弧源装置，包括弧头组件、引弧组件、安装板，弧头组件与引弧组件均固定在安装板上；弧头组件与安装板之间设有绝缘密封组件，弧头组件与安装板之间形成密封腔室；弧头组件包括阴极座、阴极盖，阴极座、阴极盖可拆卸安装组成阴极组件；阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部，靶材安装部内连接有靶材；阴极座与阴极盖之间设有水冷内腔；阴极座及阴极盖上可分别装配不同模式的永磁体组，可有效控制靶面的磁场强度，提升弧光放电过程中弧斑的运动速度，从而可以有效的降低弧光放电过程中的大颗粒。
一种模式调制装置

[发明专利]一种智能电弧离子源-CN201710605424.4有效
发明人：蔺增;乔宏;王书豪;辛玉富 -专利权人：东北大学;沈阳添和毅科技有限责任公司
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种智能电弧离子源，包括电磁线圈模块、靶材、水冷模块和永磁体模块。水冷模块包括铜阴极体、阴极体盖和通水螺纹杆，铜阴极体设有水冷通道，阴极体盖与铜阴极体固定连接，通水螺纹杆为中空的管体，其穿过阴极体盖与水冷通道相连通。阴极体盖通过连接件与电磁线圈模块连接，靶材固定在铜阴极体上，永磁体模块固定在通水螺纹杆上。本发明的电弧离子源通过水道冷却的形式代替传统的大平面冷却，解决了冷却水滞留的问题，冷却较为均匀。从中心位置开始对靶材进行冷却，能有效的扼制靶面最高温处热量的累积，降低靶面温度，解决大颗粒污染，提高膜层质量。同时采用磁场控制弧斑的方式，防止弧斑随机运动在靶面造成热量累积。
铜阴极阴极体电弧离子源冷却螺纹杆靶面通水电磁线圈模块永磁体模块水冷模块水冷通道靶材弧斑磁场控制热量累积随机运动智能传统的大颗粒大平面冷却水连接件滞留的中空的对靶管体膜层水道穿过污染

[发明专利]磁控溅射阴极系统-CN201680042990.2有效
发明人：王三军 -专利权人：深圳市柔宇科技有限公司
申请日： 2016-12-26 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：提供了一种磁控溅射阴极系统，包括环形靶材和转动设置在环形靶材内的磁性组件，所述磁性组件的磁场线穿过所述环形靶材。磁性组件相对于所述靶材运动，磁性组件在靶材表面形成的磁场线变化，避免了靶材在固定磁场作用下产生边界效应，减少了靶材的局部损耗，提高了镀膜质量。
磁控溅射阴极系统