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[发明专利]大功率密度的磁控溅射阴极-CN201210053887.1无效
发明人：王正安;谭新;郑战伟;钱鹏亮;李杰;韩子水 -专利权人：上海福宜新能源科技有限公司
申请日： 2012-03-01 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空镀膜领域的磁控溅射阴极，具体说是一种大功率密度的磁控溅射阴极，包括阴极主体，以及与阴极主体连接的同轴电缆，还包括安装在阴极主体上部的靶材，以及位于阴极主体下方的磁路系统，其特征在于；还包括一个阳极罩，所述阴极主体上开设进水槽和出水槽，并与靶材之间设有防水板，进水槽与出水槽的下方分别形成进水口和出水口，阴极主体的下方还有绝缘体，绝缘体的下方通过底板固定于阳极罩内，所述的阳极罩上方设有气路板，以及用于引入冷却水的铜管本发明同现有技术相比，改善磁控溅射阴极性能，增加磁控溅射阴极的功率密度和提高磁控溅射阴极的靶材利用率对于提高磁控溅射镀膜的效率，降低镀膜的成本。
大功率密度磁控溅射阴极

[实用新型]一种曲柄摇杆式磁控溅射设备阴极挡板-CN201821531935.2有效
发明人：高鹏 -专利权人：昆山彰鑫金属真空热处理科技有限公司
申请日： 2018-09-19 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种曲柄摇杆式磁控溅射设备阴极挡板，包括真空室和磁控溅射阴极，所述磁控溅射阴极位于真空室内；还包括驱动机构、曲柄挡板、摇杆挡板以及滑套，所述驱动机构的转轴外围设置有轴套，所述曲柄挡板的上端与轴套连接，所述曲柄挡板的底端通过第一铰链与摇杆挡板的上端铰接，所述摇杆挡板的底端通过第二铰链与滑套铰接，所述真空室内设置有导向杆，所述滑套位于导向杆上，所述导向杆与磁控溅射阴极的位置相对应。本实用新型可减小磁控溅射阴极的挡板运动时对空间的需求，降低磁控溅射阴极‑工件距离，并有效利用真空室的空间。
磁控溅射阴极曲柄挡板摇杆挡板导向杆滑套磁控溅射设备本实用新型曲柄摇杆式驱动机构阴极挡板上端真空室底端铰接铰链室内挡板运动工件距离轴套连接减小轴套转轴外围

[发明专利]磁控溅射阳极以及磁控溅射设备-CN202310417378.0在审
发明人：徐升东 -专利权人：理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2023-04-18 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供磁控溅射阳极以及磁控溅射设备。所述磁控溅射阳极与布气组件以及旋转阴极一并布置在磁控溅射设备的溅射腔中，所述磁控溅射阳极设置在所述溅射腔的盖板或底板与所述旋转阴极之间，并且构造成包覆所述旋转阴极并将其旋转轴及面向基片的溅射端露出的U形罩，所述U形罩底部开设有适于所述布气组件穿设的通槽，所述U形罩接收及限制所述布气组件提供的气体并且收集所述旋转阴极表面的靶材在溅射过程中产生的电子。本发明能提高磁控溅射阳极捕获电子的能力，减少电子逃逸以及电子达到基片上的概率，提高溅射稳定性。
磁控溅射阳极以及设备

[实用新型]磁控溅射阳极以及磁控溅射设备-CN202320875203.X有效
发明人：徐升东 -专利权人：理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2023-04-18 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供磁控溅射阳极以及磁控溅射设备。所述磁控溅射阳极与布气组件以及旋转阴极一并布置在磁控溅射设备的溅射腔中，所述磁控溅射阳极设置在所述溅射腔的盖板或底板与所述旋转阴极之间，并且构造成包覆所述旋转阴极并将其旋转轴及面向基片的溅射端露出的U形罩，所述U形罩底部开设有适于所述布气组件穿设的通槽，所述U形罩接收及限制所述布气组件提供的气体并且收集所述旋转阴极表面的靶材在溅射过程中产生的电子。本实用新型能提高磁控溅射阳极捕获电子的能力，减少电子逃逸以及电子达到基片上的概率，提高溅射稳定性。
磁控溅射阳极以及设备

[发明专利]一种阴极体组件、磁控溅射阴极及磁控溅射装置-CN201810759479.5在审
发明人：梅艳慧 -专利权人：君泰创新(北京)科技有限公司
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种阴极体组件、磁控溅射阴极及磁控溅射装置，涉及磁控溅射领域，可提高靶材表面的水平磁场强度。该阴极体组件包括：阴极板，还包括：设置在阴极板一侧板面上的磁路组件，磁路组件包括：中间磁体组件和环绕中间磁体组件的外圈磁体组件；其中，中间磁体组件和外圈磁体组件背离阴极板一侧的磁极极性相反；中间磁体组件包括至少用于阴极体组件及包括该阴极体组件的磁控溅射阴极、磁控溅射装置的制备。
外圈磁体磁体组件阴极体阴极板磁控溅射阴极磁控溅射装置磁路组件磁体组组数靶材表面磁极极性磁控溅射水平磁场组件包括制备环绕背离申请

[实用新型]一种阴极体组件、磁控溅射阴极及磁控溅射装置-CN201821097209.4有效
发明人：梅艳慧 -专利权人：君泰创新（北京）科技有限公司
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种阴极体组件、磁控溅射阴极及磁控溅射装置，涉及磁控溅射领域，可提高靶材表面的水平磁场强度。该阴极体组件包括：阴极板，还包括：设置在阴极板一侧板面上的磁路组件，磁路组件包括：中间磁体组件和环绕中间磁体组件的外圈磁体组件；其中，中间磁体组件和外圈磁体组件背离阴极板一侧的磁极极性相反；中间磁体组件包括至少用于阴极体组件及包括该阴极体组件的磁控溅射阴极、磁控溅射装置的制备。
外圈磁体阴极体磁体组件磁控溅射阴极磁控溅射装置阴极板磁路组件磁体组组数靶材表面磁极极性磁控溅射水平磁场组件包括制备环绕背离申请

[发明专利]一种磁控溅射阴极磁场布置结构及用于制备纳米碳薄膜的方法-CN201810828325.7在审
发明人：唐诗琪;高凯雄;张斌;刘睿峰;唐迎春 -专利权人：衡阳舜达精工科技有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开的磁控溅射阴极磁场布置结构，包括至少一磁控溅射阴极基本磁场阵列，所述磁控溅射阴极基本磁场阵列包括产生中心磁场的中心磁铁和产生外围磁场的外围磁铁，所述外围磁铁围绕在中心磁铁的外围，所述中心磁铁和外围磁铁均固定在上磁轭本发明的磁控溅射阴极磁场布置结构的设计可以无限制的加宽磁控溅射阴极，而端头不均匀区域只取决于形成磁场跑道基本单元的端头非均匀区域。本发明还公开了利用上述磁控溅射阴极磁场布置结构来制备纳米结构碳薄膜的方法。
磁控溅射阴极磁场布置结构外围磁铁中心磁场中心磁铁外围基本磁场上磁轭下磁轭端头制备跑道非均匀区域纳米碳薄膜闭合磁场磁场方向基本单元纳米结构闭合场不均匀碳薄膜加宽垂直

[实用新型]磁控溅射纳米疏水膜制备装置-CN201920781324.1有效
发明人：钱锋 -专利权人：深圳市天星达真空镀膜设备有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射纳米疏水膜制备装置，包括真空室、蒸发室、真空获得系统、真空计、充气系统、磁控溅射系统、转架和加热丝，所述磁控溅射系统包括偏压电源和磁控溅射阴极，所述偏压电源分别与转架和磁控溅射阴极电连接，所述磁控溅射阴极和真空计安装在真空室上，所述转架和加热丝安装在真空室内，所述蒸发室位于真空室下方，并与真空室通过管道相连通，所述蒸发室内设有电阻蒸发器，所述转架位于磁控溅射阴极与蒸发室之间，所述充气系统和真空获得系统分别与真空室相连接本实用新型同时具备了磁控溅射镀膜和蒸发镀膜这两种工艺，避免了镀膜过程中基片和镀料需要频繁装卸的问题，提高了镀膜效率和膜层的牢固性。
真空室磁控溅射阴极转架蒸发室磁控溅射系统真空获得系统本实用新型充气系统偏压电源真空计磁控溅射镀膜室内加热丝安装磁控溅射镀膜过程镀膜效率蒸发镀膜制备装置电连接加热丝牢固性疏水膜蒸发器电阻镀料膜层蒸发装卸

[实用新型]一种用于制备组合材料的高通量磁控溅射系统-CN201721164197.8有效
发明人：胡凯;张晓军 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于制备组合材料的高通量磁控溅射系统，该装置包括真空室，以及设置于真空室中的多个磁控溅射阴极和基片，基片设置于真空室顶部，多个磁控溅射阴极斜对着基片设置，不同的磁控溅射阴极上设置不同类型的靶材，还包括旋转挡板及旋转挡板的驱动机构；多个磁控溅射阴极围绕旋转挡板的旋转轴设置，旋转挡板上设置一通孔，且旋转挡板绕轴旋转一周时，旋转挡板上的通孔使磁控溅射阴极其中最多一者射出的原子不被旋转挡板阻挡。通过本实用新型，能够利用磁控溅射的梯度实现一次性批量生长成百上千种不同的材料。并且能够避免不同靶材之间的干扰，同时控制靶材更替沉积的速度，能实现不同靶材上的原子溅射到基片后达到原子级别的混合。
旋转挡板磁控溅射阴极靶材真空室磁控溅射系统本实用新型组合材料高通量制备磁控溅射驱动机构绕轴旋转原子级别旋转轴一次性沉积溅射射出通孔斜对更替阻挡生长

[发明专利]少落尘的真空磁控溅射镀膜设备-CN201110374715.X无效
发明人：林嘉宏 -专利权人：林嘉宏
申请日： 2011-11-23 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种少落尘的真空磁控溅射镀膜设备，设有溅射区，所述溅射区内设有磁控溅射阴极的靶材及组件，其特征在于：所述磁控溅射阴极的遮蔽板上设有不锈钢网。在应用真空磁控溅射镀膜方法镀制玻璃时，本发明通过在阴极遮蔽板上加装不锈钢网，增加了未溅射到基板上的离子与阴极遮蔽板的接触面积及吸附力，从而有效地减少镀膜玻璃上产生落尘的几率，大大地提高了镀膜产品的良品率
落尘真空磁控溅射镀膜设备

[发明专利]柔性透明电磁屏蔽膜及制备方法-CN201910399811.6在审
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备方法，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面。
磁控溅射装置沉积电磁屏蔽膜透明基材阴极室阴极靶材透明制备氧气磁控溅射镀膜惰性气体氩气有机透明材料阴极一次性沉积真空镀膜腔惰性气体反应气体工作气体连续移动上下表面有机基材卷绕式连续型一次性氧化物镀膜基材溅射室内

[发明专利]对称磁体磁控溅射源-CN93111860.3无效
发明人：范启华;陈小洪;陈宏猷;洪源;张鹰 -专利权人：电子科技大学
申请日： 1993-06-22 - 公布日： 1996-10-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明介绍了一种用于簿膜制造技术的磁控溅射镀膜源。它的构成如下两个磁极对称的外部环形永磁体和一个内部环形永磁体形成磁控溅射磁场，在内部永磁体的外围装有一个水冷溅射阴极，并在它的上面安放着靶材，在外部永磁体和水冷溅射阴极之间装有一个阴极屏蔽罩，屏蔽罩和水冷溅射阴极的下部置于绝缘体上该磁控溅射源不仅可实现高溅射淀积速率，低基片温度，而且可将靶材利用率从平面磁控溅射源的30％提高到64％。
对称磁体磁控溅射

[发明专利]磁控溅射制备导电薄膜的方法-CN201410039632.9有效
发明人：郑芳平;张迅;易伟华 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2014-01-27 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁控溅射制备导电薄膜的方法。该方法包括提供基板，将所述基板放入磁控溅射腔室中；提供阴极和靶材，将所述阴极和靶材放入所述磁控溅射腔室中；以及在电源的作用下，同时采用直流磁控溅射和射频磁控溅射在所述基板上溅射制备导电薄膜的步骤。这种方法同时采用溅射直流溅射镀膜和射频溅射在基板上溅射镀膜。经实验表明，该方法能够在较低的电压下镀膜，能够避免直流磁控溅射镀膜存在的电阻率高和透射率低的问题。
磁控溅射制备导电薄膜方法

[发明专利]复合阴极、磁控溅射镀膜设备及镀膜方法-CN202210146590.3有效
发明人：杨恺;林海天;李立升 -专利权人：东莞市华升真空镀膜科技有限公司
申请日： 2022-02-17 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种复合阴极、磁控溅射镀膜设备及镀膜方法，该复合阴极包括：弧阴极；引弧针，与弧阴极相对设置，用于与弧电源正极连接以在弧阴极表面引弧；磁控阴极，相间隔地设于弧阴极一侧，且用于与磁控电源负极连接；辅助阳极，相间隔地设于磁控阴极背离弧阴极的一侧，且与弧阴极之间能够形成电势差。该复合阴极、磁控溅射镀膜设备及镀膜方法能够大大提高磁控阴极表面气体的离化率，进而提高磁控溅射镀膜的沉积速率和溅射材料离化率。相比于传统高功率脉冲磁控溅射工艺，本发明无需使用价格高昂的HIPIMS高功率脉冲溅射电源，成本更低，成膜速率更快。相比于传统阴极电弧离子镀，本发明形成的薄膜大颗粒溶滴少，表面质量更好。
复合阴极磁控溅射镀膜设备方法

[发明专利]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201810019624.6在审
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本发明提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
一种汽车窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置

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