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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]在颗粒上包覆金刚石样碳的方法与设备-CN98811433.X无效
发明人： M·M·戴维 -专利权人：美国3M公司
申请日： 1998-10-07 - 公布日： 2003-05-28 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：所述方法包括在真空射频电源电容耦合反应器系统内令众多颗粒与碳等离子体接触，在所述系统内，在电极周围形成离子鞘，搅拌颗粒的方式使它们的表面与等离子体内的反应性物质接触，同时颗粒基本上处于离子鞘内。本发明的优点在于(i)以高沉积率在颗粒上有效沉积DLC，(ii)沉积致密的DLC覆层；(iii)能够在DLC沉积前用含氧和含氩等离子体通过离子轰击原位进行颗粒的表面清洁；和(iv)能够在包覆过程中通过调整覆层的组成和离子轰击的密度改变覆层的整体和表面性能
颗粒上包覆金刚石方法设备

[发明专利]含轰击杆结构的电阻蒸发镀膜机-CN201110160223.0无效
发明人：胡永强;张婷 -专利权人：胡永强
申请日： 2011-06-14 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明公开了含轰击杆结构的电阻蒸发镀膜机，包括镀膜机的机体，机体内设有工件架底座，工件架底座上设有蒸发电极杆支架，蒸发电极杆支架之间连接有蒸发电极杆，机体内设有至少一根离子轰击杆，离子轰击杆与蒸发电极杆之间平行本发明可以有效去除工件表面的杂质，起到清洁作用，保证产品的亮度；且轰击后可以增加镀层的附着力，使镀层更加牢固；同时过滤器后可以有效过滤油气，避免对工件造成污染，从而使产品更加完美，透亮，且过滤器方便拆装
轰击结构电阻蒸发镀膜

[发明专利]真空镀膜用离子轰击板机构-CN201210067552.5无效
发明人：朱殿荣;曹俊 -专利权人：无锡康力电子有限公司
申请日： 2012-03-14 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H01J37/305 文献下载
摘要：一种真空镀膜用离子轰击板机构，它包括电源、与电源阴极相连的充气管（1）、与电源阳极相连的冷却水管（2）和绝缘件（7），所述的冷却水管（2）与充气管（1）相对设置，待轰击基材（8）从冷却水管（2）和充气管（1）间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管（1）的一端为进气口（3），充气管（1）上与待轰击基材（8）相对的一面设有若干个出气口（4），所述的充气管（1）和冷却水管（2）的两端夹装绝缘件（7）。
真空镀膜离子轰击板机

[实用新型]真空镀膜用离子轰击板机构-CN201220096743.X有效
发明人：朱殿荣;曹俊 -专利权人：无锡康力电子有限公司
申请日： 2012-03-14 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种真空镀膜用离子轰击板机构，它包括电源、与电源阴极相连的充气管（1）、与电源阳极相连的冷却水管（2）和绝缘件（7），所述的冷却水管（2）与充气管（1）相对设置，待轰击基材（8）从冷却水管（2）和充气管（1）间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管（1）的一端为进气口（3），充气管（1）上与待轰击基材（8）相对的一面设有若干个出气口（4），所述的充气管（1）和冷却水管（2）的两端夹装绝缘件（7）。
真空镀膜离子轰击板机

[实用新型]一种铁合金矿热炉烟气治理一体化系统-CN201921919067.X有效
发明人：何荣华;吴伟成;李坤;朱达全 -专利权人：四川鸿源环保科技有限公司
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： F27D17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种铁合金矿热炉烟气治理一体化系统，包括依次连接的烟气冷却装置、高效预处理装置、除尘器装置、高能离子轰击装置、烟气洗涤装置和烟气脱白加热排出装置，其中铁合金矿热炉烟气经烟气冷却装置冷却，冷却后通过高效预处理装置进行预处理，预处理后的烟气进入除尘器装置进行除尘，除尘后的烟气进入高能离子轰击进行轰击，轰击后的烟气进入烟气洗涤装置，洗涤完成的烟气进入烟气脱白加热排出装置，最终通过烟气脱白加热排出装置排出
一种铁合金矿热炉烟气治理一体化系统

[实用新型]含轰击杆结构的电阻蒸发镀膜机-CN201120200601.9无效
发明人：胡永强;张婷 -专利权人：胡永强
申请日： 2011-06-14 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了含轰击杆结构的电阻蒸发镀膜机，包括镀膜机的机体，机体内设有工件架底座，工件架底座上设有蒸发电极杆支架，蒸发电极杆支架之间连接有蒸发电极杆，机体内设有至少一根离子轰击杆，离子轰击杆与蒸发电极杆之间平行本实用新型可以有效去除工件表面的杂质，起到清洁作用，保证产品的亮度；且轰击后可以增加镀层的附着力，使镀层更加牢固；同时过滤器后可以有效过滤油气，避免对工件造成污染，从而使产品更加完美，透亮，且过滤器方便拆装
轰击结构电阻蒸发镀膜

[实用新型]一种水产生物离子轰击诱变机-CN200920137027.X有效
发明人：郭明忠;钟建兴;杨火盛;郑养福;黄培民;林燕;温凭 -专利权人：福建省水产研究所
申请日： 2009-03-05 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： A01K61/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水产生物离子轰击诱变机，它包括一轰击箱及一机身。该轰击箱，它设有间隔的二连接端。该机身，它内设有一用以输出直流高压信号的电路单元，该电路单元具有能够输出直流高压信号的输出端，该输出端具有二电极，该二电极分别导电连接轰击箱的二连接端。由于该二电极分别导电连接轰击箱的二连接端，使得该轰击箱之内产生高速离子束，因此轰击诱变机能对水生动物进行过离子束诱变实验，通过低能离子诱变技术方法对水生动物的锦鲤进行诱变实验，能从中选育出新、奇、特的变异锦鲤鱼新品种
一种水产生物离子轰击诱变

[发明专利]一种离子注入增强多层薄膜硅化物方法-CN202210028297.7在审
发明人：洪学天;王尧林;林和;黄宏嘉;牛崇实;赵大国 -专利权人：弘大芯源（深圳）半导体有限公司
申请日： 2022-01-11 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L21/3205 文献下载
摘要：本发明提出了一种离子注入增强多层薄膜硅化物方法。所述离子注入增强多层薄膜硅化物方法是穿过半导体硅衬底上已沉积形成的单层或多层金属薄膜，对所述单层或多层金属薄膜进行氩离子轰击，从而穿过所述单层或多层金属薄膜在欧姆接触区表面上形成硅化物层。具体包括：步骤1、在晶向为100的硅晶片上形成半导体器件区域；步骤2、在所述半导体器件区域的半导体硅衬底上形成单层或多层金属膜；步骤3、穿过所述单层或多层金属膜对所述硅晶片衬底进行氩离子轰击，在欧姆接触区表面上形成硅化物层
一种离子注入增强多层薄膜硅化物方法

[发明专利]一种阵列基板的制作方法及其制作设备-CN201710757117.8有效
发明人：何怀亮 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板的制作方法及其制作设备，所述制作方法包括：在基板上形成主动开关；在所述主动开关上形成透明电极层；在所述透明电极层上形成像素层；所述在基板上形成主动开关的方法包括：在基板上形成金属层；采用氢离子轰击所述金属层；在所述金属层上形成保护层，在设置保护层之前采用氢离子轰击金属层，能够有效的解决金属层表面氧化的问题，利用氢离子的氧化还原反应将金属氧化物还原成金属，同时能够有效解决金属层制程到保护层制程之间的等待时间过短的问题
一种阵列制作方法及其制作设备

[发明专利]用于制造基板的方法、基板、用于制造有机电致发光器件的方法和有机电致发光器件-CN201480074281.3在审
发明人：刘敏相;任友彬;金邰洙 -专利权人：娜我比可隆股份有限公司
申请日： 2014-11-19 - 公布日： 2016-09-14 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：基板11涂覆有聚合物以形成聚合物层12；等离子体引起的离子轰击应力施加在聚合物层12上以形成具有多个波纹部分的波纹层13；并且第一电极、有机发光层和第二电极依次形成在上面形成有波纹层的基板上，从而制造有机电致发光器件此外，金属层23可以额外地形成在聚合物层上，可以同时施加离子轰击应力和热应力以形成波纹部分，并且然后可以去除金属层。
用于制造方法基板有机电致发光器件

[实用新型]一种新型增强AR增透膜的冷镀装置-CN201920792683.7有效
发明人：芦亚东;朱小龙;孙志强;黄龙 -专利权人：南阳英锐光电科技股份有限公司
申请日： 2019-05-29 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：所述的真空罩的下部开设有抽真空口，抽真空口处设置有抽真空机构，所述的真空罩内上方设置有用于放置待镀膜基片的基片固定架，真空罩底部基片固定架的下方设置有多个盛放AR膜料的AR坩埚和对应坩埚放置的电子枪，真空罩内还设置有高压离子轰击棒该装置在120度低温环境下通过高压离子轰击棒进行轰击膜料分子进行镀膜，增加了膜层与基片的牢固度。
一种新型增强 ar 增透膜装置

[发明专利]基于离子轰击技术的亚波长表面纳米结构及其制备方法-CN202010063145.1在审
发明人：刘颖;杨高元;蔡茂琦;洪义麟 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2020-01-19 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种基于离子轰击技术的亚波长表面纳米结构及其制备方法，该制备方法包括：在一基底上涂覆光刻胶，经固化得到光刻胶薄膜样品；对所述光刻胶薄膜样品进行离子束轰击，在光刻胶表面形成亚波长纳米结构；刻蚀去除所述亚波长纳米结构底层的剩余光刻胶本发明利用离子轰击技术在固体表面诱导产生自组织纳米结构的原理并结合掩模刻蚀方法，可在多种材料表面制备亚波长表面纳米结构，具有特征尺寸小、工艺简单、加工效率高的优势。
基于离子轰击技术波长表面纳米结构及其制备方法

[发明专利]一种陶瓷覆铝基板的制备方法及其制备的陶瓷覆铝基板-CN202310799689.8在审
发明人：唐冬梅;窦正旭;王斌;贺磊 -专利权人：江苏富乐华功率半导体研究院有限公司
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C04B37/02 文献下载
摘要：涉及半导体领域，旨在解决陶瓷覆铝基板制备复杂的问题，其技术方案要点是：步骤一：采用CAPD工艺，在真空炉内将靶材和铝箔作为双阴极，在铝箔上施加偏压，挡板将靶材遮挡，接通电源后产生辉光放电，使氩气电离成等离子状态，轰击铝箔，铝箔的氧化层在氩离子轰击下发生破碎去除；将挡板移除，以钛靶作为阴极，氩离子轰击靶材溅射出的钛沉积至铝箔表面形成钛层；步骤二：将铝箔沉积钛活性金属层的一面与陶瓷表面贴合叠片，加压烧结，使陶瓷与铝箔焊接
一种陶瓷覆铝基板制备方法及其

[发明专利]以耐离子轰击配置的电子发射结构-CN201480064904.9有效
发明人：监物秀宪;桝谷均;饭田耕一 -专利权人：纳欧克斯影像有限公司
申请日： 2014-11-26 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： H01J35/02 文献下载
摘要：公开了一种X射线发射器装置的电子发射结构设计，其被配置成便于X射线频谱下的辐射，并且还涉及防止冷阴极因高电压施加下的离子轰击而损坏。通过该发射结构发射的电子束被聚焦，并且被朝着电子阳极靶的电场加速，该电子阳极靶能够操作以将电子束吸引至关联焦斑，其中，所生成的离子沿着与和该电子阳极靶的表面并行的电场垂直的迹线加速。更具体地说，本发明涉及借助于设置被发射器区包围或者设置在发射器区之间的非发射器区，来实现一种鲁棒的冷阴极，以避免高电压施加下的粒子轰击损坏。该系统还被配置成提供校准靶阳极或阶状靶阳极，以进一步减少离子轰击损坏。
离子轰击配置电子发射结构

[实用新型]离子氮化加工处理用均温装置-CN202220191965.3有效
发明人：毛守聪;张孟斋;石海彬 -专利权人：安阳弘森机械有限公司
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：离子氮化加工处理用均温装置，涉及离子氮化加工技术领域，包括炉体，炉体的外侧壁包裹有保温层，保温层的外侧包裹有隔热层，炉体的内部设置有离子氮化反应箱，离子氮化反应箱的内壁开有卡接槽，卡接槽内卡接有加热丝，炉体的底面转动连接有转动轴，本实用新型可使离子氮化的升温方式由传统的离子轰击升温，改变为离子轰击升温和电能加热升温，从而有效提高了离子氮化的升温效率，且通过驱动机构，可使待离子氮化的工件在离子氮化反应箱转动，使受热更均匀，并且可与离子气氛充分接触；通过保温层与炉体的侧壁构成双层结构，防止炉体内热量外泄，能有效的实现了对炉体使用后的余热进行隔离和储存，减慢了炉体内部余热散失的速度。
离子氮化加工处理用均温装置

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